半導体装置
    1.
    发明专利
    半導体装置 审中-公开

    公开(公告)号:JP2018137486A

    公开(公告)日:2018-08-30

    申请号:JP2018108884

    申请日:2018-06-06

    Abstract: 【課題】半導体装置の性能を向上させる。 【解決手段】半導体装置は、配線基板に搭載されたインタポーザ上に搭載され、かつ、インタポーザを介して互いに電気的に接続されている第1および第2半導体部品と、を含む。また、インタポーザの複数の配線層は、基準の主面側から順に積層される第1、第2および第3配線層、を有する。また、第1半導体部品と第2半導体部品とに挟まれたインタポーザの第1領域では、第3配線層における基準電位用配線の割合が第1配線層における基準電位用配線の割合よりも多い。また、第1領域では、第1配線層における信号用配線の割合が第3配線層における信号用配線の割合よりも多い。 【選択図】図10

    電子装置および電子機器
    2.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2019110201A

    公开(公告)日:2019-07-04

    申请号:JP2017241957

    申请日:2017-12-18

    Inventor: 萱島 祐治

    Abstract: 【課題】半導体チップを埋め込んだ封止体(パッケージ構造体)上に半導体装置(半導体パッケージ)を搭載した構造であるPOP(Package On Package)構造の特性を向上させた電子装置および電子機器を提供する。 【解決手段】電子装置は、封止体SS2の上面USに形成された再配線層RDL1と、封止体SS2の下面BSに形成された再配線層RDL2とを含む。再配線層RDL2の厚さは、再配線層RDL1の厚さよりも薄くなっている。 【選択図】図4

Patent Agency Ranking