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公开(公告)号：CN105759569A
公开(公告)日：2016-07-13
申请号：CN201610064533.5
申请日：2010-05-20
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/09 , C07D251/32 , C08G73/06
CPC classification number: C07D251/32 , C08G73/0655 , G03F7/091
Abstract: 与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物。本发明提供了一种形成光刻胶浮雕像的方法，所述方法包括：(a)在基材上涂覆包括树脂的减反射涂料组合物，所述树脂包括1)共价连接的交联剂组分和2)对应于下列式的化合物；(b)在上述涂料组合物层上涂覆光刻胶组合物；和(c)曝光和显影所述光刻胶层，从而制得光刻胶浮雕像，所述树脂包含聚酯键，所述树脂是由具有下式的一个或多个化合物形成的。
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公开(公告)号：CN102402121B
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201110407884.9
申请日：2007-04-11
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/091 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40 , H01L21/0275 , H01L21/0276
Abstract: 在第一方面中，所提供的方法包括：(a)将可固化组合物涂布到基底上；(b)将硬掩模组合物涂布在该可固化组合物之上；(c)将光致抗蚀剂组合物层涂布在该硬掩模组合物之上，其中所述组合物的一种或多种可用无灰化方法除去。在第二方面中，所提供的方法包括：(a)将有机组合物涂布到基底上；(b)将光致抗蚀剂组合物层涂布在该有机组合物之上；其中该有机组合物包含一种当热处理和/或辐射处理时能产生碱溶基团的材料。本发明也提供了一种相关组合物。
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公开(公告)号：CN101201542B
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN200710170198.8
申请日：2007-09-26
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/004 , C09D201/02
CPC classification number: G03F7/091 , G03F7/0392
Abstract: 提供一种用于光刻蚀法的涂料组合物，其包括一种或多种含有一种或多种改性的二酰亚胺基团的树脂。这些涂料组合物被特别用作外涂的光致抗蚀剂层的抗反射层。优选的体系可被热处理以增加所述组合物涂料层的亲水性，从而阻止与外涂的有机组合物层的不希望的混合，而在使用碱性水溶液光致抗蚀剂显影剂时可使得组合物涂料层是可移除的。
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公开(公告)号：CN101935492A
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN201010233728.0
申请日：2010-05-20
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C09D167/00 , G03F7/09 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/11 , C09D167/02 , G03F7/0045 , G03F7/091 , H01L21/0271
Abstract: 本发明提供了一种与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物，其中该涂料组合物包含一种包含氰尿酸酯基团和疏水性基团的树脂。所述涂料组合物可以增强外涂光刻胶浮雕像的分辨率。
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公开(公告)号：CN101063819A
公开(公告)日：2007-10-31
申请号：CN200710105399.X
申请日：2007-04-11
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/16 , G03F7/004 , G03F7/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/091 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40 , H01L21/0275 , H01L21/0276
Abstract: 在第一方面中，所提供的方法包括：(a)将可固化组合物涂布到基底上；(b)将硬掩模组合物涂布在该可固化组合物之上；(c)将光致抗蚀剂组合物层涂布在该硬掩模组合物之上，其中所述组合物的一种或多种可用无灰化方法除去。在第二方面中，所提供的方法包括：(a)将有机组合物涂布到基底上；(b)将光致抗蚀剂组合物层涂布在该有机组合物之上；其中该有机组合物包含一种当热处理和/或辐射处理时能产生碱溶基团的材料。本发明也提供了一种相关组合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102621813B
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201110463317.5
申请日：2011-12-31
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/09 , C09D167/00
Abstract: 提供一种有机涂料组合物，尤其是减反射涂料组合物，所述组合物是包含含有一种或多种尿嘧啶部分的组分的组合物。本发明优选的组合物在减少从基材反回到外涂光致抗蚀剂层的曝光辐射的反射和/或作为平坦化、保形或塞孔层使用是有用的。
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公开(公告)号：CN102844707B
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201080063288.7
申请日：2010-12-13
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/00 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/322
Abstract: 本发明提供一种用于浸没光刻的新的光致抗蚀剂组合物。本发明优选的光致抗蚀剂组合物包含一种或多种具有碱反应活性基团的材料。本发明具体优选的光致抗蚀剂组合物可以在浸没光刻工艺过程中降低抗蚀剂材料向与所述抗蚀剂层接触的浸没流体的浸出。
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公开(公告)号：CN102591154B
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201110463289.7
申请日：2011-12-31
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Abstract: 用于与外涂的光刻胶一起使用的涂料组合物。提供了有机涂料组合物，特别是减反射涂料组合物，其包含这样的组分，该组分包含一种或多种仲班酸部分。优选本发明的组合物能够用于减少曝光辐射从基底返回到外涂的光刻胶层中的反射和/或充当平坦化的、保形的或者塞孔层。提供了一种涂覆的基底，所述涂覆的基底包含：(a)在基底上的涂料组合物层，该涂料组合物包含这样的组分，该组分包含一种或多种仲班酸部分；和(b)在该涂料组合物层上的光刻胶层。
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公开(公告)号：CN101943861B
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201010233749.2
申请日：2010-05-20
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/00 , C08F220/32 , C08F220/18 , C08F220/28
CPC classification number: C08F20/10 , C08F220/30 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 本发明涉及新型树脂及包含其的光致抗蚀剂组合物，提供了包含内酯单元的新型树脂以及包含该树脂的光致抗蚀剂组合物。本发明提供了一种包含树脂的光致抗蚀剂组合物，所述树脂包含选自下述结构式的部分：其中，每个R2为相同或不同的非氢取代基，每个n为0至4的整数。
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公开(公告)号：CN103728840A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201410045225.9
申请日：2007-04-11
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Abstract: 在第一方面中，所提供的方法包括：（a）将可固化组合物涂布到基底上；(b)将硬掩模组合物涂布在该可固化组合物之上；（c）将光致抗蚀剂组合物层涂布在该硬掩模组合物之上，其中所述组合物的一种或多种可用无灰化方法除去。在第二方面中，所提供的方法包括：（a）将有机组合物涂布到基底上；(b)将光致抗蚀剂组合物层涂布在该有机组合物之上；其中该有机组合物包含一种当热处理和/或辐射处理时能产生碱溶基团的材料。本发明也提供了一种相关组合物。
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