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公开(公告)号:JPWO2013129623A1
公开(公告)日:2015-07-30
申请号:JP2014502395
申请日:2013-02-28
Inventor: 壮祐 大澤 , 壮祐 大澤 , 一英 森野 , 一英 森野 , 須藤 篤 , 篤 須藤 , 遠藤 剛 , 剛 遠藤 , 光央 佐藤 , 光央 佐藤 , 恭彦 松田 , 恭彦 松田 , 永井 智樹 , 智樹 永井 , 下川 努 , 努 下川
IPC: G03F7/039 , C08F20/28 , H01L21/027
CPC classification number: C08F20/28 , C08F20/38 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
Abstract: 本発明は、ビスラクトン構造を含む構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物である。上記ビスラクトン構造は、下記式(a)で表されることが好ましい。下記式(a)中、R2〜R6は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜10の1価の炭化水素基である。上記構造単位は、下記式(1)で表されることが好ましい。下記式(1)中、R1は、水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又はヒドロキシメチル基である。Yは、単結合又は2価の連結基である。
Abstract translation: 本发明是一种聚合物,以及包含具有含bislactones结构的结构单元的光酸产生剂的辐射敏感树脂组合物。 该双内酯结构优选由下述式(a)表示。 在下面的式(a)中,R 2至R 6各自独立地为氢原子或1〜10个碳原子的一价烃基。 上述结构单元优选由下式(1)表示。 在下面的式(1)中,R 1表示氢原子,甲基,三氟甲基或羟甲基。 Y是单键或二价连接基团。
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公开(公告)号:JPWO2011108665A1
公开(公告)日:2013-06-27
申请号:JP2012503263
申请日:2011-03-03
IPC: G03F7/039 , C08F22/24 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F220/38 , G03F7/0046 , G03F7/2041
Abstract: 本発明の課題は、ライン幅のばらつきの発生を抑制して、所望形状のパターンを精度良く形成することのできる化学増幅型レジストを与える感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供することである。本発明は、[A]下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含み、酸解離性基を有する重合体、[B]感放射線性酸発生剤、及び、[C]フッ素原子を含む重合体を含有し、重合体[A]に含まれるフッ素原子の含有率が、重合体[C]に含まれるフッ素原子の含有率よりも少ない感放射線性樹脂組成物である。【化1】
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公开(公告)号:JPWO2013133230A1
公开(公告)日:2015-07-30
申请号:JP2014503845
申请日:2013-03-04
IPC: G03F7/039 , C07C69/54 , C08F120/16
CPC classification number: C07C69/54 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F2220/1891 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本発明は、[A]下記式(1)で表される構造単位を有する重合体、及び[B]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。下記式(1)中、R1は、炭素数4〜20の2価の多環の脂環式炭化水素基である。R2は、炭素数3〜20の1価の単環又は多環の脂環式炭化水素基である。R3は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。[A]重合体は、ラクトン構造、環状カーボネート構造及びスルトン構造からなる群より選ばれる少なくとも1種の構造を含む構造単位をさらに有することが好ましい。[A]重合体は、下記式(2)で表される構造単位をさらに有することが好ましい。
Abstract translation: 本发明是一种含有聚合物[B]具有由[A]下式(1)表示的结构单元酸产生光致抗蚀剂组合物,和。 在下面的式(1)中,R1为碳原子数4〜20的二价多环的脂环式烃基。 R2为单价单环或碳原子数3〜20的多环脂环族烃基。 R3是氢原子,氟原子,甲基或三氟甲基。 [A]所述的聚合物,内酯结构,还具有包含选自优选的环状碳酸酯结构和磺内酯结构组成的组中的至少一种结构的结构单元。 [A]聚合物优选进一步具有下述式(2)表示的结构单元。
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公开(公告)号:JP5626207B2
公开(公告)日:2014-11-19
申请号:JP2011518482
申请日:2010-06-02
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C08F20/26 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2041
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公开(公告)号:JP5673670B2
公开(公告)日:2015-02-18
申请号:JP2012505710
申请日:2011-03-15
IPC: G03F7/004 , C09K3/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
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公开(公告)号:JPWO2012036250A1
公开(公告)日:2014-02-03
申请号:JP2012534056
申请日:2011-09-15
IPC: G03F7/039 , C08F220/18 , C09K3/00 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/004 , C08F220/30 , C08F224/00 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , Y10S430/114
Abstract: 本発明は、[A]同一又は異なる重合体中に、下記式(1)で表される構造単位(I)と下記式(2)で表される構造単位(II)とを有する重合体成分、[B]感放射線性酸発生剤、及び[C]環構造を有する窒素含有化合物を含有する感放射線性樹脂組成物である。下記式(1)中、R1は、水素原子又はメチル基である。Zは、R2と共に2価の単環の脂環式炭化水素基を形成する基である。R2は、炭素原子である。R3は、メチル基又はエチル基である。下記式(2)中、R4は、水素原子又はメチル基である。Xは、R5と共に炭素数10以上の2価の有橋の脂環式炭化水素基を形成する基である。R5は、炭素原子である。R6は、炭素数3又は4の分岐状のアルキル基である。
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公开(公告)号:JPWO2010029982A1
公开(公告)日:2012-02-02
申请号:JP2010528755
申请日:2009-09-10
Inventor: 西村 幸生 , 幸生 西村 , 恭彦 松田 , 恭彦 松田 , 大樹 中川 , 大樹 中川 , 友久 藤澤 , 友久 藤澤 , ゆかり 濱 , ゆかり 濱 , 一樹 笠原 , 一樹 笠原
IPC: G03F7/039 , C08F20/22 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/2041
Abstract: 本発明の目的は、得られるパターン形状が良好であり、感度、解像度、LWR、現像欠陥、パターン倒れ耐性等のレジスト基本性能に優れており、且つ液浸露光の際にウォーターマーク欠陥及びバブル欠陥を抑制できる十分なレジスト膜表面の撥水性を発現する感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供することである。本発明の樹脂組成物は、酸の作用によりアルカリ可溶性となる繰り返し単位を含み、且つフッ素原子を含有する繰り返し単位を含まない樹脂(A)と、感放射線性酸発生剤(B)と、酸の作用によりアルカリ可溶性となる繰り返し単位、及びフッ素原子を含有する繰り返し単位を含むフッ素含有樹脂(C)と、ラクトン化合物(D)と、を含有し、ラクトン化合物(D)の含有量が、樹脂(A)を100質量部とした場合に、31〜200質量部である。
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公开(公告)号:JPWO2011122590A1
公开(公告)日:2013-07-08
申请号:JP2012508328
申请日:2011-03-28
IPC: G03F7/039 , C08F20/22 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/2041
Abstract: 本発明は、[A]下記式(1)で表される繰り返し単位を含み、酸解離性基を有する重合体、[B]感放射線性酸発生剤、及び[C]フッ素原子を含む重合体を含有し、上記重合体[A]に含まれるフッ素原子の含有割合が、上記重合体[C]に含まれるフッ素原子の含有割合よりも小さいフォトレジスト組成物である。また、上記重合体[A]100質量部に対する上記重合体[C]の含有量が0.1質量部以上10質量部以下であるとよい。さらに、下記式(1)において、2つのR2は共にトリフルオロメチル基であることが好ましい。
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公开(公告)号:JPWO2011115138A1
公开(公告)日:2013-06-27
申请号:JP2012505710
申请日:2011-03-15
IPC: G03F7/004 , C09K3/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本発明は、[A]放射線の照射により有機酸を発生する酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物であって、この有機酸が、環状炭化水素基と、酸又は塩基により切断されて極性基を生じる結合を含む有機基とを有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物である。上記有機酸は、下記式(I)で表される有機酸が好ましい。式(I)中、Zは、有機酸基である。R1は、アルカンジイル基である。但し、上記アルカンジイル基の水素原子の一部又は全部は、フッ素原子で置換されていてもよい。Xは、単結合、O、OCO、COO、CO、SO3又はSO2である。R2は、環状炭化水素基である。R3は、下記式(x)で表される官能基を有する1価の有機基である。nは、1〜3の整数である。但し、R3が複数の場合、複数のR3は同一であっても異なっていてもよい。
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公开(公告)号:JPWO2011093280A1
公开(公告)日:2013-06-06
申请号:JP2011551853
申请日:2011-01-25
IPC: G03F7/004 , C08F220/18 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
Abstract: 本発明は、[A]下記式(1)で表される化合物、及び[B]ベース樹脂となる重合体を含有する感放射線性樹脂組成物である。上記R1は、炭素数3〜20の1価の脂環式炭化水素基であることが好ましい。上記M+は、スルホニウムカチオン又はヨードニウムカチオンであることが好ましい。[B]重合体は、下記式(5)で表される構造単位又は式(6)で表される構造単位と、下記式(7)で表される構造単位とを含むアルカリ不溶性又はアルカリ難溶性の重合体であることが好ましい。
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