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    AN ACTUATOR
    32.
    发明公开
    AN ACTUATOR 审中-公开
    执行器

    公开(公告)号：EP2771732A1

    公开(公告)日：2014-09-03

    申请号：EP12775177.4

    申请日：2012-09-25

    Applicant: Lemoptix SA

    Inventor： GAMET, Julien ,  KHECHANA, Faouzi

    IPC: G02B26/08 ,  B81B3/00

    CPC classification number: H02K33/00 ,  B81B3/0072 ,  B81B2201/038 ,  B81B2201/042 ,  B81B2203/058 ,  G02B26/08 ,  G02B26/085 ,  H02K9/22 ,  H02K33/02 ,  H02K33/16

    Abstract: According to the present invention there is provided an actuator comprising, a movable member, the movable member comprising a support frame which is configured such that it can oscillate about a first oscillation axis and a mirror which is fixed to the support frame such that oscillation of the support frame will effect oscillation of the mirror; an coil, which cooperates with the support frame; one or more boundary portions provided between the support frame and the mirror which reduce the influence of warp transmitted from an edge of the support frame to the mirror, as the support frame oscillates about the first oscillation axis; wherein the support frame further comprises one or more cut-out regions, wherein the one or more cut-out regions are configured to be parallel to at least a portion of the coil, to reduce stress on the coil as the support frame oscillates about the first oscillation axis and/or to reduce the temperature dependence of the properties of the actuator.

    Abstract translation: 根据本发明，提供了一种致动器，包括：一个可移动部件，该可移动部件包括一个支撑框架，该支撑框架构造成可以围绕第一摆动轴线摆动;以及镜子，固定在支撑框架上， 支架会影响反光镜的摆动; 与支撑框架配合的线圈; 当所述支撑框围绕所述第一摆动轴线摆动时，在所述支撑框架和所述镜子之间设置一个或多个边界部分，所述边界部分减少从所述支撑框架的边缘传输到所述镜子的翘曲的影响; 其中所述支撑框架还包括一个或多个切除区域，其中所述一个或多个切除区域被配置为平行于所述线圈的至少一部分，以在所述支撑框架围绕所述线圈振荡时减小所述线圈上的压力 第一摆动轴线和/或降低致动器的特性的温度依赖性。

    Actionneur électrostatique d'une structure mobile à relaxation améliorée des charges piégées
    35.
    发明公开
    Actionneur électrostatique d'une structure mobile à relaxation améliorée des charges piégées 审中-公开
    移动结构的静电致动器具有改进的俘获电荷松弛

    公开(公告)号：EP2495866A1

    公开(公告)日：2012-09-05

    申请号：EP12354011.4

    申请日：2012-02-23

    Applicant: Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives

    Inventor： Nowodzinski, Antoine

    IPC: H02N1/00 ,  B81B3/00

    CPC classification number: H02N1/006 ,  B81B3/0086 ,  B81B2201/038

    Abstract: Le dispositif comporte un premier plot d'actionnement (5) en matériau électriquement conducteur avec une première surface de contact. Un second plot d'actionnement (6) en matériau électriquement conducteur fait face au premier plot d'actionnement (5). Un circuit d'actionnement (7) électrostatique déplacent les plots d'actionnement (5, 6) l'un par rapport à l'autre entre une première position et une autre position. Le circuit d'actionnement (7) comporte un dispositif d'application d'un potentiel plus important sur le second plot d'actionnement (6) que sur le premier plot d'actionnement (5). Un film (8) en matériau électriquement isolant réalise l'isolation électrique entre les premier (5) et second (6) plots. Le film (8) en matériau électriquement isolant comporte une interface avec une source (11) en ions positifs et est perméable auxdits ions positifs. La source en ions positifs (11) est dépourvue de vapeur d'eau.

    Abstract translation: 该致动器具有第一和第二致动凸块（5,6）由电传导材料，例如 掺杂的半导体材料，并设置有respectivement接触表面。 静电促动回路（7）相对于彼此移动所述凸块。 正离子源不包含水蒸气。 电绝缘电影（8）确保了凸块，并且包括之间的电绝缘用正离子源的接口。 该膜是可渗透的正离子。 第二凸块是通过在附加的电绝缘电影覆盖。 正离子选自氢，锂，钠，钾和钙离子。 正离子源是由填充有液体或气体的材料释放的正离子的多孔材料形成。

    A method of manufacturing an electronic device and electronic device
    37.
    发明公开
    A method of manufacturing an electronic device and electronic device 审中-公开
    一种用于生产电子器件和电子器件的工艺

    公开(公告)号：EP2444368A2

    公开(公告)日：2012-04-25

    申请号：EP12151592.8

    申请日：2004-10-26

    Applicant: Epcos AG

    Inventor： Van Beek, Jozef T. M. ,  Ulenaers, Mathieu J. E.

    IPC: B81B3/00 ,  B81C1/00

    CPC classification number: H01G5/18 ,  B81B3/0078 ,  B81B2201/016 ,  B81B2201/038 ,  B81B2203/04 ,  B81B2203/053 ,  H01H59/0009 ,  H01H2057/006 ,  H01H2239/01

    Abstract: A method of manufacturing a micro-electromechanical systems (MEMS) device, comprising providing a base layer (10) and a mechanical layer (12) on a substrate (14), providing a sacrificial layer (16) between the base layer (10) and the mechanical layer (12), providing an etch stop layer (18) between the sacrificial layer (16) and the substrate (14), and removing the sacrificial layer (16) by means of dry chemical etching, wherein the dry chemical etching is performed using a fluorine-containing plasma, and the etch stop layer (18) comprises a substantially non-conducting, fluorine chemistry inert material, such as Hf02, ZrO2, Al203 or TiO2

    Abstract translation: 一种制造微机电系统（MEMS）设备，包括：提供在衬底的基座层（10）和一个机械层（12）（14），提供所述基底层之间的牺牲层（16）的方法（10） 与机械层（12）提供在所述牺牲层（16）和基板（14），并去除由干式化学蚀刻的方式在牺牲层（16）之间的蚀刻停止层（18），所述worin干式化学蚀刻 使用含氟等离子体被执行，并且蚀刻停止层（18）包括基本上不导电，氟化学惰性材料，颜色：如的HfO 2，氧化锆，AL203或TiO

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