Sensor-Chips mit Polysiloxan-Mehrfachschichten
    91.
    发明公开
    Sensor-Chips mit Polysiloxan-Mehrfachschichten 有权
    传感器芯片,聚硅氧烷 - Mehrfachschichten

    公开(公告)号:EP1176422A1

    公开(公告)日:2002-01-30

    申请号:EP00116342.7

    申请日:2000-07-27

    IPC分类号: G01N33/52

    摘要: Die Erfindung betrifft Sensor-Chips mit Polysiloxan-Mehrfachschichten mit verbesserter Homogenität.

    摘要翻译: 传感器芯片(I)具有金属氧化物或半金属氧化物的载体表面,已经通过离心,刮刀,喷涂,刷涂或浸涂等施加了均匀的聚硅氧烷多层。 包括用于如(I)中所述的用于浸涂传感器芯片的设备的独立权利要求,其包括具有用于接收相应尺寸的载体的多个开口狭缝的保持器(优选地,狭缝的尺寸使得最窄的上侧 可以容纳对象载体)。

    BIOLOGISCHE BINDEMOLEKÜLE
    92.
    发明公开

    公开(公告)号:EP3424528A1

    公开(公告)日:2019-01-09

    申请号:EP18162672.2

    申请日:2018-03-19

    IPC分类号: A61K39/395 A61P35/02

    摘要: Die vorliegende Erfindung betrifft das Gebiet der Herstellung, Identifizierung und Selektion von biologischen Bindemolekülen wie Antikörpern oder Fragmenten derselben, sowie deren Verwendung im Rahmen der Therapie und Prophylaxe von Krebserkrankungen wie insbesondere malignen B-Zell Neoplasien.
    Die Bindemoleküle sind in der Lage, selektiv an autonom aktive oder autonom aktivierte B-Zell Rezeptoren zu binden, wobei die autonom aktiven oder autonom aktivierten B-Zell Rezeptoren durch das Vorhandensein von strukturellen Domänen charakterisiert sind, an die das Bindemolekül selektiv bindet und die für den autonom aktiven oder autonom aktivierten Zustand der B-Zell Rezeptoren ursächlich sind.

    DIAGNOSTISCHES VERFAHREN
    93.
    发明公开

    公开(公告)号:EP3424527A1

    公开(公告)日:2019-01-09

    申请号:EP18162666.4

    申请日:2018-03-19

    IPC分类号: A61K39/395 A61P35/02

    摘要: Die vorliegende Erfindung betrifft das Gebiet der Herstellung, Identifizierung und Selektion von biologischen Bindemolekülen wie Antikörpern oder Fragmenten derselben, sowie diagnostische Verfahren unter Verwendung derselben im Rahmen der Diagnose von Krebserkrankungen wie insbesondere malignen B-Zell Neoplasien.
    Die Bindemoleküle sind in der Lage, selektiv an autonom aktive oder autonom aktivierte B-Zell Rezeptoren zu binden, wobei die autonom aktiven oder autonom aktivierten B-Zell Rezeptoren durch das Vorhandensein von strukturellen Domänen charakterisiert sind, an die das Bindemolekül selektiv bindet und die für den autonom aktiven oder autonom aktivierten Zustand der B-Zell Rezeptoren ursächlich sind.

    System und Verfahren zur Wasseraufbereitung
    99.
    发明公开
    System und Verfahren zur Wasseraufbereitung 有权
    系统和Verfahren zur Wasseraufbereitung

    公开(公告)号:EP2474506A1

    公开(公告)日:2012-07-11

    申请号:EP10015618.1

    申请日:2010-12-14

    摘要: Die Erfindung betrifft allgemein das Gebiet der Wasseraufbereitung. Insbesondere betrifft die Erfindung ein System und ein Verfahren zur Leitung von Flüssigkeiten wie insbesondere von Wasser, mit dem unerwünschte Bestandteile in einer zumindest vorübergehend ruhenden oder strömungsfrei gestellten Flüssigkeit wirksam reduziert oder eliminiert werden können.
    Das erfindungsgemäße System zur Leitung von Flüssigkeiten umfasst in Strömungsrichtung (S) einen ersten Abschnitt (1) mit einer Einspeisestelle (11), einen zweiten Abschnitt (2) in Form einer Einrichtung zur mechanischen Abscheidung (21) von unerwünschten Bestandteilen, und einen dritten Abschnitt (3) mit mindestens einer Entnahmestelle (31), wobei der dritte Abschnitt (3) eine Verbindung (32) zu einem vierten Abschnitt (4) aufweist, über den das Flüssigkeitsvolumen des dritten Abschnittes zumindest teilweise der Einrichtung zur mechanischen Abscheidung (21) zuführbar ist.
    Das erfindungsgemäße Verfahren betrifft die Reduzierung der Belastung das im dritten Abschnitt (3) vorübergehend stillstehenden Flüssigkeitsvolumens unter bevorzugter Verwendung des erfindungsgemäßen Systems.

    摘要翻译: 系统具有带供应点(11)的第一部分(1)。 第二部分(2)以微生物的机械分离装置(21)的形式提供。 第三部分(3)设有攻丝点(31)。 第三部分(3)通过连接部分(32)连接到第四部分(4)。 液体从第三部分提供给用于机械分离的装置(21),以便在绕第二部分时防止微生物沿流动方向(S)流动。 包括减少微生物污染的方法的独立权利要求。

    VERFAHREN ZUM ABTRAGEN VON SUBSTRATSCHICHTEN
    100.
    发明公开
    VERFAHREN ZUM ABTRAGEN VON SUBSTRATSCHICHTEN 审中-公开
    方法去除基底层

    公开(公告)号:EP2460176A1

    公开(公告)日:2012-06-06

    申请号:EP09799542.7

    申请日:2009-12-18

    申请人: RENA GmbH

    CPC分类号: H01L21/67086 H01L21/31111

    摘要: The present invention relates to a method for the exclusively one-sided wet chemical removal of passivating and/or dielectric oxide layers present on flat substrates, such as in particular silicon wafers, by means of one-sided etching of the underside of a substrate transported horizontally through a tank filled with an etching liquid. When said method is used, there is no need for any protection in the form of a coating or mechanical aid for the face of the substrate that is not to be treated. According to the invention, the etching liquid contains water, hydrofluoric acid and at least one further component selected from the group consisting of sulphuric and phosphoric acid and the alkali, ammonium and organoammonium acid salts and salts thereof, hexafluorosilicic acid, and silicon tetrafluoride.