公开(公告)号：JP5141459B2

公开(公告)日：2013-02-13

申请号：JP2008232552

申请日：2008-09-10

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 琢磨 江畑 ,  大樹 中川 ,  恭彦 松田 ,  一樹 笠原 ,  賢二 星子

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/26 ,  G03F7/004

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation sensitive resin composition capable of achieving large depth of focus, small LWR and MEEF, excellent characteristic for preventing the occurrence of pattern collapse, and excellent performance for preventing the occurrence of defect in development. SOLUTION: This radiation sensitive resin composition contains a resin (A), a radiation sensitive acid generator (B), an acid diffusion inhibitor (C), and a solvent (D). The resin (A) is a polymer having a repeating unit (a-1) having a cyclic carbonic ester structure on a side chain. The acid diffusion inhibitor (C) is a nitrogen-containing compound having a specific structure. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

公开(公告)号：JP5034950B2

公开(公告)日：2012-09-26

申请号：JP2007550196

申请日：2006-12-13

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 信司 松村 ,  智樹 永井 ,  琢磨 江畑

IPC: C08F20/18 ,  C07C381/12 ,  C08F20/38

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C309/06 ,  C07C309/19 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C08F220/38 ,  G03F7/0397

公开(公告)号：JP5545078B2

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：JP2010149831

申请日：2010-06-30

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 洋一郎 丸山 ,  求樹 岡庭 ,  充孝 海津 ,  真悟 田中 ,  育代 神谷 ,  克敏 沢田 ,  優 木村 ,  延行 坂部 ,  琢磨 江畑

IPC: C08G61/08

公开(公告)号：JP5407866B2

公开(公告)日：2014-02-05

申请号：JP2009538082

申请日：2008-10-14

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 琢磨 江畑 ,  智樹 永井

IPC: C08L25/18 ,  C07C309/19 ,  C07C381/12 ,  C08K5/42 ,  C08L33/06 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07C381/12 ,  C07C309/19 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C07D333/46 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

公开(公告)号：JP5125832B2

公开(公告)日：2013-01-23

申请号：JP2008182270

申请日：2008-07-14

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 努 下川 ,  琢磨 江畑 ,  香織 酒井

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP4793417B2

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：JP2008238962

申请日：2008-09-18

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 芳史 大泉 ,  晃雅 征矢野 ,  琢磨 江畑

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP5555914B2

公开(公告)日：2014-07-23

申请号：JP2009539020

申请日：2008-10-21

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 宏和 榊原 ,  誠 志水 ,  岳彦 成岡 ,  芳史 大泉 ,  健太郎 原田 ,  琢磨 江畑

IPC: G03F7/004 ,  C08F220/38 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08L2312/06 ,  C09D133/14 ,  C09D133/16 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  C08F220/24 ,  C08F220/38

公开(公告)号：JP5545079B2

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：JP2010149832

申请日：2010-06-30

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 洋一郎 丸山 ,  求樹 岡庭 ,  充孝 海津 ,  真悟 田中 ,  育代 神谷 ,  克敏 沢田 ,  優 木村 ,  延行 坂部 ,  琢磨 江畑

IPC: C08G61/08

公开(公告)号：JP5410093B2

公开(公告)日：2014-02-05

申请号：JP2008543149

申请日：2007-11-09

Applicant: Jsr株式会社 ,  セントラル硝子株式会社

Inventor： 智樹 永井 ,  琢磨 江畑 ,  誠 志水 ,  ジョドリ・ジョナサン・ジョアキム ,  智 成塚 ,  昌生 藤原

IPC: C08F20/38 ,  C07C303/32 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12

CPC classification number: C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C08F20/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392

公开(公告)号：JP5239287B2

公开(公告)日：2013-07-17

申请号：JP2007265792

申请日：2007-10-11

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 琢磨 江畑 ,  芳史 大泉

IPC: G03F7/004 ,  C07C69/708 ,  C08K5/10 ,  C08L33/04 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027