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公开(公告)号：CN114967355A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202110624149.7
申请日：2021-06-04
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种微影装置及用于微影装置的液滴产生器的保养方法，微影装置包含液滴产生器、液滴产生器维护系统、以及与液滴产生器维护系统连通的控制器。液滴产生器维护系统与液滴产生器、冷却剂配送单元、气体供应单元、以及支撑构件可操作地连通。气体供应单元包含热交换组件与空气加热组件。冷却剂配送单元配置以将液滴产生器的温度控制在可接受的液滴产生器范围内。
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公开(公告)号：CN115047718A
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202210203606.X
申请日：2022-03-03
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种极紫外辐射源与半导体制程方法，本文中的一些实施包括侦测电路及快速且准确的联线方法，用于侦测极紫外曝光工具的液滴产生器头上的阻塞，而不影响经由液滴产生器头的靶材液滴的流动。在本文描述的一些实施中，侦测电路包括以开路组态组态的开关电路，其中开关在两个电极元件之间电断开。当靶材在液滴产生器头上的两个或两个以上电极元件之间发生聚积时，该聚积用作将侦测电路闭路的开关。控制器可侦测侦测电路的闭路。
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公开(公告)号：CN114911137A
公开(公告)日：2022-08-16
申请号：CN202110690854.7
申请日：2021-06-22
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种极紫外微影系统及其操作的方法，操作极紫外微影系统的方法使用激光照射液滴而产生极紫外光。极紫外微影系统包括具有喷嘴的液滴产生器以及耦合至喷嘴的压电结构。液滴产生器输出液滴组。控制系统施加电压波形至压电结构，同时喷嘴输出液滴组。此电压波形使液滴组的液滴具有速度分布，导致液滴组的液滴在被激光照射之前聚结成一个液滴。
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公开(公告)号：CN115529707A
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN202210102013.4
申请日：2022-01-27
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 一种极端紫外线辐射源、靶液滴源以及其产生激光电浆的方法，用于极端紫外线源的靶液滴源包括液滴产生器，该液滴产生器用以产生给定材料的靶液滴。液滴产生器包括用以在由腔室封闭的空间中供应靶液滴的喷嘴。在一些实施例中，喷嘴管布置在液滴产生器的喷嘴内，且喷嘴管包括用以向靶液滴提供角动量的结构化喷嘴图案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115524935A
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN202210612169.7
申请日：2022-05-31
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种半导体制造系统及其检测极紫外辐射源的方法，在检测极紫外(EUV)辐射源的方法中，在空闲模式期间，安装在固定装置上的管道镜通过第一开口插入EUV辐射源的腔室中。管道镜包含在第一端处附接至照相机的连接电缆。固定装置包含自第一侧安装在导螺杆上的可延伸区部，且管道镜的照相机安装在可延伸区部的与第一侧相对的第二侧上。使可延伸区部延伸以将照相机移动至EUV辐射源的腔室内部。一个或多个影像由照相机在一个或多个查看位置处自EUV辐射源的腔室内部获取。分析一个或多个获取的影像以确定沉积在EUV辐射源的腔室内部的锡碎屑量。
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公开(公告)号：CN115524934A
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN202210399898.9
申请日：2022-04-15
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种操作极紫外光微影系统的方法，微影系统利用锡滴产生用于微影的极紫外辐射。微影系统用激光照射液滴。液滴经激励且发出极紫外辐射。收集器将极紫外辐射反射至微影靶。微影系统将液滴源与氧化剂隔离以防止喷嘴氧化或在喷嘴上形成金属氧化物，这两者皆会不利地影响喷嘴产生足够量的液滴及/或将液滴引导至所需方向的能力。
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公开(公告)号：CN114975088A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210100725.2
申请日：2022-01-27
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 一种晶圆台的操作方法，包含将晶圆台移动到微影腔室的桌体上的第一站；将晶圆放置在晶圆台的顶面上；从第一激光发射器向晶圆台的第一侧壁上的第一分光镜发射第一激光，其中第一激光的第一部分被第一分光镜反射以形成第一反射激光，而第一激光的第二部分穿过第一分光镜以形成第一穿透激光；根据第一反射激光计算晶圆台在第一轴上的位置；在计算出晶圆台的位置后，将晶圆台移动到桌体上的第二站；以及当晶圆台位于第二站时，对晶圆进行微影制程。
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公开(公告)号：CN114815515A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210210215.0
申请日：2022-03-04
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本公开实施例提供一种半导体基板台。半导体基板台用于承载基板，半导体基板台包括基层、磁屏蔽层、承载层以及接收器。磁屏蔽层设置于基层上。承载层设置于磁屏蔽层上。接收器设置于承载层上。接收器是配置以接收来自与接收器电性隔离的信号源的微波信号，并且微波信号是用于控制半导体基板台的移动。
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公开(公告)号：CN114815513A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210054147.3
申请日：2022-01-18
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 提供了一种辐射源设备及其使用方法。方法包括：将第一液滴产生器组装到容器的接口上；将靶液滴从第一液滴产生器喷射到在收集器前方的激发区域；朝向激发区域发射激光，使得靶液滴由激光加热以产生极紫外(EUV)辐射；停止喷射靶液滴；在停止喷射靶液滴之后，从容器的接口拆卸第一液滴产生器；在从容器的接口拆卸第一液滴产生器之后，将清洗装置穿过接口插入容器中；以及通过使用清洗装置来清洗收集器。
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