表面処理銅箔、銅張積層板及びプリント配線板

    公开(公告)号:JP2019210521A

    公开(公告)日:2019-12-12

    申请号:JP2018108008

    申请日:2018-06-05

    Abstract: 【課題】絶縁基材との接着性に優れると共に、ファインピッチ化に適した高エッチングファクタの回路パターンを形成することが可能な表面処理銅箔及び銅張積層板を提供する。 【解決手段】銅箔2と、銅箔2の一方の面に形成された第一表面処理層3とを有する表面処理銅箔1である。この表面処理銅箔1の第一表面処理層3は、JIS B0631:2000に基づく粗さモチーフの平均長さARが6〜20μmである。また、銅張積層板10は、表面処理銅箔1と、表面処理銅箔1の第一表面処理層3に接着された絶縁基材11とを備える。 【選択図】図1

    表面処理銅箔並びにこれを用いた集電体、電極及び電池

    公开(公告)号:JP2018125280A

    公开(公告)日:2018-08-09

    申请号:JP2017239834

    申请日:2017-12-14

    Abstract: 【課題】粗化粒子の脱落が少なく、活物質との良好な密着性を得ることができる電池用表面処理銅箔を提供する。 【解決手段】本発明の電池用表面処理銅箔は、銅箔、および、前記銅箔の少なくとも一方の表面側に表面処理層を有し、前記表面処理層は一次粒子層、二次粒子層を有し、前記表面処理層表面をJIS B0601 1994に準拠して、波長405nmのレーザー顕微鏡を用いて測定したときの十点平均粗さRzが1.8μm以上である電池用表面処理銅箔である。 【選択図】図2

    表面処理銅箔
    60.
    发明专利
    表面処理銅箔 审中-公开

    公开(公告)号:JP2017122274A

    公开(公告)日:2017-07-13

    申请号:JP2016230684

    申请日:2016-11-28

    Abstract: 【課題】常温における絶縁基板との密着性に優れ、且つ、銅張積層板を構成してはんだリフローの熱負荷を与えたときにブリスターの発生を抑制可能な表面処理銅箔を提供する。 【解決手段】表面処理面を有する表面処理銅箔であって、表面処理面からレート1.1nm/min(SiO 2 換算)条件で0.5minスパッタ後の深さにおけるXPS測定により、(1)N濃度が1.5〜7.5atom%であること、(2)C濃度が12〜30atom%であること、(3)Si濃度が3.1atom%以上であり、且つ、O濃度が40〜48atom%であることの何れか一つ以上の条件を満たす表面処理銅箔。 【選択図】なし

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