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公开(公告)号：CN101848917A
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN200880114793.2
申请日：2008-10-22
Applicant: 株式会社艾迪科
CPC classification number: C23C16/45553 , C07F7/003 , C23C16/308 , C23C16/34 , C23C16/40
Abstract: 本发明涉及一种由下述通式(1)表示的新型金属化合物、含有其的化学气相沉积用原料以及基于使用了该原料的化学气相沉积法的含有金属的薄膜的制造方法。作为该金属化合物，优选下述通式(1)中X为氯原子的化合物，这是因为原料便宜，挥发性高；当M为钛原子时，优选m为1的化合物，这是因为挥发温度(蒸汽温度)与薄膜沉积温度(反应温度)之差较大，可获得较宽的制程范围。下述式中，M表示钛、锆或铪，X表示卤原子，m表示1或2，
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103502202A
公开(公告)日：2014-01-08
申请号：CN201280022056.6
申请日：2012-05-15
Applicant: 株式会社艾迪科
IPC: C07C215/08 , C23C16/18 , H01L21/285 , C07F15/04
CPC classification number: C07F15/045 , C07C215/08 , C23C16/06 , C23C16/406 , C23C16/45553
Abstract: 本发明涉及一种由下述通式（I）表示的醇盐化合物以及含有该醇盐化合物的薄膜形成用原料。式中，R1表示碳原子数为2～4的直链或支链状烷基，R2、R3表示碳原子数为1～4的直链或支链状烷基。在下述通式（I）中，R1优选为乙基。另外，还优选R2和R3中的任一者或两者为乙基。另外，含有由下述通式（I）表示的醇盐化合物的薄膜形成用原料优选用作化学气相沉积法用原料。
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公开(公告)号：CN101143873A
公开(公告)日：2008-03-19
申请号：CN200710152709.3
申请日：2007-09-14
Applicant: 株式会社艾迪科
CPC classification number: C23C16/405 , C07F7/003
Abstract: 本发明提供一种具有气化工序的薄膜制造方法，其中，对于供给薄膜以钛、锆、铪的前体，赋予其适合作为薄膜形成用原料、特别是CVD用原料的利用加热和/或氧化的分解特性、热稳定性、蒸气压等性质。本发明还提供一种用通式(1)表示的金属醇盐化合物。式中，R1～R8各自独立地表示氢原子或甲基，M表示钛、锆或铪原子。
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公开(公告)号：CN103502202B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201280022056.6
申请日：2012-05-15
Applicant: 株式会社艾迪科
IPC: C07C215/08 , C23C16/18 , H01L21/285 , C07F15/04
CPC classification number: C07F15/045 , C07C215/08 , C23C16/06 , C23C16/406 , C23C16/45553
Abstract: 本发明涉及一种由下述通式（I）表示的醇盐化合物以及含有该醇盐化合物的薄膜形成用原料。式中，R1表示碳原子数为2～4的直链或支链状烷基，R2、R3表示碳原子数为1～4的直链或支链状烷基。在下述通式（I）中，R1优选为乙基。另外，还优选R2和R3中的任一者或两者为乙基。另外，含有由下述通式（I）表示的醇盐化合物的薄膜形成用原料优选用作化学气相沉积法用原料，
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公开(公告)号：CN101848917B
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：CN200880114793.2
申请日：2008-10-22
Applicant: 株式会社艾迪科
CPC classification number: C23C16/45553 , C07F7/003 , C23C16/308 , C23C16/34 , C23C16/40
Abstract: 本发明涉及一种由下述通式(1)表示的新型金属化合物、含有其的化学气相沉积用原料以及基于使用了该原料的化学气相沉积法的含有金属的薄膜的制造方法。作为该金属化合物，优选下述通式(1)中X为氯原子的化合物，这是因为原料便宜，挥发性高；当M为钛原子时，优选m为1的化合物，这是因为挥发温度(蒸汽温度)与薄膜沉积温度(反应温度)之差较大，可获得较宽的制程范围。下述式中，M表示钛、锆或铪，X表示卤原子，m表示1或2，
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公开(公告)号：CN101143873B
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN200710152709.3
申请日：2007-09-14
Applicant: 株式会社艾迪科
CPC classification number: C23C16/405 , C07F7/003
Abstract: 本发明提供一种具有气化工序的薄膜制造方法，其中，对于供给薄膜以钛、锆、铪的前体，赋予其适合作为薄膜形成用原料、特别是CVD用原料的利用加热和/或氧化的分解特性、热稳定性、蒸气压等性质。本发明还提供一种用下述通式(1)表示的金属醇盐化合物。式中，R1～R8各自独立地表示氢原子或甲基，M表示钛、锆或铪原子。
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