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公开(公告)号:CN104209874A
公开(公告)日:2014-12-17
申请号:CN201410238701.9
申请日:2014-05-30
申请人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
CPC分类号: B24B37/245 , B24B37/22 , B24B37/24 , B24B53/017 , B24D11/001 , C08G18/3278 , C08G18/6644
摘要: 具有柔软且可修整的抛光层的多层化学机械抛光垫层叠体.本发明提供了一种多层化学机械抛光垫层叠体,其包括:抛光层、刚性层以及将所述抛光层与所述刚性层粘结的热熔粘合剂;其中所述抛光层的密度大于0.6克/厘米3,肖氏D硬度为5-40,断裂伸长率为100-450%,切割速率为25-150微米/小时;以及其中所述抛光层具有适合用来对基材进行抛光的抛光表面。
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公开(公告)号:CN104942702B
公开(公告)日:2018-01-19
申请号:CN201510144091.0
申请日:2015-03-30
申请人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
IPC分类号: B24B37/24 , B24B37/22 , B24B37/013
CPC分类号: B24B37/205 , B24B37/013 , B24B49/12 , G02B1/12 , H01F41/00 , H01L21/30625
摘要: 本发明提供了一种化学机械抛光垫,其包括:抛光层;以及结合至所述化学机械抛光垫中的终点检测窗口,其中所述终点检测窗口是塞入性窗口;其中所述终点检测窗口包含以下成分的反应产物,所述成分包含窗口预聚物以及窗口固化剂体系,所述窗口固化剂体系包含至少5重量%的窗口双官能的固化剂、至少5重量%的窗口胺引发的多元醇固化剂以及25‑90重量%窗口高分子量多元醇固化剂。
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公开(公告)号:CN104416453B
公开(公告)日:2017-07-28
申请号:CN201410438133.7
申请日:2014-08-29
申请人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
CPC分类号: B24B37/24 , B24B1/00 , B24B37/205 , B24B37/22 , C08G18/10 , H01L21/30625 , H01L21/3212
摘要: 本发明提供了一种用来对基材进行化学机械抛光的方法,该方法包括:提供一种基材,提供一种化学机械抛光垫,其包括:具有一定组成和抛光表面的抛光层,其中对所述抛光层的组成进行选择,使其具有初始水解稳定性,以及持续水解不稳定性;具有上表面和下表面的刚性层;介于抛光层底表面和刚性层上表面之间的热熔粘合剂;其中所述热熔粘合剂将抛光层与刚性层粘合;具有层叠体侧和台板侧的压敏台板粘合剂层;其中压敏台板粘合剂层的层叠体侧与刚性层的底表面相连;以及在抛光表面和基材之间形成动态接触以抛光基材的表面。
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公开(公告)号:CN104209854B
公开(公告)日:2017-01-18
申请号:CN201410238719.9
申请日:2014-05-30
申请人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
CPC分类号: B24B37/245 , B24B37/205 , B24B37/22 , B24B37/24 , C08G18/3278 , C08G18/6644
摘要: 柔软且可修整的化学机械抛光垫层叠体。本发明提供了一种化学机械抛光垫层叠体,其包括:抛光层、刚性层、将所述抛光层与刚性层粘结的热熔粘合剂,其中所述抛光层包含以下组分的反应产物,所述组分包括:多官能异氰酸酯和固化剂包装,所述固化剂包装包含胺引发的多元醇固化剂和高分子量多元醇固化剂,其中,所述抛光层的密度大于0.6克/厘米3,肖氏D硬度为5-40,断裂伸长率为100-450%,切割速率为25-150微米/小时;以及其中所述抛光层具有适合用来对基材进行抛光的抛光表面。
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公开(公告)号:CN104209853B
公开(公告)日:2017-01-18
申请号:CN201410238604.X
申请日:2014-05-30
申请人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
CPC分类号: B24B37/245 , B24B37/205 , B24B37/22 , B24B37/24 , B24D11/001 , C08G18/3278 , C08G18/6644
摘要: 柔软且可修整的化学机械窗口抛光垫.本发明提供了一种化学机械抛光垫,其包括:抛光层、塞入性终点检测窗口块体、刚性层以及将所述抛光层与刚性层粘结的热熔粘合剂,其中所述抛光层包含以下组分的反应产物,所述组分包括:多官能异氰酸酯和固化剂包装,所述固化剂包装包含胺引发的多元醇固化剂和高分子量多元醇固化剂,其中,所述抛光层的密度大于0.6克/厘米3,肖氏D硬度为5-40,断裂伸长率为100-450%,切割速率为25-150微米/小时;以及其中所述抛光层具有适合用来对基材进行抛光的抛光表面。本发明还提供了制备和使用化学机械抛光垫的方法。
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公开(公告)号:CN104416453A
公开(公告)日:2015-03-18
申请号:CN201410438133.7
申请日:2014-08-29
申请人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
CPC分类号: B24B37/24 , B24B1/00 , B24B37/205 , B24B37/22 , C08G18/10 , H01L21/30625 , H01L21/3212
摘要: 本发明提供了一种用来对基材进行化学机械抛光的方法,该方法包括:提供一种基材,提供一种化学机械抛光垫,其包括:具有一定组成和抛光表面的抛光层,其中对所述抛光层的组成进行选择,使其具有初始水解稳定性,以及持续水解不稳定性;具有上表面和下表面的刚性层;介于抛光层底表面和刚性层上表面之间的热熔粘合剂;其中所述热熔粘合剂将抛光层与刚性层粘合;具有层叠体侧和台板侧的压敏台板粘合剂层;其中压敏台板粘合剂层的层叠体侧与刚性层的底表面相连;以及在抛光表面和基材之间形成动态接触以抛光基材的表面。
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公开(公告)号:CN104942700B
公开(公告)日:2017-09-12
申请号:CN201510144406.1
申请日:2015-03-30
申请人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
CPC分类号: H01L21/304 , B24B37/205 , B24B37/22 , B24B37/24
摘要: 本发明提供了一种化学机械抛光垫,其具有抛光层以及结合至所述抛光层中的窗口;其中所述抛光层包括以下成分的反应产物,所述成分包括抛光层预聚物以及抛光层固化剂体系,所述抛光层固化剂体系包括:抛光层胺引发的多元醇固化剂、抛光层高分子量多元醇固化剂以及抛光层双官能的固化剂;其中所述窗口包括以下成分的反应产物,所述成分包括窗口预聚物以及窗口固化剂体系;其中所述窗口固化剂体系包括:窗口双官能的固化剂、窗口胺引发的多元醇固化剂以及窗口高分子量多元醇固化剂;以及,其中所述抛光层的密度≥0.6g/cm3、肖氏D硬度为5‑40、断裂伸长率为100‑450%、以及切割速率为25‑150μm/hr。
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公开(公告)号:CN104942702A
公开(公告)日:2015-09-30
申请号:CN201510144091.0
申请日:2015-03-30
申请人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
IPC分类号: B24B37/24 , B24B37/22 , B24B37/013
CPC分类号: B24B37/205 , B24B37/013 , B24B49/12 , G02B1/12 , H01F41/00 , H01L21/30625
摘要: 本发明提供了一种化学机械抛光垫,其包括:抛光层;以及结合至所述化学机械抛光垫中的终点检测窗口,其中所述终点检测窗口是塞入性窗口;其中所述终点检测窗口包含以下成分的反应产物,所述成分包含窗口预聚物以及窗口固化剂体系,所述窗口固化剂体系包含至少5重量%的窗口双官能的固化剂、至少5重量%的窗口胺引发的多元醇固化剂以及25-90重量%窗口高分子量多元醇固化剂。
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公开(公告)号:CN104209853A
公开(公告)日:2014-12-17
申请号:CN201410238604.X
申请日:2014-05-30
申请人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
CPC分类号: B24B37/245 , B24B37/205 , B24B37/22 , B24B37/24 , B24D11/001 , C08G18/3278 , C08G18/6644
摘要: 柔软且可修整的化学机械窗口抛光垫.本发明提供了一种化学机械抛光垫,其包括:抛光层、塞入性终点检测窗口块体、刚性层以及将所述抛光层与刚性层粘结的热熔粘合剂,其中所述抛光层包含以下组分的反应产物,所述组分包括:多官能异氰酸酯和固化剂包装,所述固化剂包装包含胺引发的多元醇固化剂和高分子量多元醇固化剂,其中,所述抛光层的密度大于0.6克/厘米3,肖氏D硬度为5-40,断裂伸长率为100-450%,切割速率为25-150微米/小时;以及其中所述抛光层具有适合用来对基材进行抛光的抛光表面。本发明还提供了制备和使用化学机械抛光垫的方法。
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公开(公告)号:CN104209874B
公开(公告)日:2017-09-08
申请号:CN201410238701.9
申请日:2014-05-30
申请人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
CPC分类号: B24B37/245 , B24B37/22 , B24B37/24 , B24B53/017 , B24D11/001 , C08G18/3278 , C08G18/6644
摘要: 具有柔软且可修整的抛光层的多层化学机械抛光垫层叠体.本发明提供了一种多层化学机械抛光垫层叠体,其包括:抛光层、刚性层以及将所述抛光层与所述刚性层粘结的热熔粘合剂;其中所述抛光层的密度大于0.6克/厘米3,肖氏D硬度为5‑40,断裂伸长率为100‑450%,切割速率为25‑150微米/小时;以及其中所述抛光层具有适合用来对基材进行抛光的抛光表面。
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