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公开(公告)号：CN104407501B
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN201410310502.4
申请日：2007-03-12
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Abstract: 本发明提供了一种涂敷过的基片和一种处理光刻胶组合物的方法。所述涂敷过的基片包括：位于基片上的光刻胶组合物层；位于该光刻胶层上面的有机组合物，该有机组合物包含含有一种或多种亲水基团的共聚物树脂；所述处理光刻胶组合物的方法包括：(a)在基片上施涂光刻胶组合物；(b)在所述光刻胶组合物上面施涂有机组合物，该有机组合物包含含有一种或多种亲水基团的共聚物树脂；(c)将所述光刻胶层曝光于辐射，活化光刻胶组合物。
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公开(公告)号：CN103728840A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201410045225.9
申请日：2007-04-11
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Abstract: 在第一方面中，所提供的方法包括：（a）将可固化组合物涂布到基底上；(b)将硬掩模组合物涂布在该可固化组合物之上；（c）将光致抗蚀剂组合物层涂布在该硬掩模组合物之上，其中所述组合物的一种或多种可用无灰化方法除去。在第二方面中，所提供的方法包括：（a）将有机组合物涂布到基底上；(b)将光致抗蚀剂组合物层涂布在该有机组合物之上；其中该有机组合物包含一种当热处理和/或辐射处理时能产生碱溶基团的材料。本发明也提供了一种相关组合物。
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公开(公告)号：CN101308329B
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN200810131438.8
申请日：2008-04-07
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/09 , C09D201/02
CPC classification number: G03F7/091
Abstract: 本发明涉及用于包括半导体和其他电子元件的制造的照相平版印刷工艺的有机涂料组合物。本发明的组合物包括含有含腈组分的组分，所述含腈组分如含有腈部分的树脂组分。本发明的组合物特别适用于作为二、三或更多层图案成型工艺中的底层材料。提供了一种涂覆的衬底，其包括有机底层涂料组合物层，所述有机底层涂料组合物层含有包含腈基的组分；以及在该底层涂料组合物层之上的一种或多种不同的有机组合物层。
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公开(公告)号：CN101042534A
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200710087658.0
申请日：2007-03-12
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/095 , G03F7/11
Abstract: 提供了外涂层组合物，该组合物施涂在光刻胶组合物上面，用于浸渍光刻处理和非浸渍成像。
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公开(公告)号：CN103353707B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201310269922.8
申请日：2007-01-08
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0392 , G03F7/2041
Abstract: 一方面，本发明涉及包含树脂组分的涂料组合物，所述树脂组分的主导性部分包含一种或多种至少基本不含氟的树脂。本发明的涂料组合物可用作光致抗蚀剂的覆盖涂层，包括可用在浸渍平版印刷工艺中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101308329A
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：CN200810131438.8
申请日：2008-04-07
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/09 , C09D201/02
CPC classification number: G03F7/091
Abstract: 本发明涉及用于包括半导体和其他电子元件的制造的照相平版印刷工艺的有机涂料组合物。本发明的组合物包括含有含腈组分的组分，所述含腈组分如含有腈部分的树脂组分。本发明的组合物特别适用于作为二、三或更多层图案成型工艺中的底层材料。提供了一种涂覆的衬底，其包括有机底层涂料组合物层，所述有机底层涂料组合物层含有包含腈基的组分；以及在该底层涂料组合物层之上的一种或多种不同的有机组合物层。
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公开(公告)号：CN101008782A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：CN200710003725.6
申请日：2007-01-08
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/004 , G03F7/027 , C09D133/08 , C09D7/12
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0392 , G03F7/2041
Abstract: 一方面，本发明涉及包含树脂组分的涂料组合物，所述树脂组分的主导性部分包含一种或多种至少基本不含氟的树脂。本发明的涂料组合物可用作光致抗蚀剂的覆盖涂层，包括可用在浸渍平版印刷工艺中。
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公开(公告)号：CN110488571A
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201910672506.X
申请日：2007-04-11
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Abstract: 在第一方面中，所提供的方法包括：(a)将可固化组合物涂布到基底上；(b)将硬掩模组合物涂布在该可固化组合物之上；(c)将光致抗蚀剂组合物层涂布在该硬掩模组合物之上，其中所述组合物的一种或多种可用无灰化方法除去。在第二方面中，所提供的方法包括：(a)将有机组合物涂布到基底上；(b)将光致抗蚀剂组合物层涂布在该有机组合物之上；其中该有机组合物包含一种当热处理和/或辐射处理时能产生碱溶基团的材料。本发明也提供了一种相关组合物。
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公开(公告)号：CN103353707A
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：CN201310269922.8
申请日：2007-01-08
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0392 , G03F7/2041
Abstract: 本发明涉及包含树脂组分的涂料组合物，所述树脂组分的主导性部分包含一种或多种至少基本不含氟的树脂。本发明的涂料组合物可用作光致抗蚀剂的覆盖涂层，包括可用在浸渍平版印刷工艺中。
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公开(公告)号：CN102402121A
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：CN201110407884.9
申请日：2007-04-11
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/091 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40 , H01L21/0275 , H01L21/0276
Abstract: 在第一方面中，所提供的方法包括：(a)将可固化组合物涂布到基底上；(b)将硬掩模组合物涂布在该可固化组合物之上；(c)将光致抗蚀剂组合物层涂布在该硬掩模组合物之上，其中所述组合物的一种或多种可用无灰化方法除去。在第二方面中，所提供的方法包括：(a)将有机组合物涂布到基底上；(b)将光致抗蚀剂组合物层涂布在该有机组合物之上；其中该有机组合物包含一种当热处理和/或辐射处理时能产生碱溶基团的材料。本发明也提供了一种相关组合物。
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