半导体装置的制造方法以及半导体装置

    公开(公告)号:CN107818999B

    公开(公告)日:2024-05-24

    申请号:CN201710793111.6

    申请日:2017-09-06

    发明人: 牛山吉孝

    IPC分类号: H01L27/146

    摘要: 本发明涉及半导体装置的制造方法以及半导体装置,提高半导体装置的性能。一个实施方式的半导体装置(PKG1)的制造方法包括:在布线基板(WB)上固定的框部件的上表面,隔着粘接材料(BND2)搭载盖部件(CVG)的工序;以及对在框部件(FLP)上搭载的粘接材料(BND2)照射紫外线而使粘接材料(BND2)硬化的工序。布线基板(WB)具有基体材料(BSP)以及覆盖基体材料(BSP)的绝缘膜(SR1),框部件(FLP)以及半导体芯片搭载(固定)到绝缘膜(SR1)的上表面(SR1t)。框部件(FLP)含有玻璃纤维(GC)。另外,框部件(FLP)的上表面(FLt)的粗糙度与绝缘膜(SR1)的上表面(SR1t)的粗糙度相同、或者不比绝缘膜(SR1)的上表面(SR1t)的粗糙度粗。

    半导体装置的制造方法以及半导体装置

    公开(公告)号:CN107818999A

    公开(公告)日:2018-03-20

    申请号:CN201710793111.6

    申请日:2017-09-06

    发明人: 牛山吉孝

    IPC分类号: H01L27/146

    摘要: 本发明涉及半导体装置的制造方法以及半导体装置,提高半导体装置的性能。一个实施方式的半导体装置(PKG1)的制造方法包括:在布线基板(WB)上固定的框部件的上表面,隔着粘接材料(BND2)搭载盖部件(CVG)的工序;以及对在框部件(FLP)上搭载的粘接材料(BND2)照射紫外线而使粘接材料(BND2)硬化的工序。布线基板(WB)具有基体材料(BSP)以及覆盖基体材料(BSP)的绝缘膜(SR1),框部件(FLP)以及半导体芯片搭载(固定)到绝缘膜(SR1)的上表面(SR1t)。框部件(FLP)含有玻璃纤维(GC)。另外,框部件(FLP)的上表面(FLt)的粗糙度与绝缘膜(SR1)的上表面(SR1t)的粗糙度相同、或者不比绝缘膜(SR1)的上表面(SR1t)的粗糙度粗。