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    下地剤組成物及び相分離構造を含む構造体の製造方法
    3.
    发明专利
    下地剤組成物及び相分離構造を含む構造体の製造方法 有权
    基体化合物组成和制备方法包含相分离结构的结构

    公开(公告)号：JP2016108435A

    公开(公告)日：2016-06-20

    申请号：JP2014246801

    申请日：2014-12-05

    Applicant: 東京応化工業株式会社

    Inventor： 山野 仁詩 ,  松宮 祐 ,  矢萩 真人 ,  黒澤 剛志 ,  宮城 賢

    IPC: C08F212/04 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  B05D7/24 ,  B32B27/30 ,  C09D133/04 ,  C09D125/04

    CPC classification number: B05D1/36 ,  C09D125/14 ,  C09D153/00 ,  G03F7/0002 ,  B82Y40/00

    Abstract: 【課題】下地剤組成物及び相分離構造を含む構造体の製造方法。 【解決手段】基板上に、ブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤組成物であって、樹脂成分(N)を含有し、該樹脂成分(N)が、疎水性の構成単位(Nx)と、親水性の構成単位(Ny)とを含有し、前記樹脂成分(N)中の、前記構成単位(Ny)の含有量が、5モル%以下であることを特徴とする下地剤組成物。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种基质剂组合物和含有相分离结构的结构体的制造方法。溶液：提供了一种用于在基材上含有嵌段共聚物的层相分离的基材组合物，其含有 具有疏水结构单元（Nx）和亲水结构单元（Ny）的树脂组分（N），并且具有5mol％以下的结构单元（Ny）的含量。选择图：无

    樹脂の製造方法、及び相分離構造を含む構造体の製造方法
    4.
    发明专利
    樹脂の製造方法、及び相分離構造を含む構造体の製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2017226837A

    公开(公告)日：2017-12-28

    申请号：JP2017119670

    申请日：2017-06-19

    Applicant: 東京応化工業株式会社

    Inventor： 山野 仁詩 ,  松宮 祐

    IPC: B01D71/26 ,  C08F12/08 ,  C08F6/06

    Abstract: 【課題】不純物をより低減できる、樹脂の製造方法を提供すること、及び、ブロックコポリマーの相分離性能をより高められる、相分離構造を含む構造体の製造方法を提供する。 【解決手段】疎水性の構成単位(u1)の繰り返し構造からなる重合体を含有する樹脂組成物を、ポリオレフィン樹脂製の膜を備えたフィルターにより濾過して、精製樹脂を得る濾過工程を有する、樹脂の製造方法。濾過工程で得られた精製樹脂を含有する下地剤を、基板上に塗布して下地剤層を形成する工程と、下地剤層上に、疎水性ポリマーブロックと親水性ポリマーブロックとが結合したブロックコポリマーを含む層を形成する工程と、ブロックコポリマーを含む層を相分離させる工程と、を有する、相分離構造を含む構造体の製造方法。 【選択図】なし

    下地剤、及び相分離構造を含む構造体の製造方法
    7.
    发明专利
    下地剤、及び相分離構造を含む構造体の製造方法 审中-公开
    包含相分离结构的基板代理和制造方法

    公开(公告)号：JP2016108444A

    公开(公告)日：2016-06-20

    申请号：JP2014247108

    申请日：2014-12-05

    Applicant: 東京応化工業株式会社

    Inventor： 矢萩 真人 ,  鈴木 一生 ,  前橋 貴哉 ,  松宮 祐 ,  黒澤 剛志 ,  山野 仁詩

    IPC: B32B27/00 ,  B32B27/30 ,  B05D7/24 ,  C08F8/34

    Abstract: 【課題】ブロックコポリマーの相分離性能が高められ、簡便に用いることができる下地剤、及びこれを用いた相分離構造を含む構造体の製造方法を提供する。 【解決手段】基板上に形成した、疎水性ポリマーブロック(b11)と親水性ポリマーブロック(b21)とが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分は、疎水性ポリマーブロック(b12)の構成単位、又は親水性ポリマーブロック(b22)の構成単位を有し、かつ、主鎖の少なくとも一つの末端部にチオール基(−SH)を有することを特徴とする下地剤。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种提高嵌段共聚物的相分离性能并能够简单使用的底物，以及含有使用其的相分离结构的结构体的制造方法。溶液：提供了用于 含有形成在基材上的疏水性聚合物嵌段（b11）和亲水性聚合物嵌段（b21）的嵌段共聚物的层的相分离，含有具有疏水性聚合物嵌段（b12）的结构单元的树脂成分， 或亲水性聚合物嵌段（b22）的结构单元，并且在主链的至少一个末端部分上具有硫醇基（-SH）。选择图：无

    下地剤、及び相分離構造を含む構造体の製造方法
    8.
    发明专利
    下地剤、及び相分離構造を含む構造体の製造方法 有权
    包含相分离结构的基板代理和制造方法

    公开(公告)号：JP2016108436A

    公开(公告)日：2016-06-20

    申请号：JP2014246812

    申请日：2014-12-05

    Applicant: 東京応化工業株式会社

    Inventor： 矢萩 真人 ,  前橋 貴哉 ,  川上 晃也 ,  鈴木 一生 ,  松宮 祐 ,  黒澤 剛志 ,  山野 仁詩

    IPC: H01L21/027 ,  C08F12/04 ,  C08F8/00 ,  C09D5/00 ,  C09D125/04

    Abstract: 【課題】ブロックコポリマーの相分離性能が高められ、簡便に用いることができる下地剤、及びこれを用いた相分離構造を含む構造体の製造方法を提供する。 【解決手段】基板上に形成した、複数種類のブロックが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分は、式(u1−1)で表される置換基を有するポリスチレン誘導体である下地剤。 [RはH、C1〜5のアルキル基又はC1〜5のハロゲン化アルキル基;R 1 はハロゲン原子、又はO、ハロゲン原子或いはケイ素原子を含んでいてもよいC1〜20の直鎖状、分岐鎖状、環状或いはこれらの組み合わせによる炭化水素基;pは1〜5の整数] 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种提高嵌段共聚物的相分离性能并能够简单使用的底物，以及含有使用其的相分离结构的结构体的制造方法。溶液：提供了用于 包含嵌段共聚物的层的相分离，其中在基材上形成的几种嵌段结合，其含有具有由式（u1-1）表示的取代基的聚苯乙烯衍生物的树脂组分。 （u1-1），其中R是H，C1至5的烷基或C1至5的卤代烷基，R是卤素原子或O，C1至20的直链，支链，环状或组合的烃基，其可以含有 卤素原子或硅原子，p为1〜5的整数。选择图示：无

    相分離構造を含む構造体の製造方法及びブロックコポリマー組成物
    9.
    发明专利
    相分離構造を含む構造体の製造方法及びブロックコポリマー組成物 审中-公开
    用于制造包括相分离结构的结构的方法和嵌段共聚物组合物

    公开(公告)号：JP2015070054A

    公开(公告)日：2015-04-13

    申请号：JP2013201764

    申请日：2013-09-27

    Applicant: 東京応化工業株式会社

    Inventor： 黒澤 剛志 ,  塩野 大寿 ,  宮城 賢 ,  松宮 祐 ,  宮下 健一郎 ,  大森 克実

    IPC: C08L53/00 ,  B82Y40/00 ,  B82Y30/00 ,  B05D7/24 ,  H01L21/027

    CPC classification number: C09D153/00 ,  C09D183/10 ,  G03F7/0002 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C08G77/045 ,  C08G77/442

    Abstract: 【課題】相分離構造を含む構造体の製造方法、相分離構造体及びブロックコポリマー組成物の提供。 【解決手段】基板上に、中性化膜を塗布し、該中性化膜からなる層を形成する工程と、前記中性化膜からなる層の上に、周期の異なる複数種類のブロックコポリマーの混合物を含む層を形成する工程と、当該ブロックコポリマーの混合物を含む層を相分離させる工程と、を有することを特徴とする相分離構造を含む構造体の製造方法。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题：提供：一种用于制造包括相分离结构的结构的方法; 相分离结构; 和嵌段共聚物组合物。解决方案：一种用于制造包括相分离结构的结构的方法，包括以下步骤：通过将中和膜施加到基底上而形成由中和膜构成的层; 在由中和膜构成的层上形成包含循环不同的嵌段共聚物的混合物的层; 并引起包含嵌段共聚物的混合物的层的相分离。

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