自动温度控制设备
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1153625C

    公开(公告)日:2004-06-16

    申请号:CN01115806.9

    申请日:2001-04-30

    发明人: 稻实淳史

    IPC分类号: B01L7/00 G05D23/00

    摘要: 一种自动温度控制设备,包含:一用于容纳器皿的反应室;一用于支承器皿的托盘;一用于对至少反应室内的温度进行控制的温度控制部分;一输送机构,用于滑移托盘,使托盘可以顺畅地进入反应室或由反应室内拉出;一第一罩盖件,用于在利用所述输送机构将所述托盘置入反应室内时对反应室进行紧密闭合;一第二罩盖件,用于利用所述输送机构将所述托盘由反应室内拉出时对反应室进行紧密闭合。

    对耐火材料进行处理使其硬化的红外线加热方法和设备

    公开(公告)号:CN1441754A

    公开(公告)日:2003-09-10

    申请号:CN01812596.4

    申请日:2001-07-12

    IPC分类号: C04B35/66 B22D41/02

    摘要: 本发明提供了一种用于对耐火材料进行处理使其硬化的方法和设备。所述设备包括一个型芯,该型芯具有一个由其内表面在其内部限定而成的开口,其中,该型芯的尺寸被加工使该型芯成能够装配到一个容器内并且在它们之间限定出一个间隙,该间隙的厚度对应于一个容器耐火衬里的预定厚度。一个红外线加热器被置于型芯上的开口内,并且被定向设置成对型芯的内表面进行辐射。所述用于对耐火材料进行处理使其硬化的方法包括,将一种耐火材料送入到一个位于一型芯与一中间包之间的间隙内,由多个红外线加热元件向型芯的内表面辐射红外线热能,利用通过型芯传递至耐火材料上的热量对所述间隙内的耐火材料进行处理,来成型一个用于所述中间包的耐火材料衬里。

    自动温度控制设备
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1329252A

    公开(公告)日:2002-01-02

    申请号:CN01115806.9

    申请日:2001-04-30

    发明人: 稻实淳史

    IPC分类号: G01N35/00

    摘要: 一种自动温度控制设备,包含:一用于容纳器皿的反应室;一用于支承器皿的托盘;一用于对至少反应室内的温度进行控制的温度控制部分;一输送机构,用于滑移托盘,使托盘可以顺畅地进入反应室或由反应室内拉出;一第一罩盖件,用于在利用所述输送机构将所述托盘置入反应室内时对反应室进行紧密闭合;一第二罩盖件,用于利用所述输送机构将所述托盘由反应室内拉出时对反应室进行紧密闭合。

    快速高温处理的装置
    9.
    实用新型

    公开(公告)号:CN2793916Y

    公开(公告)日:2006-07-05

    申请号:CN200520001537.6

    申请日:2005-01-27

    IPC分类号: H01L21/324 H01L21/477

    摘要: 本实用新型是一种半导体基板的快速高温处理的装置,该装置包括一热源与一反射器,该热源提供快速高温处理的辐射热能,该反射器将该辐射热能予以反射,并将反射的辐射热能导至半导体基板的背面。本实用新型的效果在于热源发出的辐射热能被导至半导体基板的背面,而半导体基板的正面未被辐射热能所照射,于是,半导体基板正面的图案不会影响到热流的均匀性,再者,由于热源并未安置于半导体基板的正面,便可在半导体基板的正面设置一高温计,由此可以准确地量测半导体基板正面的实际温度,以对热源的个别加热灯管所发射的辐射热能进行实时控制,而达成热能均匀分布。