公开(公告)号：JP4352831B2

公开(公告)日：2009-10-28

申请号：JP2003329356

申请日：2003-09-22

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 宏道 原 ,  正昭 宮路 ,  誠 村田 ,  智樹 永井

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP4192610B2

公开(公告)日：2008-12-10

申请号：JP2003021773

申请日：2003-01-30

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 健太郎 後藤 ,  智樹 永井

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP4082201B2

公开(公告)日：2008-04-30

申请号：JP2002361047

申请日：2002-12-12

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 正昭 宮路 ,  健一 横山 ,  智樹 永井

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP5410093B2

公开(公告)日：2014-02-05

申请号：JP2008543149

申请日：2007-11-09

Applicant: Jsr株式会社 ,  セントラル硝子株式会社

Inventor： 智樹 永井 ,  琢磨 江畑 ,  誠 志水 ,  ジョドリ・ジョナサン・ジョアキム ,  智 成塚 ,  昌生 藤原

IPC: C08F20/38 ,  C07C303/32 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12

CPC classification number: C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C08F20/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392

公开(公告)号：JP5088327B2

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：JP2008543150

申请日：2007-11-09

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 智樹 永井 ,  琢磨 江畑 ,  誠 志水

IPC: G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

公开(公告)号：JP4962142B2

公开(公告)日：2012-06-27

申请号：JP2007142861

申请日：2007-05-30

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 誠 志水 ,  岳彦 成岡 ,  宏和 榊原 ,  智樹 永井

IPC: C08F220/28 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP4910238B2

公开(公告)日：2012-04-04

申请号：JP2001061922

申请日：2001-03-06

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 英一 小林 ,  士朗 楠本 ,  智樹 永井 ,  淳 沼田

IPC: G03F7/004 ,  C07D209/86 ,  C08F8/30 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: C08F8/30 ,  C07D209/86 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

公开(公告)号：JP4826068B2

公开(公告)日：2011-11-30

申请号：JP2004148190

申请日：2004-05-18

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 健太郎 後藤 ,  智樹 永井 ,  大輔 清水

IPC: C08F212/14 ,  G03F7/039 ,  C08F220/18 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP4710193B2

公开(公告)日：2011-06-29

申请号：JP2001234136

申请日：2001-08-01

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 努 下川 ,  英一 小林 ,  智樹 永井

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation sensitive composition excellent in storage stability as well as in resolution and environmental resistance as a chemical amplification type resist sensitive to active radiations, e.g. UV rays such as g- or i-line, KrF, ArF or F2 excimer laser light, far UV typified by EUV (extreme-ultraviolet radiation) or an electron beam. SOLUTION: The radiation sensitive resin composition contains a nitrogen- containing compound having a specified structure.

公开(公告)号：JP4626093B2

公开(公告)日：2011-02-02

申请号：JP2001174849

申请日：2001-06-08

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 努 下川 ,  英一 小林 ,  智樹 永井

IPC: G03F7/039 ,  H01L21/027