形成HTS制品的方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101978435A

    公开(公告)日:2011-02-16

    申请号:CN200980110672.5

    申请日:2009-02-17

    IPC分类号: H01B12/00

    CPC分类号: H01L39/247

    摘要: 一种形成超导制品的方法,该方法包括提供基材带,形成覆盖在该基材带上的超导层,沉积覆盖在超导层上的覆层。所述覆层包含贵金属,其厚度不大于约1.0微米。该方法还包括使用对超导层非反应性的溶液,将该溶液电沉积覆盖在覆层上形成稳定层。超导层具有形成后的临界电流IC(AF)和稳定后的临界电流IC(PS)。IC(PS)至少约为IC(AF)的95%。