公开(公告)号：EP2336828B1

公开(公告)日：2018-07-11

申请号：EP10195059.0

申请日：2010-12-15

申请人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC

发明人： Pohlers, Gerhard

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/40

CPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： New photoresist are provided that comprises a low-Tg component and that are particularly useful for ion implant lithography applications. Preferred photoresists of the invention can exhibit good adhesion to underlying inorganic surfaces such as SiON, silicon oxide, silicon nitride and other inorganic surfaces.

公开(公告)号：EP2428842A1

公开(公告)日：2012-03-14

申请号：EP11181122.0

申请日：2011-09-13

申请人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC

发明人： Prokopowicz, Gregory P. ,  Pohlers, Gerhard ,  Liu, Cong ,  Wu, Chunyi ,  Xu, Cheng-Bai ,  Oh, Joon Seok

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382

摘要： New photoresist compositions are provided that comprise a component that comprises two or more amide groups. Preferred photoresists of the invention may comprise a resin with photoacid-labile groups; a photoacid generator compound; and a multi-amide component that can function to decrease undesired photogenrated-acid diffusion out of unexposed regions of a photoresist coating layer

摘要翻译： 提供新的光致抗蚀剂组合物，其包含包含两个或更多个酰胺基团的组分。 本发明优选的光致抗蚀剂可以包含具有光致酸不稳定基团的树脂; 光致酸发生剂化合物; 以及可以起到减少光致抗蚀剂涂层的未曝光区域中不期望的光致酸扩散的作用的多酰胺组分

公开(公告)号：EP2336827B1

公开(公告)日：2015-09-16

申请号：EP10195067.3

申请日：2010-12-15

申请人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC

发明人： Pohlers, Gerhard

IPC分类号： G03F7/039 ,  H01L21/365

CPC分类号： H01L21/266 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0274 ,  H01L29/36

公开(公告)号：EP2527379A1

公开(公告)日：2012-11-28

申请号：EP12168975.6

申请日：2012-05-22

申请人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC

发明人： Prokopowicz, Gregory P. ,  Pohlers, Gerhard ,  Li, Mingqi ,  Wu, Chunyi ,  Liu, Cong ,  Xu, Cheng-Bai

IPC分类号： C08F220/26 ,  C08F214/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： C08F214/186 ,  C08F214/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/185 ,  C08F220/32

摘要： A copolymer comprises the polymerised product of a base-soluble monomer of formula (I):

wherein R a is H, F, C 1-10 alkyl, or C 1-10 fluoroalkyl, L 1 is an m valent C 2-30 alkylene, C 3-30 cycloalkylene, C 6-30 arylene, C 7-30 aralkylene group, X 1 is independently a base-soluble organic group comprising β-diketone, β-ester-ketone, β-di-ester, or a combination comprising at least one of the foregoing; and an additional monomer copolymerizable with the base-soluble monomer of formula (I).
A coated film comprises the photoresist comprising the copolymer.

摘要翻译： 共聚物包含式（I）的可溶于碱的单体的聚合产物：其中R a是H，F，C 1-10烷基或C 1-10氟代烷基，L 1是m价C 2-30亚烷基 ，C 3-30亚环烷基，C 6-30亚芳基，C 7-30亚芳基，X 1独立地是包含二 - 二酮，β-酯 - 酮，二 - 二酯或其组合的基础可溶性有机基团 包括前述的至少一个; 和可与式（I）的碱溶性单体共聚的另外的单体。 涂覆膜包括包含共聚物的光致抗蚀剂。

公开(公告)号：EP2348360A1

公开(公告)日：2011-07-27

申请号：EP11151971.6

申请日：2011-01-25

申请人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC

发明人： Liu, Cong ,  Wu, Chunyi ,  Pohlers, Gerhard ,  Prokopowicz, Gregory P. ,  Xu, Cheng-Bai

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  C07C271/16

CPC分类号： C07C271/16 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32

摘要： New nitrogen-containing compounds are provided that comprise multiple hydroxyl moieties and photoresist compositions that comprise such nitrogen-containing compounds. Preferred nitrogen-containing compounds comprise 1) multiple hydroxyl substituents (i.e. 2 or more) and 2) one or more photoacid-labile groups.

摘要翻译： 提供了新的含氮化合物，其包含多个羟基部分和包含这种含氮化合物的光致抗蚀剂组合物。 优选的含氮化合物包括1）多个羟基取代基（即2个或更多个）和2）一个或多个光致酸不稳定基团。

公开(公告)号：EP2336829B1

公开(公告)日：2019-01-23

申请号：EP10195063.2

申请日：2010-12-15

申请人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC

发明人： Pohlers, Gerhard

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  G03F7/40

公开(公告)号：EP2336829A1

公开(公告)日：2011-06-22

申请号：EP10195063.2

申请日：2010-12-15

申请人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC

发明人： Pohlers, Gerhard

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  G03F7/40

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0085 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/40

摘要： New photoresist are provided that comprises an Si-containing component and that are particularly useful for ion implant lithography applications. Photoresists of the invention can exhibit good adhesion to underlying inorganic surfaces such as SiON, silicon oxide, silicon nitride and other inorganic surfaces.

摘要翻译： 提供新的光致抗蚀剂，其包含含Si组分，并且其特别适用于离子植入光刻应用。 本发明的光刻胶可以对下面的无机表面（例如SiON，氧化硅，氮化硅和其它无机表面）表现出良好的粘合性。

公开(公告)号：EP2336827A1

公开(公告)日：2011-06-22

申请号：EP10195067.3

申请日：2010-12-15

申请人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC

发明人： Pohlers, Gerhard

IPC分类号： G03F7/039 ,  H01L21/365

CPC分类号： H01L21/266 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0274 ,  H01L29/36

摘要： New photoresists are provided that comprise preferably as distinct components: a resin, a photoactive component and a phenolic component Preferred photoresists of the invention are can be useful for ion implant lithography protocols.

摘要翻译： 提供了新的光致抗蚀剂，其优选地包含不同的组分：树脂，光活性组分和酚组分。本发明的优选光致抗蚀剂可用于离子注入光刻方案。

公开(公告)号：EP2527377A1

公开(公告)日：2012-11-28

申请号：EP12168948.3

申请日：2012-05-22

申请人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC

发明人： Wang, Deyan ,  Wu, Chunyi ,  Liu, Cong ,  Pohlers, Gerhard ,  Xu, Cheng-Bai ,  Barclay, George G

IPC分类号： C08F20/10 ,  C08F20/54 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/32 ,  C08F220/34 ,  C08F220/36 ,  C08F220/38 ,  C08F220/58 ,  C08F226/06 ,  C08F2220/1833 ,  C08F2220/283 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/09 ,  G03F7/2041

摘要： A polymer comprises the polymerized product of monomers comprising a nitrogen-containing monomer comprising formula (Ia), formula (Ib), or a combination of formulas (Ia) and (Ib), and an acid-deprotectable monomer having the formula (II):



wherein a is 0 or 1, each R a is independently H, F, C 1-10 alkyl, or C 1-10 fluoroalkyl, L 1 is a straight chain or branched C 1-20 alkylene group, or a monocyclic, polycyclic, or fused polycyclic C 3-20 cycloalkylene group, each R b is independently H, C 1-10 alkyl, C 3-20 cycloalkyl, C 3-20 heterocycloalkyl, an aliphatic C 5-20 oxycarbonyl, or a C 1-30 acyl group optionally including a heteroatom substituent group, where each R b is separate or at least one R b is attached to an adjacent R b ; LN is a nitrogen-containing monocyclic, polycyclic, or fused polycyclic C 3-20 heterocycloalkylene group, and X is H, C 1-10 alkyl, aliphatic C 5-20 oxycarbonyl, or a C 1-30 acyl group optionally including a heteroatom substituent group; and each R c is independently C 1-10 alkyl, C 3-20 cycloalkyl, or C 3-20 heterocycloalkyl, wherein each R c is separate or at least one R c is attached to an adjacent R c .

摘要翻译： 聚合物包含包含式（Ia），式（Ib）或式（Ia）和（Ib）的组合的含氮单体的单体的聚合产物和具有式（II）的酸可去保护的单体， ：其中a为0或1，每个R a独立地为H，F，C 1-10烷基或C 1-10氟烷基，L 1为直链或支链C 1-20亚烷基，或单环，多环 或稠合多环C 3-20亚环烷基，每个R b独立地为H，C 1-10烷基，C 3-20环烷基，C 3-20杂环烷基，脂族C 5-20氧羰基或C 1-30 任选地包括杂原子取代基的酰基，其中每个R b分开或至少一个R b连接到相邻的R b; LN是含氮单环，多环或稠合多环C 3-20杂环亚烷基，X是H，C 1-10烷基，脂族C 5-20氧羰基或任选包括杂原子的C 1-30酰基 取代基; 并且每个R c独立地为C 1-10烷基，C 3-20环烷基或C 3-20杂环烷基，其中每个R c是分开的或至少一个R c连接到相邻的R c。

公开(公告)号：EP2472327A1

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：EP11195276.8

申请日：2011-12-22

申请人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC

发明人： Pohlers, Gerhard ,  Caporale, Stefan J.

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/40 ,  H01L21/266

CPC分类号： H01L21/266 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/09 ,  G03F7/40

摘要： New photoresists are provided that comprise a multi-keto component and that are particularly useful for ion implant lithography applications. Preferred photoresists of the invention can exhibit good adhesion to underlying inorganic surfaces such as SiON, silicon oxide, silicon nitride, hafnium silicate, zirconium silicate and other inorganic surfaces.

摘要翻译： 提供新的光致抗蚀剂，其包含多酮组分并且对离子植入光刻应用特别有用。 本发明的优选光致抗蚀剂可以对下面的无机表面（如SiON，氧化硅，氮化硅，硅酸铪，硅酸锆和其它无机表面）表现出良好的粘合性。