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公开(公告)号：CN115802879A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202211537351.7
申请日：2022-12-02
申请人： 昆明贵金属研究所 , 贵研铂业股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种快速低功耗Ru‑Sb‑Te相变存储材料及其制备方法、存储单元。本发明所提供的Ru‑Sb‑Te相变材料可以通过调节元素的含量和薄膜的厚度得到不同结晶温度、电阻率和结晶激活能的存储材料，该Ru‑Sb‑Te相变材料可调性非常强，有利于优化相变材料各方面性能；且该相变材料具有较好的数据保持力，将其应用于相变存储器中器件单元具有极快的操作速度和较好的循环次数，本申请实施例所提供的Ru‑Sb‑Te相变材料，与传统Ge2Sb2Te5相比，具有更高的热稳定性，更强的数据保持力，更快的结晶速度。
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公开(公告)号：CN107723656A
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：CN201710776679.7
申请日：2017-08-31
申请人： 昆明贵金属研究所
摘要： 本发明公开了一种含Au纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法，为工业纯Ti表面上含Au纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法。该方法主要包括工业纯Ti的再结晶退火、表面机械研磨处理、磁控共溅射、硝酸选择性溶解、热氧化。本发明通过具有良好润滑和韧性的Au纳米粒子和高硬度的TiO2的结合获得具有高韧性和高硬度的耐磨表层，同时通过设计并获得的梯度涂层有效改善涂层与金属基体之间界面应力、提高了涂层与基体的结合，从而使工业纯Ti的摩擦磨损性能得到明显提高。
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公开(公告)号：CN111519133A
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN202010426865.X
申请日：2020-05-19
申请人： 昆明贵金属研究所
摘要： 本发明公开了一种具有良好结合性抗氧化涂层的Ti材料，其特征在于所述Ti材料基材上覆盖有一层与基材具有良好结合性的抗氧化Ti‑Ru合金涂层，所述Ti‑Ru合金涂层中Ru之含量为5~40wt%，涂层厚度为1~20μm；所述的制备方法包括基材前处理、基材清洗、靶材清洗，涂层溅射成形工序，获得所需具有Ti‑Ru合金涂层的Ti材料。本发明具有Ti‑Ru合金涂层的Ti材料，在升温过程中，由于涂层抗氧化且未生成氧化物，因此具有良好的冶金结合和较小的界面应力，增强了Ti材料整体的抗氧化性能。本发明方法可广泛用于金属材料表面功能涂层的制备，以获得表层性能优异的金属材料。
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公开(公告)号：CN107779814B
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：CN201710776785.5
申请日：2017-08-31
申请人： 昆明贵金属研究所
摘要： 本发明公开了一种含Ag纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法，为Ti材料表面上含Ag纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法。该方法主要包括Ti材料的再结晶退火、表面机械研磨处理、磁控共溅射、热氧化。本发明通过具有良好润滑和韧性的Ag纳米粒子和高硬度的TiO2的结合获得具有高韧性和高硬度的耐磨表层，同时通过设计并获得的梯度涂层有效改善涂层与金属基体之间界面应力、提高了涂层与基体的结合，从而使Ti材料的摩擦磨损性能得到明显提高。
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公开(公告)号：CN111519133B
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN202010426865.X
申请日：2020-05-19
申请人： 昆明贵金属研究所
摘要： 本发明公开了一种具有良好结合性抗氧化涂层的Ti材料，其特征在于所述Ti材料基材上覆盖有一层与基材具有良好结合性的抗氧化Ti‑Ru合金涂层，所述Ti‑Ru合金涂层中Ru之含量为5~40wt%，涂层厚度为1~20μm；所述的制备方法包括基材前处理、基材清洗、靶材清洗，涂层溅射成形工序，获得所需具有Ti‑Ru合金涂层的Ti材料。本发明具有Ti‑Ru合金涂层的Ti材料，在升温过程中，由于涂层抗氧化且未生成氧化物，因此具有良好的冶金结合和较小的界面应力，增强了Ti材料整体的抗氧化性能。本发明方法可广泛用于金属材料表面功能涂层的制备，以获得表层性能优异的金属材料。
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公开(公告)号：CN107723656B
公开(公告)日：2019-08-30
申请号：CN201710776679.7
申请日：2017-08-31
申请人： 昆明贵金属研究所
摘要： 本发明公开了一种含Au纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法，为工业纯Ti表面上含Au纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法。该方法主要包括工业纯Ti的再结晶退火、表面机械研磨处理、磁控共溅射、硝酸选择性溶解、热氧化。本发明通过具有良好润滑和韧性的Au纳米粒子和高硬度的TiO2的结合获得具有高韧性和高硬度的耐磨表层，同时通过设计并获得的梯度涂层有效改善涂层与金属基体之间界面应力、提高了涂层与基体的结合，从而使工业纯Ti的摩擦磨损性能得到明显提高。
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公开(公告)号：CN107779814A
公开(公告)日：2018-03-09
申请号：CN201710776785.5
申请日：2017-08-31
申请人： 昆明贵金属研究所
摘要： 本发明公开了一种含Ag纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法，为Ti材料表面上含Ag纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法。该方法主要包括Ti材料的再结晶退火、表面机械研磨处理、磁控共溅射、热氧化。本发明通过具有良好润滑和韧性的Ag纳米粒子和高硬度的TiO2的结合获得具有高韧性和高硬度的耐磨表层，同时通过设计并获得的梯度涂层有效改善涂层与金属基体之间界面应力、提高了涂层与基体的结合，从而使Ti材料的摩擦磨损性能得到明显提高。
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公开(公告)号：CN111304608A
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN202010186265.0
申请日：2020-03-17
申请人： 贵研铂业股份有限公司
IPC分类号： C23C14/35 , B22D7/00 , C21D9/00 , C22C1/02 , C22C5/04 , C22C19/03 , C22F1/02 , C22F1/10 , C22F1/14 , B30B15/34
摘要： 本发明公开了一种晶粒高定向取向的镍铂合金溅射靶材及其制备方法，靶材含镍1~99 wt%，余量为铂；靶材呈（111）或（200）晶面高定向取向，含镍为1~24 wt%的靶材其（111）与（200）晶面积分强度比不低于3，含镍为25~99 wt%的靶材其（200）与（111）晶面积分强度比不低于1.2；致密度不低于99.5%；晶粒尺寸5~50 。所述制备方法包括以下步骤：熔炼与浇铸、缺陷检测、真空热压、低温压制、低温退火和产品加工。本发明的镍铂合金溅射靶材呈（111）或（200）晶面高定向取向有助于获得高溅射速率、膜厚均匀的薄膜，制备工艺简便，易操控，大大提高生产效率并节约制备成本。
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公开(公告)号：CN111254398A
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN202010186276.9
申请日：2020-03-17
申请人： 贵研铂业股份有限公司
摘要： 本发明公开一种晶粒高定向取向的铂溅射靶材及其制备方法，铂溅射靶材呈现（111）晶面高定向取向，致密度不低于99.5%，晶粒尺寸为5~20 ；所述（111）晶面与（200）晶面积分强度比不低于3。制备方法包括：选择4N及以上纯度的铂原料，熔炼获得铸锭；随后进行超声波探伤测定铸锭内部缺陷分布并对其进行真空热压，消除缺陷；再将锭坯浸泡在液氮容器中单向压制；再进行低温退火；最后机加工获得靶材。本发明采用浇铸速度和熔炼炉功率组合，较低压制及退火温度组合，获得性能优异的铂溅射靶材。靶材的高致密度和（111）晶面高定向取向有助于获得高溅射速率、膜厚均匀的铂薄膜，其制备方法工艺简便，条件温和易操控，大大提高生产效率，极大地节约制备成本。
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公开(公告)号：CN111286703B
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202010245239.0
申请日：2020-03-31
申请人： 贵研铂业股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种镍铂合金溅射靶材及其制备方法，所述镍铂合金溅射靶材中铂的含量为21～31%原子百分比，镍铂溅射靶材溅射面的（111）面的取向率大于30%，（200）面的取向率小于（111）面且大于20%。所述制备方法包括以下步骤：以4N5镍和铂为原料，配制成铂的含量为21～31%的合金，将合金放入熔炼炉中进行熔炼，待原料熔化后置于浇铸模具中进行浇铸获得铸锭；再将铸锭采用温轧轧制形成坯料后再结晶退火，最后加工成型获得靶材。本发明制备获得了成品率高，稳定性好的含铂为21～31原子%的NiPt合金溅射靶材，通过控制晶粒取向改善了靶材的成膜速率和薄膜性能稳定性，获得了沉积速率和膜厚均匀性较好的NiPt薄膜，大大提高了生产效率，极大节约了成本。
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