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1.

发明公开
FORMULATIONS FOR WET ETCHING NIPT DURING SILICIDE FABRICATION 审中-公开
标题翻译： NIPT在硅化物制造过程中的氮化方法

公开(公告)号：EP2847364A4

公开(公告)日：2015-10-28

申请号：EP13787810

申请日：2013-05-10

申请人： ENTEGRIS INC

发明人： CHEN TIANNIU , BILODEAU STEVEN M , COOPER EMANUEL I , CHEN LI-MIN , BARNES JEFFREY A , BISCOTTO MARK , BOGGS KARL E , RAJARAM REKHA

IPC分类号： C23F1/08 , H01L21/302

CPC分类号： H01L21/32134 , C23F1/28 , C23F1/30 , C23F1/44 , H01L21/02068 , H01L21/28518

2.

发明公开
LITHOGRAPHIC TOOL IN SITU CLEAN FORMULATIONS 审中-公开
标题翻译：原位清洁制剂用于光刻工具

公开(公告)号：EP2391700A4

公开(公告)日：2016-08-31

申请号：EP10736288

申请日：2010-01-26

申请人： ENTEGRIS INC

发明人： CHEN TIANNIU , BILODEAU STEVEN , BOGGS KARL E , JIANG PING , KORZENSKI MICHAEL B , MIRTH GEORGE , VAN BERKEL KIM

IPC分类号： C11D3/43 , C11D1/66 , C11D1/825 , C11D3/20 , C11D3/44 , C11D11/00

CPC分类号： C11D11/0041 , C11D1/66 , C11D1/667 , C11D1/825 , C11D3/2072 , C11D3/2093 , C11D3/43 , C11D11/0047 , G03F7/70341 , G03F7/70925

摘要： Compositions and methods of using said composition for removing polymeric materials from surfaces, preferably cleaning contaminant buildup from a lithography apparatus without total disassembly of said apparatus.

3.

发明公开
AQUEOUS CLEAN SOLUTION WITH LOW COPPER ETCH RATE FOR ORGANIC RESIDUE REMOVAL IMPROVEMENT 审中-公开
标题翻译：具有低铜蚀刻纯净水溶液用于改进的有机碎屑移除

公开(公告)号：EP2850651A4

公开(公告)日：2016-03-09

申请号：EP13791242

申请日：2013-05-17

申请人： ENTEGRIS INC , ATMI TAIWAN CO LTD

发明人： JENQ SHRANE NING , BOGGS KARL E , LIU JUN , THOMAS NICOLE

IPC分类号： H01L21/302 , C11D3/00 , C11D7/08 , C11D7/26 , C11D7/32 , C11D11/00

CPC分类号： C11D11/0047 , C11D3/0073 , C11D7/08 , C11D7/267 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D7/3245 , C11D7/3281 , C25D5/48 , H01L21/02074