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公开(公告)号：CN103890949B
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201280052516.X
申请日：2012-08-24
Applicant: 新加坡恒立私人有限公司
IPC: H01L27/146
CPC classification number: G02B13/0085 , B23K26/361 , G01J1/42 , H01L27/14618 , H01L27/14625 , H01L27/14683 , H01L2924/0002 , Y10T29/49748 , Y10T83/04 , H01L2924/00
Abstract: 器件（50）包括光学构件（60）和隔离构件（70），所述光学构件包括N≥2组无源光学部件（65），每组无源光学部件（65）包括一个或多个无源光学部件。隔离构件（70）包括N个光通道（77），所述N个光通道中的每一个与所述N组无源光学部件中的一组相关联。所述N个光通道（77）的全部都具有至少基本上相同的几何长度（g），并且所述N个光通道中的第一个的光路长度不同于所述N个光通道中的至少一个第二个的光路长度。还描述了用于制造此类器件的方法。本发明能够允许以高产率来批量生产高精度器件（50）。
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公开(公告)号：CN103858230B
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201280049588.9
申请日：2012-08-02
Applicant: 新加坡恒立私人有限公司
IPC: H01L25/16 , H01L27/146
CPC classification number: H01L33/486 , H01L25/167 , H01L27/14618 , H01L27/14625 , H01L27/14683 , H01L27/14685 , H01L31/02327 , H01L33/58 , H01L33/62 , H01L2224/16 , H01L2224/48091 , H01L2224/73265 , H01L2924/12044 , H01L2933/0033 , H01L2933/0058 , H01L2933/0066 , H01L2924/00014 , H01L2924/00
Abstract: 提出了一种用于制造设备（1）的方法。该设备包括至少一个光电子模块（1），并且该方法包括创建包括衬底晶片（PW）和光学晶片（OW）的晶片堆（2）；其中，大量有源光学部件（E）被安装在衬底晶片（PW）上，并且光学晶片（OW）包括大量无源光学部件（L）。光电子模块（1）中的每个包括有源光学部件（E）中的至少一个和无源光学部件（L）中的至少一个。光学晶片（OW）能够包括称为阻挡部分的对于至少特定波长范围而言至少基本上不透明的至少一个部分和称为透明部分的对于至少所述特定波长范围而言至少基本上不透明的至少一个其它部分。所述光电子模块包括衬底构件；光学构件；安装在所述衬底构件上的至少一个有源光学部件；以及包括在所述光学构件中的至少一个无源光学部件。所述光学构件（OW）被直接地或间接地固定于所述衬底构件（PW）。所述光电子模块（1）能够在尺寸方面小且具有高对准准确度的同时具有优良的可制造性。
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公开(公告)号：CN103890948B
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201280052514.0
申请日：2012-08-24
Applicant: 新加坡恒立私人有限公司
IPC: H01L27/146
CPC classification number: G02B13/0085 , B23K26/361 , G01J1/42 , H01L27/14618 , H01L27/14625 , H01L27/14683 , H01L2924/0002 , Y10T29/49748 , Y10T83/04 , H01L2924/00
Abstract: 晶片堆（100）包括被称为光学晶片的第一晶片（OW1）和被称为隔离晶片的第二晶片（SW），所述光学晶片（OW1）具有制造不规则性。隔离晶片（SW）被结构化成使得其至少部分地补偿所述制造不规则性。用于制造器件（其特别地能够是光学器件）的相应方法包括执行校正步骤以便至少部分地补偿制造不规则性。这样的校正步骤包括提供被称为隔离晶片的晶片（SW），其中，该隔离晶片被结构化以便至少部分地补偿所述制造不规则性。那些制造不规则性可包括与标称值的偏差，例如焦距的不规则性。本发明能够允许以高产率来批量生产高精度器件。
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