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公开(公告)号：CN113677952A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202080027552.5
申请日：2020-04-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 傅晋欣 , 王诣斐 , 伊恩·马修·麦克马金 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 卢多维克·戈代 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 摩根·埃文斯
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及测量系统和用于衍射光的方法。该测量系统包括台架、光学臂和一个或多个检测器臂。衍射光的方法包括提供一种衍射光的方法，该方法包括以固定的光束角θ0和最大定向角φmax将具有波长λlaser的光束投射到第一基板的第一区域；获得位移角Δθ；确定目标最大光束角θt‑max，其中θt‑max＝θ0+Δθ，并通过经修改的光栅间距公式Pt‑grating＝λlaser/(sinθt‑max+sinθ0)确定测试光栅间距Pt‑grating。该测量系统和方法允许测量光学元件的区域的非均匀特性，例如光栅间距和光栅取向。
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公开(公告)号：CN112048698B
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202010766473.8
申请日：2017-02-09
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/02 , C23C14/48 , C23C14/56 , H01L21/26 , H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 提供一种用于真空处理基板(10)的方法。所述方法包括：使用设在处理区域(110)中的注入源(130)用粒子来辐照基板(10)或基板(10)上的第一材料层；和在用粒子辐照基板(10)或第一材料层时，使基板(10)沿着运输路径(20)移动而通过处理区域(110)。
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公开(公告)号：CN113196453A
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN201980082070.7
申请日：2019-12-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约瑟夫·C·奥尔森 , 卢多维克·戈代 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 摩根·埃文斯 , 傅晋欣
IPC: H01L21/265 , H01L21/67 , H01L23/538
Abstract: 本公开内容的多个实施方式涉及一种用于在基板上形成装置的系统和方法。例如，一种用于在基板上形成装置的方法可以包括从一个或多个离子束腔室投射一个或多个离子束，以在基板的第一表面上形成一个或多个装置，以及从一个或多个离子束腔室投射一个或多个离子束，以在基板的第二表面上形成一个或多个装置。在这些实施方式中，第一表面和第二表面在基板的相对侧上。因此，离子束可以在基板的两侧上形成装置。
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公开(公告)号：CN113168020A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980081016.0
申请日：2019-12-16
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约瑟夫·C·奥尔森 , 卢多维克·戈代 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 摩根·埃文斯 , 傅晋欣
Abstract: 本公开内容的实施方式大致涉及形成光栅的方法。该方法包括在设置于基板上的光栅材料上沉积抗蚀材料，将该抗蚀材料图案化为抗蚀层，投射第一离子束至第一元件区域以形成第一组多个光栅，及投射第二离子束至第二元件区域以形成第二组多个光栅。利用图案化抗蚀层允许在大区域上投射离子束，此举往往比将离子束聚焦在特定区域中更容易。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117387912B
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202311318201.1
申请日：2020-04-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 傅晋欣 , 王诣斐 , 伊恩·马修·麦克马金 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 卢多维克·戈代 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 摩根·埃文斯
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及测量系统和用于衍射光的方法。该测量系统包括台架、光学臂和一个或多个检测器臂。衍射光的方法包括提供一种衍射光的方法，该方法包括以固定的光束角θ0和最大定向角φmax将具有波长λlaser的光束投射到第一基板的第一区域；获得位移角Δθ；确定目标最大光束角θt‑max，其中θt‑max＝θ0+Δθ，并通过经修改的光栅间距公式Pt‑grating＝λlaser/(sinθt‑max+sinθ0)确定测试光栅间距Pt‑grating。该测量系统和方法允许测量光学元件的区域的非均匀特性，例如光栅间距和光栅取向。
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公开(公告)号：CN116859498A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202310663324.2
申请日：2019-04-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 罗格•梅耶•蒂默曼•蒂杰森 , 摩根·埃文斯 , 约瑟夫·C·奥尔森
IPC: G02B5/18 , H01J37/305 , H01J37/302 , H01J37/20 , H01L21/3065 , H01L21/311 , H01L21/3213 , H01L21/67
Abstract: 本文描述的具体实施方式，涉及在基板上形成具有不同倾斜角的光栅的方法，以及使用角度蚀刻系统在循序基板上形成具有不同倾斜角的光栅的方法。方法包括将保持在平台上的基板的部分定位在离子束的路径中。基板上设置有光栅材料。离子束经配置以相对于基板的表面法线的离子束角θ接触光栅材料，并在光栅材料中形成光栅。基板围绕平台的轴线旋转，以在离子束与光栅的表面法线之间产生旋转角φ。光栅相对于基板的表面法线具有倾斜角θ。由方程式φ＝cos‑1(tan(θ')/tan(θ))选出旋转角φ。
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公开(公告)号：CN115152001A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202180016019.3
申请日：2021-01-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 摩根·埃文斯 , 莫里斯·爱默生·佩普洛斯基 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 托马斯·詹姆斯·索尔迪
IPC: H01J37/305 , H01J37/08 , G02B5/18
Abstract: 提供了一种方法。该方法包含：将设置在第一基板上的第一平面上的第一材料暴露至离子束，以在第一材料中形成第一多个结构，离子束以相对于第一基板的表面法线的离子束角θ引导至第一材料。第一基板被定位于离子束与第一多个结构的第一向量之间的第一旋转角φ1处，第一材料沿着第一方向递增地暴露至离子束，且第一材料对离子束的暴露沿着第一方向变化，以在第一方向中在第一多个结构之间产生深度变化。
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公开(公告)号：CN113242989A
公开(公告)日：2021-08-10
申请号：CN201980083897.X
申请日：2019-12-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 卢多维克·戈代 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
Abstract: 本公开内容的方面涉及用于制造波导的装置。在一个实例中，利用成角度的离子源来朝向基板投射离子以形成包括成角度的光栅的波导。在另一个实例中，利用成角度的电子束源来朝向基板投射电子以形成包括成角度的光栅的波导。本公开内容的另外的方面提供了用于利用成角度的离子束源和成角度的电子束源来在波导上形成成角度的光栅的方法。
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公开(公告)号：CN113196442A
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN201980083747.9
申请日：2019-12-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 卢多维克·戈代 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
IPC: H01J37/305 , H01J37/08 , H01J37/30
Abstract: 本公开内容的方面涉及用于制造波导的装置。在一个实例中，利用成角度的离子源来朝向基板投射离子以形成包括成角度的光栅的波导。在另一个实例中，利用成角度的电子束源来朝向基板投射电子以形成包括成角度的光栅的波导。本公开内容的另外的方面提供了用于利用成角度的离子束源和成角度的电子束源来在波导上形成成角度的光栅的方法。
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