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公开(公告)号：CN102725440A
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN201180007223.5
申请日：2011-03-02
申请人： 应用材料公司
发明人： 艾里克·J·伯格曼 , 杰瑞·达斯廷·伦哈德 , 布赖恩·普奇 , 杰森·赖伊
IPC分类号： C23G1/02
CPC分类号： H01L21/31133 , G03F7/42 , G03F7/423 , H01L21/67115 , H01L21/6719
摘要： 本发明揭露一种制程腔室（20），其系在酸性环境（如硫酸）且选择性配合氧化剂（如过氧化氢），利用直接照射红外线以移除固化之光致抗蚀剂，制程腔室包括一晶片承载单元（26），其系承载并较佳可旋转晶片；一红外线产生组件（126）包括复数红外线灯，其系设置于制程腔室外，并用以发出红外光进入制程腔室，红外线灯所发出之红外光可以实质上照射位于承载单元上之晶片的完整表面；一冷却组件（150），其系用以协助快速冷却红外线产生组件，以避免制程反应过度。因此，本发明可以仅使用少量的化学溶液便能够移除光致抗蚀剂。
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公开(公告)号：CN107210256A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680006249.0
申请日：2016-01-19
申请人： 应用材料公司
发明人： 杰森·赖伊 , 马里奥·大卫·西尔韦蒂 , 兰迪·A·哈里斯 , 布赖恩·普奇 , 文森特·斯蒂芬·弗朗西斯赫特 , 萨蒂什·顺达
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/687 , B08B3/02
摘要： 一种晶片处理系统具有环维护模块，用于将晶片装载至卡盘组件中，并且用于清洁和检查系统的电镀处理器中使用的卡盘组件。轴部附接至转子板。旋转马达使轴部和轴部上的转子板旋转。轴部的上端上的卡盘夹具将卡盘组件保持至转子板上。升降马达升高和降低转子板和轴部，以移动打开卡盘组件来用于晶片装载和卸载，并且移动卡盘组件至不同的处理位置中。可提供具有喷嘴的摆动臂来清洁卡盘组件。
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公开(公告)号：CN112004965A
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN201980027041.0
申请日：2019-04-17
申请人： 应用材料公司
摘要： 用以清洁数个电镀系统部件的系统可包括与一电镀系统合并的一密封件清洁组件。密封件清洁组件可包括一臂，于一第一位置及一第二位置之间为可枢转的。臂可绕着臂的一中心轴为可旋转的。密封件清洁组件可包括一清洁头，耦接于臂的一远侧部。清洁头可包括一托架，具有一面板，面板耦接于臂；及一壳体，从面板延伸。壳体可定义一或多个弓形通道，延伸通过壳体至托架的一前表面。清洁头可亦包括一可旋转的筒，从托架的壳体延伸。筒可包括一固定柱，定义一或多个孔，此一或多个孔经构造以传送一清洁溶液至一垫，垫耦接于固定柱的周围。
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公开(公告)号：CN112004965B
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN201980027041.0
申请日：2019-04-17
申请人： 应用材料公司
摘要： 用以清洁数个电镀系统部件的系统可包括与一电镀系统合并的一密封件清洁组件。密封件清洁组件可包括一臂，于一第一位置及一第二位置之间为可枢转的。臂可绕着臂的一中心轴为可旋转的。密封件清洁组件可包括一清洁头，耦接于臂的一远侧部。清洁头可包括一托架，具有一面板，面板耦接于臂；及一壳体，从面板延伸。壳体可定义一或多个弓形通道，延伸通过壳体至托架的一前表面。清洁头可亦包括一可旋转的筒，从托架的壳体延伸。筒可包括一固定柱，定义一或多个孔，此一或多个孔经构造以传送一清洁溶液至一垫，垫耦接于固定柱的周围。
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公开(公告)号：CN108292092B
公开(公告)日：2021-03-02
申请号：CN201680067323.X
申请日：2016-11-10
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： G03F1/82 , G03F7/20 , H01L21/02 , H01L21/027
摘要： 用于清洁光掩模的设备包括在头部中的转子，其中转子具有包括中心开口的密封板、在中心开口中的弹性掩模密封件、和附接至弹性掩模密封件且适用于移动弹性掩模密封件至开启及关闭位置中的牵拉器。在头部中的马达旋转转子。在头部中的推板移动以操作牵拉器。当在关闭位置中时弹性掩模密封件对光掩模的侧边密封。光掩模的背侧可接着被清洁而不会影响光掩模的图案化的前侧。
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公开(公告)号：CN107210256B
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN201680006249.0
申请日：2016-01-19
申请人： 应用材料公司
发明人： 杰森·赖伊 , 马里奥·大卫·西尔韦蒂 , 兰迪·A·哈里斯 , 布赖恩·普奇 , 文森特·斯蒂芬·弗朗西斯赫特 , 萨蒂什·顺达
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/687 , B08B3/02
摘要： 一种晶片处理系统具有环维护模块，用于将晶片装载至卡盘组件中，并且用于清洁和检查系统的电镀处理器中使用的卡盘组件。轴部附接至转子板。旋转马达使轴部和轴部上的转子板旋转。轴部的上端上的卡盘夹具将卡盘组件保持至转子板上。升降马达升高和降低转子板和轴部，以移动打开卡盘组件来用于晶片装载和卸载，并且移动卡盘组件至不同的处理位置中。可提供具有喷嘴的摆动臂来清洁卡盘组件。
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公开(公告)号：CN108292092A
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：CN201680067323.X
申请日：2016-11-10
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： G03F1/82 , G03F7/20 , H01L21/02 , H01L21/027
摘要： 用于清洁光掩模的设备包括在头部中的转子，其中转子具有包括中心开口的密封板、在中心开口中的弹性掩模密封件、和附接至弹性掩模密封件且适用于移动弹性掩模密封件至开启及关闭位置中的牵拉器。在头部中的马达旋转转子。在头部中的推板移动以操作牵拉器。当在关闭位置中时弹性掩模密封件对光掩模的侧边密封。光掩模的背侧可接着被清洁而不会影响光掩模的图案化的前侧。
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