一种含铑的PCB基板化学镀活化液及其化学镀方法

    公开(公告)号:CN117328047A

    公开(公告)日:2024-01-02

    申请号:CN202311157096.8

    申请日:2023-09-08

    IPC分类号: C23C18/30 C23C18/40 H05K3/18

    摘要: 本发明提供一种含铑的PCB基板化学镀活化液及其化学镀方法,属于化学活化及化学镀领域。首先提供一种活化改性液的制备方法,使其作为绝缘基材表面改性活化桥接层,改性液配方包含:环氧树脂20~40g/L、丁酮0.03~0.06mol/L、乙酰丙酮三苯基膦羰基铑(Ⅰ)0.1~0.2g/L、三氯甲烷0.025~0.05mol/L、乙二胺0.045~0.09mol/L。其次,利用硼氢化钠溶液作为还原剂将有机金属化合物中的铑还原并有效沉积在绝缘基材表面形成活性种来催化化学镀。最后配合后续化学镀工艺即可形成致密、光亮、附着力强的镀层。该活化改性液配方配制简便、操作简单、实施成本小,不会腐蚀印制电路基板及工艺设备,与现有的印制电路制造条件具有良好的兼容性。

    一种PCB用覆铜板电镀Ni-Co-Ce薄膜镀液及薄膜制备方法

    公开(公告)号:CN114016098B

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN202111226368.6

    申请日:2021-10-21

    摘要: 本发提供一种印制电路覆铜板铜面电沉积Ni‑Co‑Ce合金薄膜的镀液配方与制备方法、以及使用该镀液在覆铜板表面制作Ni‑Co‑Ce合金薄膜方法。镀液配方包含:氯化镍0.03~0.05mol/L、硫酸钴0.03~0.05mol/L、导电添加物0.1~0.2mol/L、pH缓冲剂0.1~0.2mol/L、电镀添加剂0.1~0.2mol/L、硫酸高铈0.005~0.03mol/L、去离子水等,电镀获得的Ni‑Co‑Ce合金薄膜可用于多层印制电路板电子线路防护、层间结合力及高频信号完整性提升等。同时镀液配方配制简便且不腐蚀印制电路基板、电镀工艺与设备与印制电路制造领域现有条件兼容性较好,极大降低技术改造投入与产品制造成本。

    一种全树脂片式电感的制作方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114678208A

    公开(公告)日:2022-06-28

    申请号:CN202210345465.5

    申请日:2022-04-02

    IPC分类号: H01F41/04 H01F17/00 H01F27/29

    摘要: 本发明提供了一种全树脂片式电感的制作方法,包括如下步骤:制作第一线圈和第一层电极,然后贴膜、曝光、显影、电镀制作第一铜柱和第二层电极;用前步骤相同的方法制作第二线圈和第三层电极、第二铜柱和第四层电极;以第一线圈、第一铜柱、第二线圈、第二铜柱的交替结构为基本单元,循环向上制作可得到全树脂片式电感;相对于传统的片式电感制作方法,本发明大大简化了制作流程,降低了工艺难度。同时,本发明制得的片式电感实现了L型端电极与线圈一体化制作。

    一种超薄铜箔的制备方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114672855A

    公开(公告)日:2022-06-28

    申请号:CN202210322975.0

    申请日:2022-03-29

    摘要: 一种超薄铜箔的制备方法,属于铜箔制备技术领域。包括:1)载体铜箔依次在微蚀液、酸洗液和去离子水中浸泡;2)上步处理后的载体铜箔在有机溶液中浸泡,形成阻挡层;3)上步处理后的载体铜箔在导电层溶液中浸泡,形成导电层;4)采用电泳的方法在导电层上形成结晶层;5)电沉积,形成超薄铜箔;6)苯并三氮唑溶液中浸泡后,与PCB板压合,固化,机械去除载体铜箔,得到超薄铜箔。本发明采用阻挡层、导电层和结晶层三层结构作为剥离层,得到的超薄铜箔镀层细致平整,很容易使压合后的超薄铜箔与载体铜箔分离,而且,该剥离层既满足了金属层的高导电性,又具备有机剥离层的细致、均匀、平整的优点。

    一种可剥离超薄载体铜箔的制备方法

    公开(公告)号:CN114657610A

    公开(公告)日:2022-06-24

    申请号:CN202210311750.5

    申请日:2022-03-28

    摘要: 本发明涉及一种可剥离超薄载体铜箔的制备方法,为5G通信高频高速印制电路板提供关键性材料。本发明的可剥离超薄载体铜箔按照顺序依次为18μm载体铜箔、浸镀金属层、有机阻挡层、剥离层、超薄铜箔层及粗化层,本发明的浸镀金属层能够降低铜面的等电位点,增强载体铜箔与有机层的结合力,满足抗剥离强度的要求;将有机层和金属层共同作为剥离层使用,能够解决单一有机层在电沉积超薄铜箔层时容易引起导电不良、厚度不均匀以及使用前易于脱离载体的问题。本发明所制备的超薄载体铜箔厚度均在5μm左右,且都能成功剥离,表面也无铜粉和剥离层的残留。