フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物
    3.
    发明专利
    フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 有权
    光致抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,所述聚合物和化合物

    公开(公告)号:JPWO2013133230A1

    公开(公告)日:2015-07-30

    申请号:JP2014503845

    申请日:2013-03-04

    Abstract: 本発明は、[A]下記式(1)で表される構造単位を有する重合体、及び[B]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。下記式(1)中、R1は、炭素数4〜20の2価の多環の脂環式炭化水素基である。R2は、炭素数3〜20の1価の単環又は多環の脂環式炭化水素基である。R3は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。[A]重合体は、ラクトン構造、環状カーボネート構造及びスルトン構造からなる群より選ばれる少なくとも1種の構造を含む構造単位をさらに有することが好ましい。[A]重合体は、下記式(2)で表される構造単位をさらに有することが好ましい。

    Abstract translation: 本发明是一种含有聚合物[B]具有由[A]下式(1)表示的结构单元酸产生光致抗蚀剂组合物,和。 在下面的式(1)中,R1为碳原子数4〜20的二价多环的脂环式烃基。 R2为单价单环或碳原子数3〜20的多环脂环族烃基。 R3是氢原子,氟原子,甲基或三氟甲基。 [A]所述的聚合物,内酯结构,还具有包含选自优选的环状碳酸酯结构和磺内酯结构组成的组中的至少一种结构的结构单元。 [A]聚合物优选进一步具有下述式(2)表示的结构单元。

    感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法

    公开(公告)号:JPWO2011115138A1

    公开(公告)日:2013-06-27

    申请号:JP2012505710

    申请日:2011-03-15

    CPC classification number: G03F7/0045 G03F7/0046 G03F7/0397 G03F7/2041

    Abstract: 本発明は、[A]放射線の照射により有機酸を発生する酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物であって、この有機酸が、環状炭化水素基と、酸又は塩基により切断されて極性基を生じる結合を含む有機基とを有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物である。上記有機酸は、下記式(I)で表される有機酸が好ましい。式(I)中、Zは、有機酸基である。R1は、アルカンジイル基である。但し、上記アルカンジイル基の水素原子の一部又は全部は、フッ素原子で置換されていてもよい。Xは、単結合、O、OCO、COO、CO、SO3又はSO2である。R2は、環状炭化水素基である。R3は、下記式(x)で表される官能基を有する1価の有機基である。nは、1〜3の整数である。但し、R3が複数の場合、複数のR3は同一であっても異なっていてもよい。

Patent Agency Ranking