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    LARGE-AREA UNIFORM ELECTRON SOURCE
    22.
    发明授权
    LARGE-AREA UNIFORM ELECTRON SOURCE 失效
    GROSSFLÄCHIGEUNIFORME ELEKTRONENQUELLE

    公开(公告)号：EP0395752B1

    公开(公告)日：1996-03-06

    申请号：EP90900452.5

    申请日：1989-11-14

    Applicant: ELECTRON VISION CORPORATION

    Inventor： LIVESAY, William, R.

    IPC: H01J37/077

    CPC classification number: H01J37/077 ,  H01J3/025

    Abstract: A large-area electron source (22) which can operate continuously, stably, and indefinitely in a poor vacuum (20) environment. The source includes a glow discharge cathode, appropriately positioned with respect to a target anode (30) and a fine-mesh grid (26) spaced from the cathode (22) by a distance less than the mean free path length of electrons leaving the cathode (22), the grid (26) being electrically biased to control the electron beam current over a wide range with only small grid voltage changes. An accelerating voltage (29) applied to the cathode (22) can be varied continuously from as low as a few hundred volts to 30 KeV or greater and the source will continue to operate satisfactorily. Further, the grid (26) is made of a fine mesh wire of sufficiently small dimensions as to not be resolvable in the target plane (30). A further refinement of the device utilizes scanning coils (34) to achieve additional uniformity of the incident beam at the target plane (30). The basic apparatus of the invention can be combined with other features, for use in shadow mask lithography, resist sensitivity measurement, lift off processing, and resist curing.

    Source d'électrons
    25.
    发明公开
    Source d'électrons 失效
    电子源。

    公开(公告)号：EP0300932A1

    公开(公告)日：1989-01-25

    申请号：EP88420256.5

    申请日：1988-07-20

    Applicant: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE

    Inventor： Menet, Jacques ,  De Gabrielli, Olivier

    IPC: H01J3/02

    CPC classification number: H01J3/025

    Abstract: La présente invention concerne une source d'électrons comprenant, dans une enceinte à basse pression, une anode (A), une cathode (K) et des moyens d'application d'un champ magnétique (13). La cathode est constituée d'une cavité équipotentielle (10) munie d'une ouverture (11) du côté de l'anode. Le champ magnétique est appliqué parallèlement à la direction anode-cathode au niveau de l'ouverture.

    Linear electron source, evaporator using linear electron source, and applications of electron sources
    27.
    发明公开
    Linear electron source, evaporator using linear electron source, and applications of electron sources 审中-公开
    Lineare Elektronenquelle sowie Elektronenstrahlverdampfer mit linearer Elektronenquelle und deren Anwendungen

    公开(公告)号：EP2073243A1

    公开(公告)日：2009-06-24

    申请号：EP07024958.6

    申请日：2007-12-21

    Applicant: Applied Materials, Inc.

    Inventor： Klemm, Günter ,  Hacker, Volker ,  Lotz, Hans-Georg

    IPC: H01J3/02 ,  H01J37/077 ,  H01J37/305 ,  C23C14/30 ,  G21K5/04 ,  B32B37/00 ,  H01J1/32

    CPC classification number: H01J37/077 ,  H01J3/025 ,  H01J37/3053

    Abstract: A linear plasma electron source (100) is provided. The linear plasma electron source includes a housing (112) acting as a first electrode, the housing having side walls (312), a slit opening (114) in the housing for trespassing of a electron beam, the slit opening defining a length direction of the source, a second electrode (110) being arranged within the housing and having a first side (413) facing the slit opening, the first side being spaced from the slit opening by a first distance, wherein the length of the electron source in the length direction is at least 5 times the first distance, and at least one gas supply (70) for providing a gas into the housing.

    Abstract translation: 提供线性等离子体电子源（100）。 线性等离子体电子源包括用作第一电极的壳体（112），壳体具有侧壁（312），壳体中用于侵入电子束的狭缝开口（114），缝隙开口限定长度方向 所述源极，第二电极（110）布置在所述壳体内并且具有面向所述狭缝开口的第一侧面（413），所述第一侧面与所述狭缝开口间隔开第一距离，其中所述电子源的长度在 长度方向为第一距离的至少5倍，以及用于将气体提供到壳体中的至少一个气体供应源（70）。

    Quelle zur Erzeugung von grossflächigen, gepulsten Ionen- und Elektronenstrahlen
    30.
    发明公开
    Quelle zur Erzeugung von grossflächigen, gepulsten Ionen- und Elektronenstrahlen 失效
    Quelle zur Erzeugung vongrossflächigen，gepulsten Ionen- und Elektronenstrahlen

    公开(公告)号：EP0810628A2

    公开(公告)日：1997-12-03

    申请号：EP97105519.9

    申请日：1997-04-03

    Applicant: Forschungszentrum Karlsruhe GmbH

    Inventor： Engelko, Vladimir, Dr. ,  Giese, Harald ,  Müller, Georg ,  Schalk, Sven ,  Schultheiss, Christoph, Dr. ,  Würz, Hermann, Dr.

    IPC: H01J33/00 ,  H01J3/02 ,  H01J3/04 ,  H01J27/08 ,  H01J29/48 ,  H01J37/077 ,  H01J37/317 ,  H01J1/00

    CPC classification number: H01J37/08 ,  H01J3/025 ,  H01J27/08 ,  H01J37/077

    Abstract: Die Erfindung betrifft eine Quelle zur Erzeugung von gepulsten Ionen- und Elektronenstrahlen.
    Mit ihr wird ein in seinem Strahlquerschnitt großflächiger Strom geladener Teilchen erzeugt. Die Vakuum-Bogenplasmaquelle wird durch eine den Gesamtstrom bestimmende Last, die aus der Parallelschaltung eines ohmschen Widerstands mit einem Kondensator besteht, zur sichern Zündung geführt. Diese Last ist an den Innenwiderstand des Pulsspannungsgenerators leistungsangepaßt. Die Dimensionierung der elektrischen Bauteile an den Elektroden unter Berücksichtigung vorgegebener Schranken ermöglicht einen in seinem Strahlquerschnitt homogenen Strom geladener Teilchen, der aus ein und demselben Ladungsteilchen bei gleichen Zündelektroden oder aus einem strukturierten Strom unterschiedlicher Teilchensorten bei unterschiedlichem Zündelektrodenmaterial besteht.

    Abstract translation: 将源放置在具有四个高压馈通（F1-F4）的真空室（VC）中。 放电阳极（DE）具有孔的图案，电线（NE）从连接到集电器（K）的串联电阻（R0）突出。 阳极侧栅格（AG）具有围绕其边缘形成的聚焦电极（AFE）。 两个阴极侧栅格中的一个（CG1）具有类似的外围电极（CFE）。 从电容器（Ca）与电阻器（Ra）并联的电极和放电阳极之间产生电弧，限制了离子电流。

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