公开(公告)号：JPWO2019208461A1

公开(公告)日：2021-05-13

申请号：JP2019016919

申请日：2019-04-22

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 瀬戸 一彰 ,  玉井 聡 ,  松永 裕嗣

IPC: H05K3/06 ,  C23F1/18

Abstract: 本発明は、銅配線のサイドエッチングの発生を抑制しながら、銅箔をエッチング可能な銅箔用エッチング液およびそれを用いた銅箔のエッチング方法およびプリント配線板の製造方法に関する。また本発明は、電解銅層のサイドエッチングの発生を抑制しながら、電解銅層をエッチング可能な電解銅層用エッチング液およびそれを用いた電解銅層のエッチング方法および銅ピラーの製造方法に関する。本発明のエッチング液は、過酸化水素(A)、硫酸(B)、および5−アミノ-1H-テトラゾール、1,5−ペンタメチレンテトラゾールおよび2−n−ウンデシルイミダゾールからなる群より選ばれる少なくとも1種のアゾール化合物(C)を含有し、硫酸(B)に対する過酸化水素(A)のモル比が6〜30の範囲内にあり、アゾール化合物(C)の濃度が0.001〜0.01質量%の範囲内にあり、リン酸を実質的に含有しないことを特徴とする。

公开(公告)号：JP6176321B2

公开(公告)日：2017-08-09

申请号：JP2015513673

申请日：2014-04-09

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 玉井 聡 ,  夕部 邦夫

IPC: C23F1/26 ,  C23F1/18 ,  H01L21/28 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/768 ,  H01L21/3205 ,  H01L23/532 ,  H01L29/786 ,  H01L21/336 ,  H01L21/308

CPC classification number: H01L21/47635 ,  C09K13/00 ,  C23F1/02 ,  C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  C23F1/44 ,  H01L21/32134 ,  H01L27/1225 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1259 ,  H01L29/45 ,  H01L29/66969 ,  H01L29/7869 ,  H05K3/067 ,  H05K2201/0338

公开(公告)号：JPWO2020250784A1

公开(公告)日：2021-09-13

申请号：JP2020021997

申请日：2020-06-03

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 池田 和彦 ,  藤井 智子 ,  松永 裕嗣 ,  玉井 聡

IPC: C23F1/28

Abstract: ステンレス鋼の表面を、十分に、かつ少ない工程で効率的に粗化させられる水性組成物、ステンレス鋼の粗化処理方法等を提供する。 上述の課題は、ステンレス鋼の表面を粗化するための水性組成物であって、 過酸化水素を、前記水性組成物の全量基準で、0.1〜20質量%含み、 銅イオンを、前記水性組成物の全量基準で、0.25〜40質量%含み、 ハロゲン化物イオンを、前記水性組成物の全量基準で、1〜30質量%含む、水性組成物により解決された。

公开(公告)号：JP6455445B2

公开(公告)日：2019-01-23

申请号：JP2015559121

申请日：2015-01-23

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 玉井 聡 ,  島田 憲司

IPC: C11D7/28 ,  H01L21/308 ,  H01L21/304

公开(公告)号：JP5971246B2

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：JP2013522940

申请日：2012-06-28

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 玉井 聡 ,  夕部 邦夫 ,  岡部 哲

IPC: C23F1/26 ,  H05K3/06 ,  C23F1/18

CPC classification number: C23F1/18 ,  C09K13/04 ,  C23F1/16 ,  C23F1/44 ,  H05K3/067 ,  H05K2201/0338

公开(公告)号：JP5874308B2

公开(公告)日：2016-03-02

申请号：JP2011231458

申请日：2011-10-21

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 玉井 聡 ,  夕部 邦夫 ,  岡部 哲

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/308 ,  H01L21/28 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/768 ,  C23F1/14

公开(公告)号：JP6908207B2

公开(公告)日：2021-07-21

申请号：JP2021501054

申请日：2020-06-03

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 池田 和彦 ,  藤井 智子 ,  松永 裕嗣 ,  玉井 聡

IPC: C23F1/28

公开(公告)号：JPWO2018180988A1

公开(公告)日：2020-02-06

申请号：JP2018011707

申请日：2018-03-23

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 曽根 昌彌 ,  松永 裕嗣 ,  玉井 聡

IPC: C23F1/18

Abstract: 本発明は、圧延銅箔の製造方法、圧延銅箔の表面処理方法及び圧延銅箔用表面処理液に関する。本発明においては、過酸化水素(A)、硫酸(B)、アルコール(C)及びフェニル尿素(D)を含有し、過酸化水素(A)/硫酸(B)のモル比が0.3〜3.0の範囲、硫酸(B)が0.5〜15.0質量%の範囲、及びアルコール(C)が0.1〜5.0質量%の範囲にある表面処理液を、圧延銅箔表面と接触させて圧延銅箔表面を溶解させることにより圧延銅箔表面を処理する。本発明の好ましい態様によれば、クレーター状のエッチングやピットを生じることなく、圧延銅箔表面を平滑化することができる。

公开(公告)号：JP6418156B2

公开(公告)日：2018-11-07

申请号：JP2015526224

申请日：2014-06-12

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 玉井 聡 ,  夕部 邦夫

IPC: C11D7/26 ,  C11D7/06 ,  C11D7/32 ,  H01L21/308 ,  H01L21/304

CPC classification number: C11D7/06 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  H01L21/02071 ,  H01L29/66969 ,  H01L29/7869

公开(公告)号：JP5799791B2

公开(公告)日：2015-10-28

申请号：JP2011275862

申请日：2011-12-16

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 玉井 聡 ,  夕部 邦夫 ,  岡部 哲

IPC: C23F1/14