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公开(公告)号：JP2018066985A
公开(公告)日：2018-04-26
申请号：JP2017189241
申请日：2017-09-29
发明人： ポール・ジェイ・ラボーメ , ジェームズ・エフ・キャメロン
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D333/76 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/32 , G03F7/38 , H01L21/0274
摘要： 【課題】解像度及び感度を犠牲にすることなく、線幅の粗さ、局所寸法均一性を改善することができる、光破壊性クエンチャーを提供する。 【解決手段】式(I)の光破壊性クエンチャー、及び光破壊性クエンチャー、酸感受性ポリマーと光酸発生剤とを含有するフォトレジスト組成物、フォトレジスト組成物によるレリーフ画像の作製方法。 (式(I)の基及び変数は本明細書に記載されたものと同じである。) 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP6220370B2
公开(公告)日：2017-10-25
申请号：JP2015198977
申请日：2015-10-07
发明人： ヴィップル・ジェイン , ポール・ジェイ・ラボーム , ジェームズ・ダブリュ・サッカリー , ジェームズ・エフ・キャメロン , スザンヌ・エム・コーリー , エイミー・エム・クウォック , デイヴィット・エイ・ヴァレリー
CPC分类号： C08F22/10 , C07C309/12 , C07C381/12 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , C08F220/38 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/38 , H01L21/0274 , H01L21/0275
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公开(公告)号：JP6130109B2
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：JP2012173407
申请日：2012-08-03
申请人： 東京応化工業株式会社
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , C07C381/12 , C09K3/00 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C303/32 , C07C309/04 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C69/616 , C07C69/635 , G03F7/38 , G03F7/0397
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公开(公告)号：JP2017061452A
公开(公告)日：2017-03-30
申请号：JP2016187367
申请日：2016-09-26
IPC分类号： C07C309/12 , C07D333/76 , C07D335/16 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D327/08
CPC分类号： C07C381/12 , C07C303/32 , C07C309/04 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/17 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/325 , C07C2603/74
摘要： 【課題】水性および非水性溶剤の両方において制御された溶解性特性、ならびに拡散制御およびレジストプロファイルなどの特性を有する、光酸発生剤の提供。 【解決手段】式(Id)を有する化合物。 (aは1〜10の整数;X 1 はC 3−10 フルオロアルコール基;Ar 2 は置換/非置換フェニレン、ナフチレン、アントラセニレン、フェナントレニレン、キノリニレン、ジベンゾチオフェニレン、チオキサントン、チオキサンテニレン等;Yは一重結合、C 1−20 アルキレン基、O、S、エステル、カルボナート、スルホナート、スルホン又はスルホンアミド;R 3 は置換/非置換C 5 −20 アリール又は 1− 2 0 アルキル;Z − はカルボキシラート、スルファート、スルホナート、スルファマート又はスルホンイミドのアニオン;但し、Yが一重結合である場合、Z − はスルホナートではない) 【選択図】なし
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5.发明专利光酸発生化合物およびそれを含むフォトレジスト組成物、そのフォトレジストを含むコーティングされた物品、並びに物品を製造する方法 有权含有相同光酸产生剂化合物和光刻胶组合物，在制造涂布制品的方法，以及包含物品光致抗蚀剂
公开(公告)号：JP6037994B2
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：JP2013212445
申请日：2013-10-10
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/038 , C07C309/12 , C09K3/00 , C07D333/46 , H01L21/027 , C07C381/12
CPC分类号： C07C381/12 , C07C303/32 , C07C309/04 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/17 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/325 , C07C2103/74
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公开(公告)号：JP5941280B2
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：JP2011287304
申请日：2011-12-28
申请人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー , Rohm and Haas Electronic Materials LLC , ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー
发明人： ジェームズ・ダブリュー.サッカレー , スザンヌ・エム.コーリー , ビップル・ジェイン , オーウェンディ・オンゲイ , ジェームズ・エフ.キャメロン , ポール・ジェイ.ラボーメ , アーマド・イー.マッドクル
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , C09K3/00 , C07C309/12 , C07C309/49 , C07C25/18 , C07C381/12 , C08F20/26
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C309/12 , C07C309/42 , C07C381/12 , C07D333/76 , C08F220/38 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/20 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , Y10S430/126
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公开(公告)号：JP5775856B2
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：JP2012232271
申请日：2012-10-19
申请人： 富士フイルム株式会社
CPC分类号： G03F7/038 , C07C303/32 , C07C309/04 , C07C309/12 , C07D295/16 , C07D327/06 , C07D339/08 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325
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公开(公告)号：JP5746818B2
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：JP2009146250
申请日：2009-06-19
申请人： 富士フイルム株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , H01L21/027 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C303/32 , C07C309/04 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/13 , C07C309/19 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/0046 , G03F7/11
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公开(公告)号：JP5742662B2
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：JP2011233940
申请日：2011-10-25
申请人： セントラル硝子株式会社
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , C07C309/17 , C07C381/12 , H01L21/027 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/027 , C07C303/32 , C07C309/06 , C07C309/10 , C07C309/12 , C07C309/16 , C07C309/19 , C07C381/12 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/2041 , C07C2101/14 , C07C2103/74 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123
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公开(公告)号：JP2015108003A
公开(公告)日：2015-06-11
申请号：JP2015012462
申请日：2015-01-26
发明人： ミンキ・リー , イマッド・アカド , コン・リュウ , ジョセフ・マッティア , チェン−バイ・スー , ジョージ・ジー.バークレー
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , C09K3/00 , C07C381/12 , C07D493/18 , C07J9/00 , H01L21/027 , C07C309/12
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C303/32 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C321/30 , C07C381/12 , C07D333/46 , C07D493/20 , C07J31/006 , C07C2103/74 , C07D335/02 , C07D337/04 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要： 【課題】フォトレジスト組成物に用いる新規な光酸発生剤化合物(PAG)、及び該化合物を含む高解像イメージを形成可能なフォトレジスト組成物を提供する。 【解決手段】例えば下記式で例示されるジフルオロスルホン酸カチオン成分を含む光酸発生化合物。 (R 1 〜R 3 はフェニル基等の非水素置換基) 【選択図】なし
摘要翻译： 要解决的问题：提供用于光致抗蚀剂组合物的新的光酸产生剂化合物（PAG）和包含该化合物并可形成高分辨率图像的光致抗蚀剂组合物。解决方案：例如，光酸产生剂化合物包含二氟磺酸阳离子组分 通过图中的公式，其中Rto稀释非氢取代基如苯基。
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