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公开(公告)号：JP6588323B2
公开(公告)日：2019-10-09
申请号：JP2015240793
申请日：2015-12-10
Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
IPC: H01L21/265 , H01J37/317
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公开(公告)号：JP2018206504A
公开(公告)日：2018-12-27
申请号：JP2017107476
申请日：2017-05-31
Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
Inventor： 松下 浩
IPC: H01J37/317
Abstract: 【課題】比較的高いエネルギーをもつイオンビームの使用に起因して生じうる核反応に対処する。 【解決手段】イオン注入装置100は、非放射性核種のイオンを含むイオンビームを生成するよう構成されたイオン源と、イオンビーム被照射体を支持するよう構成されたビームラインと、イオンビーム被照射体70に入射する非放射性核種のイオンと以前に行われたイオンビーム照射の結果としてイオンビーム被照射体70に蓄積された非放射性核種との核反応により発生する放射線の推定線量を演算するよう構成された制御装置50と、を備える。 【選択図】図5
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公开(公告)号：JP6440809B2
公开(公告)日：2018-12-19
申请号：JP2017227961
申请日：2017-11-28
Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
IPC: H01L21/265 , H01J37/317
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公开(公告)号：JP2018163948A
公开(公告)日：2018-10-18
申请号：JP2017059486
申请日：2017-03-24
Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
IPC: H02N13/00 , C23C14/50 , H01L21/31 , H01L21/265 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/68764 , H01J37/3171 , H01L21/67109 , H01L21/68 , H01L21/6833
Abstract: 【課題】ウェハの固定を解除する際のウェハの位置ずれを低減する技術を提供する。 【解決手段】ウェハ保持装置52は、保持すべきウェハWと接触するウェハ保持面60を有し、ウェハ保持面60上に複数の吸着領域C1,C2が設けられるウェハチャック53と、複数の吸着領域C1,C2のそれぞれの吸着力を独立に制御するよう構成される制御部70と、を備える。制御部70は、ウェハの固定を解除する場合、複数の吸着領域C1,C2のうち一部の吸着領域の吸着力をウェハ固定時より小さくする仮固定状態とした後に、複数の吸着領域C1,C2の全ての吸着力をウェハ固定時より小さくする。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP6403485B2
公开(公告)日：2018-10-10
申请号：JP2014163051
申请日：2014-08-08
Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
IPC: H01J37/09 , H01L21/265 , H01L21/266 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/244 , H01J37/3171 , H01J2237/057 , H01J2237/24405 , H01J2237/24535 , H01J2237/303
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2018147723A
公开(公告)日：2018-09-20
申请号：JP2017041654
申请日：2017-03-06
Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
Inventor： 川口 宏
CPC classification number: H01J37/08 , H01J27/08 , H01J27/205 , H01J27/26 , H01J37/3171 , H01J2237/061
Abstract: 【課題】イオン照射装置の生産性向上に役立つイオン生成装置を提供する。 【解決手段】イオン生成装置12は、プラズマ生成領域を内部に有するアークチャンバ30と、プラズマ生成領域に向けて熱電子を放出するカソード52と、プラズマ生成領域を挟んでカソード52と軸方向に対向するリペラー34と、アークチャンバ30の内面とプラズマ生成領域の間の位置において、プラズマ生成領域を部分的に包囲するように配置されるケージ72と、を備える。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2018142434A
公开(公告)日：2018-09-13
申请号：JP2017035227
申请日：2017-02-27
Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
IPC: H01L21/265 , H01J37/16 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/08 , H01J2237/006 , H01J2237/0473 , H01J2237/055 , H01J2237/24585 , H01J2237/30433
Abstract: 【課題】イオン注入装置におけるビームエネルギー測定の較正精度を向上する。 【解決手段】イオン注入装置100は、引出電圧に応じた既知のエネルギーをもつ多価イオンを含む較正用イオンビームを出力可能なイオン源10と、質量分析磁石22aと高エネルギー多段直線加速ユニット14とを含む上流ビームライン102と、エネルギー分析磁石24と、エネルギー分析磁石24の下流で較正用イオンビームのエネルギーを測定するビームエネルギー測定装置200と、既知のエネルギーとビームエネルギー測定装置200によって測定された較正用イオンビームのエネルギーとの対応関係を表すエネルギー較正テーブルを作成する較正シーケンス部と、を備える。上流ビームライン圧力は、イオン注入処理の間第1圧力に調整され、エネルギー較正テーブルを作成する間、第1圧力より高い第2圧力に調整される。 【選択図】図8
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公开(公告)号：JP6388520B2
公开(公告)日：2018-09-12
申请号：JP2014212773
申请日：2014-10-17
Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
Inventor： 佐藤 正輝
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/08 , H01J2237/083
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公开(公告)号：JP6324231B2
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：JP2014128519
申请日：2014-06-23
Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
Inventor： 天野 吉隆
IPC: H01J37/12 , H01L21/265 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/10 , H01J37/244 , H01J2237/038 , H01J2237/1202 , H01J2237/16
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公开(公告)号：JP2018063952A
公开(公告)日：2018-04-19
申请号：JP2017227961
申请日：2017-11-28
Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
IPC: H01L21/265 , H01J37/317
Abstract: 【課題】ビーム照射処理の品質を高める技術を提供する。 【解決手段】ビーム照射装置10は、荷電粒子ビームBを所定の走査方向に往復走査させるビーム走査器26と、計測対象とする領域に入射する荷電粒子の角度成分が計測可能な測定器42と、測定器42の計測結果を用いて、荷電粒子ビームBの実効照射エミッタンスを算出するデータ処理部と、を備える。測定器42は、走査方向に往復走査される荷電粒子ビームBが計測対象とする領域を通過して測定器42に入射する時間にわたって、荷電粒子ビームBについての角度分布の時間変化値を計測し、データ処理部は、測定器が計測した角度分布の時間変化値に含まれる時間情報を位置情報に変換して実効照射エミッタンスを算出する。実効照射エミッタンスは、走査方向に走査されて計測対象とする領域に入射する荷電粒子ビームの一部を足し合わせることで形成されうる仮想的なビーム束についてのエミッタンスを表す。 【選択図】図6
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