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公开(公告)号：CN1542553A
公开(公告)日：2004-11-03
申请号：CN200410045162.3
申请日：2004-04-29
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·C·M·贾斯佩 , M·K·M·巴根 , R·J·布鲁斯 , H·A·L·范迪克 , G·C·J·霍夫曼斯 , A·J·M·詹森 , C·C·M·鲁伊坦 , W·R·庞格斯 , M·G·D·维伦斯 , T·尤特迪克 , O·S·西西里亚 , H·布姆 , M·J·L·M·德马特奥
CPC分类号： G03F7/70258 , G03F1/62 , G03F1/64 , G03F1/82 , G03F7/70308 , G03F7/70983
摘要： 一种厚薄膜被允许具有不平坦的外形并且其外形被特性化以计算用于曝光中的校正量，来补偿所述薄膜的光学效果。所述薄膜可以被设置得采用重力作用下的一维外形，以便更容易地进行补偿。
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公开(公告)号：CN101819388B
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：CN201010186504.9
申请日：2006-06-20
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·H·W·雅各布斯 , N·坦卡特 , M·H·A·李恩德斯 , E·R·卢普斯特拉 , M·C·M·弗哈根 , H·布姆 , F·J·J·詹森 , I·P·M·鲍查姆斯 , N·R·坎帕 , J·J·奥坦斯 , Y·科克 , J·范埃斯
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70875
摘要： 本发明涉及用于保持基板和浸没光刻装置的热平衡的方法和装置，其通过含有与基板的位置、速度和加速度相关的信息的时间表，和对应时间表内的信息而起减少局部蒸发和/或增加局部冷凝作用的蒸发控制器或冷凝控制器来实现。基板表面的水分的蒸发使其冷却，而冷凝到基板底表面的水分将该基板局部加热。
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公开(公告)号：CN1885171B
公开(公告)日：2010-07-07
申请号：CN200610107688.9
申请日：2006-06-20
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·H·W·雅各布斯 , N·坦卡特 , M·H·A·李恩德斯 , E·R·卢普斯特拉 , M·C·M·弗哈根 , H·布姆 , F·J·J·詹森 , I·P·M·鲍查姆斯 , N·R·坎帕 , J·J·奥坦斯 , Y·科克 , J·范埃斯
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70875
摘要： 本发明涉及用于保持基板和浸没光刻装置的热平衡的方法和装置，其通过含有与基板的位置、速度和加速度相关的信息的时间表，和对应时间表内的信息而起减少局部蒸发和/或增加局部冷凝作用的蒸发控制器或冷凝控制器来实现。基板表面的水分的蒸发使其冷却，而冷凝到基板底表面的水分将该基板局部加热。
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公开(公告)号：CN100504604C
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200410045162.3
申请日：2004-04-29
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·C·M·贾斯佩 , M·K·M·巴根 , R·J·布鲁斯 , H·A·L·范迪克 , G·C·J·霍夫曼斯 , A·J·M·詹森 , C·C·M·鲁伊坦 , W·R·庞格斯 , M·G·D·维伦斯 , T·尤特迪克 , O·S·西西里亚 , H·布姆 , M·J·L·M·德马特奥
CPC分类号： G03F7/70258 , G03F1/62 , G03F1/64 , G03F1/82 , G03F7/70308 , G03F7/70983
摘要： 一种厚薄膜被允许具有不平坦的外形并且其外形被特性化以计算用于曝光中的校正量，来补偿所述薄膜的光学效果。所述薄膜可以被设置得采用重力作用下的一维外形，以便更容易地进行补偿。
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公开(公告)号：CN101819388A
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN201010186504.9
申请日：2006-06-20
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·H·W·雅各布斯 , N·坦卡特 , M·H·A·李恩德斯 , E·R·卢普斯特拉 , M·C·M·弗哈根 , H·布姆 , F·J·J·詹森 , I·P·M·鲍查姆斯 , N·R·坎帕 , J·J·奥坦斯 , Y·科克 , J·范埃斯
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70875
摘要： 本发明涉及用于保持基板和浸没光刻装置的热平衡的方法和装置，其通过含有与基板的位置、速度和加速度相关的信息的时间表，和对应时间表内的信息而起减少局部蒸发和/或增加局部冷凝作用的蒸发控制器或冷凝控制器来实现。基板表面的水分的蒸发使其冷却，而冷凝到基板底表面的水分将该基板局部加热。
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公开(公告)号：CN1885171A
公开(公告)日：2006-12-27
申请号：CN200610107688.9
申请日：2006-06-20
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·H·W·雅各布斯 , N·坦卡特 , M·H·A·李恩德斯 , E·R·卢普斯特拉 , M·C·M·弗哈根 , H·布姆 , F·J·J·詹森 , I·P·M·鲍查姆斯 , N·R·坎帕 , J·J·奥坦斯 , Y·科克 , J·范埃斯
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70875
摘要： 本发明涉及用于保持基板和浸没光刻装置的热平衡的方法和装置，其通过含有与基板的位置、速度和加速度相关的信息的时间表，和对应时间表内的信息而起减少局部蒸发和/或增加局部冷凝作用的蒸发控制器或冷凝控制器来实现。基板表面的水分的蒸发使其冷却，而冷凝到基板底表面的水分将该基板局部加热。
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