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公开(公告)号：CN105431780B
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201480042668.0
申请日：2014-08-01
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G03F7/11 , C08G59/42 , H01L21/027
Abstract: 本发明的课题是提供能够获得良好抗蚀剂形状的焦点位置具有广范围的抗蚀剂下层膜。本发明的解决方法是一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含通过含二环氧基的化合物(A)与含二羧基的化合物(B)的反应而获得的直链状聚合物。该直链状聚合物具有来源于该含二环氧基的化合物(A)或该含二羧基的化合物(B)的由下述(1)、(2)和(3)表示的结构。优选包含通过分别具有式(1)和式(2)的结构的2种含二环氧基的化合物(A)与具有式(3)的结构的含二羧基的化合物(B)的反应而获得的聚合物、或者包含通过具有式(1)的结构的含二环氧基的化合物(A)与分别具有式(2)和式(3)的结构的2种含二羧基的化合物(B)的反应而获得的聚合物。
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公开(公告)号：CN105431780A
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201480042668.0
申请日：2014-08-01
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G03F7/11 , C08G59/42 , H01L21/027
Abstract: 本发明的课题是提供能够获得良好抗蚀剂形状的焦点位置具有广范围的抗蚀剂下层膜。本发明的解决方法是一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含通过含二环氧基的化合物(A)与含二羧基的化合物(B)的反应而获得的直链状聚合物。该直链状聚合物具有来源于该含二环氧基的化合物(A)或该含二羧基的化合物(B)的由下述(1)、(2)和(3)表示的结构。优选包含通过分别具有式(1)和式(2)的结构的2种含二环氧基的化合物(A)与具有式(3)的结构的含二羧基的化合物(B)的反应而获得的聚合物、或者包含通过具有式(1)的结构的含二环氧基的化合物(A)与分别具有式(2)和式(3)的结构的2种含二羧基的化合物(B)的反应而获得的聚合物。
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公开(公告)号：CN103975038A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201280059789.7
申请日：2012-11-12
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C09K3/16 , C07C209/10 , C07C211/54 , G03F7/11 , C07B61/00
CPC classification number: C07C211/54 , C08G73/0266 , C08L79/02 , C09D179/02 , G03F1/00 , G03F7/093 , G03F7/11 , H01B1/128
Abstract: 本发明的课题是提供一种对抗蚀剂表面的涂布性优异，用于形成可以防止抗蚀剂膜带电的抗静电膜的组合物。作为解决本发明课题的方法涉及一种形成抗静电膜的组合物，其含有下述式(1A)所示的低聚物化合物和水。(1)(式中，R1表示氢原子或下述式(2)所示的基团，R2和R3各自独立地表示氢原子或者下述式(3)或式(4)所示的基团，多个R中的至少一个表示磺基，a和b表示满足2≤(a+b)≤6的正整数，多个x各自独立地表示0～4的整数。)(2)(3)(4)(式中，n表示满足1≤n＜(a+b+4)的整数，a、b、R和x与上述式(1A)中的含义相同，多个y各自独立地表示0～5的整数。)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105940348B
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201580006193.4
申请日：2015-01-30
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G03F7/11 , C08L33/04 , C08L101/00 , C08L101/04
Abstract: 本发明提供一种在被膜的周边部产生的边缘凸起得以减少的被膜及其形成方法，所述边缘凸起导致产生即使通过蚀刻工序也不会被除去的不需要的残渣。本发明提供一种用于光刻工序的膜形成用组合物，所述膜形成用组合物包含表面活性剂，所述表面活性剂包含具有碳原子数3～5的全氟烷基部分结构的聚合物和低聚物。全氟烷基部分结构的碳原子数优选为4。上述全氟烷基部分结构可进一步包含烷基部分结构，上述聚合物及低聚物优选为(甲基)丙烯酸酯聚合物及低聚物。上述表面活性剂的含量为膜形成用组合物的全部固态成分的0.0001～1.5质量％。膜形成用组合物还包含涂膜树脂，该树脂为酚醛清漆树脂、缩合环氧系树脂、(甲基)丙烯酸树脂、聚醚系树脂或含硅树脂等。所形成的膜可作为抗蚀剂下层膜或抗蚀剂上层膜使用。
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公开(公告)号：CN103975038B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201280059789.7
申请日：2012-11-12
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C09K3/16 , C07C209/10 , C07C211/54 , G03F7/11 , C07B61/00
CPC classification number: C07C211/54 , C08G73/0266 , C08L79/02 , C09D179/02 , G03F1/00 , G03F7/093 , G03F7/11 , H01B1/128
Abstract: 本发明的课题是提供一种对抗蚀剂表面的涂布性优异，用于形成可以防止抗蚀剂膜带电的抗静电膜的组合物。作为解决本发明课题的方法涉及一种形成抗静电膜的组合物，其含有下述式(1A)所示的低聚物化合物和水。(1)(式中，R1表示氢原子或下述式(2)所示的基团，R2和R3各自独立地表示氢原子或者下述式(3)或式(4)所示的基团，多个R中的至少一个表示磺基，a和b表示满足2≤(a+b)≤6的正整数，多个x各自独立地表示0～4的整数。)(2)(3)(4)(式中，n表示满足1≤n＜(a+b+4)的整数，a、b、R和x与上述式(1A)中的含义相同，多个y各自独立地表示0～5的整数。)。
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公开(公告)号：CN106716694B
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201580047979.0
申请日：2015-09-04
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: H01M4/62 , H01M4/13 , H01M4/131 , H01M4/133 , H01M4/139 , H01M4/1391 , H01M4/1393
Abstract: 本发明的课题在于，提供一种粘合剂、包含该粘合剂的电极形成材料和使用该电极形成材料的电极的形成方法，在利用该粘合剂将电极活性物质和导电助剂被覆在集电体上时，被覆在集电体上的电极中的活性物质变为高密度，且与集电体的密合性优异。本发明的解决方法是一种电极形成材料，用于被覆在集电体上，该电极形成材料包含电极活性物质和粘合剂，该粘合剂包含：含有羧基的多糖类、含有羧基的多糖类与环氧化合物的反应生成物、或它们的组合，而且，含有该粘合剂3质量％的水性溶液在25℃下的粘度在20～1500mPa·s的范围。含有羧基的多糖类优选为羧甲基纤维素、藻酸、或其盐。作为电极活性物质，可以使用锂钴复合氧化物、或石墨。作为导电助剂，可以使用碳原料。
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公开(公告)号：CN106716694A
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201580047979.0
申请日：2015-09-04
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: H01M4/62 , H01M4/13 , H01M4/131 , H01M4/133 , H01M4/139 , H01M4/1391 , H01M4/1393
Abstract: 本发明的课题在于，提供一种粘合剂、包含该粘合剂的电极形成材料和使用该电极形成材料的电极的形成方法，在利用该粘合剂将电极活性物质和导电助剂被覆在集电体上时，被覆在集电体上的电极中的活性物质变为高密度，且与集电体的密合性优异。本发明的解决方法是一种电极形成材料，用于被覆在集电体上，该电极形成材料包含电极活性物质和粘合剂，该粘合剂包含：含有羧基的多糖类、含有羧基的多糖类与环氧化合物的反应生成物、或它们的组合，而且，含有该粘合剂3质量％的水性溶液在25℃下的粘度在20～1500mPa·s的范围。含有羧基的多糖类优选为羧甲基纤维素、藻酸、或其盐。作为电极活性物质，可以使用锂钴复合氧化物、或石墨。作为导电助剂，可以使用碳原料。
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公开(公告)号：CN105940348A
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201580006193.4
申请日：2015-01-30
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G03F7/11 , C08L33/04 , C08L101/00 , C08L101/04
Abstract: 本发明提供一种在被膜的周边部产生的边缘凸起得以减少的被膜及其形成方法，所述边缘凸起导致产生即使通过蚀刻工序也不会被除去的不需要的残渣。本发明提供一种用于光刻工序的膜形成用组合物，所述膜形成用组合物包含表面活性剂，所述表面活性剂包含具有碳原子数3～5的全氟烷基部分结构的聚合物和低聚物。全氟烷基部分结构的碳原子数优选为4。上述全氟烷基部分结构可进一步包含烷基部分结构，上述聚合物及低聚物优选为(甲基)丙烯酸酯聚合物及低聚物。上述表面活性剂的含量为膜形成用组合物的全部固态成分的0.0001～1.5质量％。膜形成用组合物还包含涂膜树脂，该树脂为酚醛清漆树脂、缩合环氧系树脂、(甲基)丙烯酸树脂、聚醚系树脂或含硅树脂等。所形成的膜可作为抗蚀剂下层膜或抗蚀剂上层膜使用。
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