公开(公告)号：EP2435206B1

公开(公告)日：2016-11-09

申请号：EP09845328.5

申请日：2009-09-30

申请人： COLORADO STATE UNIVERSITY RESEARCH FOUNDATION

发明人： KOO, Il-Gyo ,  CHO, Jin-Hoon ,  MOORE, Cameron A. ,  COLLINS, George J. ,  ANTIOCO, Douglas K.

IPC分类号： H05H1/24 ,  A61B18/04

CPC分类号： H05H1/24 ,  A61B18/042 ,  C23C16/513 ,  H01J37/32348 ,  H01J37/3255 ,  H05H1/2406 ,  H05H2001/2412 ,  H05H2001/2418 ,  H05H2001/2431 ,  H05H2001/2443 ,  H05H2001/245

公开(公告)号：EP2460595A3

公开(公告)日：2016-05-04

申请号：EP11191719.1

申请日：2011-12-02

申请人： Innovent e.V.

发明人： Schmidt, Jürgen ,  Heft, Andreas ,  Horn, Kerstin ,  Struppert, Thomas ,  Pfuch, Andreas ,  Grünler, Bernd

IPC分类号： C23C4/12 ,  C23C4/02 ,  C23C4/10 ,  C23C4/18 ,  C23C16/02 ,  C23C16/30 ,  C23C16/40 ,  C23C16/54 ,  C23C16/56 ,  C22F1/06 ,  C23C16/453

CPC分类号： C23C16/401 ,  C22F1/06 ,  C23C4/02 ,  C23C4/10 ,  C23C4/11 ,  C23C4/129 ,  C23C4/134 ,  C23C4/18 ,  C23C16/0254 ,  C23C16/30 ,  C23C16/453 ,  C23C16/513 ,  C23C16/545 ,  C23C16/56

摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zur Herstellung eines mit zumindest einer Korrosionsschutzschicht (K) beschichteten magnesiumhaltigen Substrats (S). Erfindungsgemäß ist ein Umformwerkzeug (2) zur Umformung des Substrats (S) vorgesehen und in das Umformwerkzeug (2) sind bzw. ist eine Flammenbeschichtungseinheit (3) und/oder eine Plasmabeschichtungseinheit (5) zum Auf- und/oder Einbringen der zumindest einen Korrosionsschutzschicht (K) unmittelbar nach einem Umformprozess, zwischen mehreren Umformprozessen und/oder vor einem Umformprozess integriert.
Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zur Herstellung eines mit zumindest einer Korrosionsschutzschicht (K) beschichteten magnesiumhaltigen Substrats (S). Erfindungsgemäß wird das Substrat (S) mittels eines Umformwerkzeugs (2) umgeformt und auf und/oder in das Substrat (S) wird innerhalb des Umformwerkzeugs (2) unmittelbar nach einem Umformprozess, zwischen mehreren Umformprozessen und/oder vor einem Umformprozess mittels einer in das Umformwerkzeug (2) integrierten Flammenbeschichtungseinheit (3) und/oder Plasmabeschichtungseinheit (5) die zumindest eine Korrosionsschutzschicht (K) auf-und/oder eingebracht.

公开(公告)号：EP2872668A4

公开(公告)日：2016-03-02

申请号：EP13816517

申请日：2013-07-15

申请人： GALLIUM ENTPR PTY LTD

发明人： BARIK SATYANARAYAN ,  WINTREBERT EP FOUQUET MARIE-PIERRE FRANCOISE ,  MANN IAN

IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/30 ,  C23C16/52 ,  H01J37/32

CPC分类号： C23C16/455 ,  C01B21/0632 ,  C23C16/303 ,  C23C16/452 ,  C23C16/45536 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/513 ,  H01B1/06 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/3244 ,  H01L21/0254 ,  H01L21/0257 ,  H01L21/0262 ,  H01L29/2003

摘要： An apparatus and method for forming a thin film on a substrate by RPCVD which provides for very low levels of carbon and oxygen impurities and includes the steps of introducing a Group VA plasma into a first deposition zone of a growth chamber, introducing a Group IIIA reagent into a second deposition zone of the growth chamber which is separate from the first deposition zone and introducing an amount of an additional reagent selected from the group consisting of ammonia, hydrazine, di-methyl hydrazine and a hydrogen plasma through an additional reagent inlet into the second deposition zone such that the additional reagent and the Group IIIA reagent mix prior to deposition.

公开(公告)号：EP2864519A4

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：EP13806941

申请日：2013-06-21

申请人： FRITO LAY NORTH AMERICA INC

发明人： GODFROID ROBERT ,  JORDAN GLENN ,  KNOERZER ANTHONY ROBERT ,  LAVERDURE KENNETH SCOTT ,  MOUNT ELDRIDGE M

IPC分类号： C23C4/10 ,  C23C4/00 ,  C23C16/02 ,  C23C16/27 ,  C23C16/40 ,  C23C16/453 ,  C23C16/46 ,  C23C16/50 ,  C23C16/513 ,  C23C16/54 ,  C23C16/56

CPC分类号： B65D65/42 ,  C23C4/00 ,  C23C16/02 ,  C23C16/0218 ,  C23C16/0272 ,  C23C16/275 ,  C23C16/401 ,  C23C16/403 ,  C23C16/453 ,  C23C16/463 ,  C23C16/513 ,  C23C16/545 ,  C23C16/56

公开(公告)号：EP2691197B1

公开(公告)日：2015-12-30

申请号：EP12719468.6

申请日：2012-03-30

申请人： Norsk Titanium AS

发明人： STEMPFER, Ferdinand

IPC分类号： B22F3/105 ,  B23K26/34

CPC分类号： B23K9/044 ,  B22F3/105 ,  B22F3/1055 ,  B23K9/042 ,  B23K9/08 ,  B23K9/09 ,  B23K9/1006 ,  B23K9/125 ,  B23K9/167 ,  B23K9/173 ,  B23K9/23 ,  B23K10/027 ,  B23K2203/14 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B33Y40/00 ,  B33Y50/00 ,  B33Y50/02 ,  C22C14/00 ,  C23C16/513 ,  C23C16/52 ,  Y02P10/295

公开(公告)号：EP2823079A4

公开(公告)日：2015-11-11

申请号：EP13751835

申请日：2013-02-25

申请人： TREADSTONE TECHNOLOGIES INC

发明人： WANG CONGHUA

IPC分类号： C23C4/08 ,  C23C4/18 ,  C23C8/10 ,  C23C16/513 ,  C23C26/00 ,  C23C28/00 ,  C25B9/10 ,  C25B11/04 ,  C25D11/02 ,  C25D11/26 ,  H01M2/16 ,  H01M4/02 ,  H01M8/02 ,  H01M8/18 ,  H01M8/20

CPC分类号： C25B9/10 ,  C23C4/08 ,  C23C4/18 ,  C23C8/10 ,  C23C16/513 ,  C23C28/321 ,  C23C28/3455 ,  C25B11/0478 ,  C25B13/04 ,  C25D11/022 ,  C25D11/26 ,  H01M2/1686 ,  H01M4/02 ,  H01M4/36 ,  H01M4/8647 ,  H01M8/0202 ,  H01M8/0208 ,  H01M8/0228 ,  H01M8/0245 ,  H01M8/188 ,  H01M8/20 ,  Y02E60/50 ,  Y02E60/528

摘要： Methods for coating a metal substrate or a metal alloy with electrically conductive titania-based material. The methods produce metal components for electrochemical devices that need high electrical conductance, corrosion resistance and electrode reaction activities for long term operation at a low cost.

公开(公告)号：EP2917381A1

公开(公告)日：2015-09-16

申请号：EP13785462.6

申请日：2013-10-31

申请人： AREVA NP ,  Nitruvid

发明人： DELMAS, Bernard ,  HERTZ, Dominique ,  LEBRUN, Jean-Paul ,  LIS, Bernard ,  POIRIER, Laurent

IPC分类号： C23C4/00 ,  C23C8/04 ,  C23C14/04 ,  C23C16/04

CPC分类号： B05D5/00 ,  B05C21/005 ,  B05D1/32 ,  B05D7/14 ,  B05D7/146 ,  C23C8/04 ,  C23C16/042 ,  C23C16/22 ,  C23C16/513

摘要： A method for thermochemically treating a part while masking a portion and corresponding mask are provided. The method includes the steps of providing a mask comprising a body with a seat, at least a deformable sealing washer located in the seat, and a tightening bushing, the body having a cavity, placing a first portion of the part in the cavity, a second portion of the part being located in a passage in the sealing washer, and a third portion of the part being located outside the mask, moving the tightening bushing to its tightened position so that the sealing washer is deformed and applied against the second portion of the part, and applying a thermochemical treatment to the third portion of the part.

摘要翻译： 提供了一种用于热化学处理的一部分同时掩盖部分和相应的掩码方法。 该方法包括提供一掩模，其包括主体与座椅的步骤，至少位于座椅的可变形的密封垫圈和拧紧衬套，具有腔的主体，将所述部分的第一部分中的空腔中，一个 部件的第二部分位于所述密封垫圈的通道，并且所述部分的第三部分位于所述掩模以外，紧固衬套移动到其紧固位置所以没有密封垫变形和应用对的所述第二部分 的部分，以及施加热化学处理以将部分的第三部分。

公开(公告)号：EP2872668A1

公开(公告)日：2015-05-20

申请号：EP13816517.0

申请日：2013-07-15

申请人： Gallium Enterprises Pty Ltd

发明人： BARIK, Satyanarayan ,  WINTREBERT EP FOUQUET, Marie-Pierre Francoise ,  MANN, Ian

IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/52

CPC分类号： C23C16/455 ,  C01B21/0632 ,  C23C16/303 ,  C23C16/452 ,  C23C16/45536 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/513 ,  H01B1/06 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/3244 ,  H01L21/0254 ,  H01L21/0257 ,  H01L21/0262 ,  H01L29/2003

摘要： An apparatus and method for forming a thin film on a substrate by RPCVD which provides for very low levels of carbon and oxygen impurities and includes the steps of introducing a Group VA plasma into a first deposition zone of a growth chamber, introducing a Group IIIA reagent into a second deposition zone of the growth chamber which is separate from the first deposition zone and introducing an amount of an additional reagent selected from the group consisting of ammonia, hydrazine, di-methyl hydrazine and a hydrogen plasma through an additional reagent inlet into the second deposition zone such that the additional reagent and the Group IIIA reagent mix prior to deposition.

公开(公告)号：EP2194162B1

公开(公告)日：2014-10-15

申请号：EP09178044.5

申请日：2009-12-04

申请人： Innovent e.V.

发明人： Schimanski, Arnd ,  Grünler, Bernd ,  Pfuch, Andreas ,  Heft, Andreas ,  Polster, Martin

IPC分类号： C23C16/513 ,  C23C16/40

CPC分类号： C23C16/513 ,  C23C16/401 ,  C23C16/453

公开(公告)号：EP2739767A1

公开(公告)日：2014-06-11

申请号：EP12745406.4

申请日：2012-08-02

申请人： IP Plasma & Brands GmbH

发明人： SPETH, Willy

IPC分类号： C23C16/513 ,  F16B2/00

CPC分类号： C23C16/513 ,  C23C4/06 ,  C23C4/134 ,  C23C16/276 ,  C23C16/325 ,  F16B2/005 ,  Y10T428/2438

摘要： The present invention provides an advantageous method for producing a coating which increases the friction coefficient (3) on a surface (5) of a component (6), wherein the method comprises the following steps: a) activating hard particles (1) that are coated in part or entirely by an adhesive (2) in a non-thermal plasma (low-temperature plasma) under atmospheric pressure; and b) producing the layer (3) which increases the friction coefficient on the surface (5) of the component (6) by depositing the hard particles (1) activated by the non-thermal atmospheric pressure plasma and coated with the adhesive (2) on the surface (5) of the component (6). Said method is particularly more economic for components with complex forms or large dimensions than known methods. No matrix or intermediary layers are required for anchoring the hard particles. The hard particles engage directly in the contact surfaces.