レジストパターン微細化組成物及び微細パターン形成方法
    6.
    发明专利
    レジストパターン微細化組成物及び微細パターン形成方法 审中-公开
    精细图案的组合和精细图案形成方法

    公开(公告)号:JP2016028274A

    公开(公告)日:2016-02-25

    申请号:JP2015136458

    申请日:2015-07-07

    Abstract: 【課題】レジストパターンを精度よくかつ良好に微細化することができるレジストパターン微細化組成物の提供。 【解決手段】式(1−1)で表されるイオン、式(1−2)で表されるイオン、式(2−1)で表されるイオン、式(2−2)で表されるイオン及び溶媒を含有し、イオンの合計配合量が、溶媒以外の成分の総和に対して50質量%以上であるレジストパターン微細化組成物。 【選択図】図2

    Abstract translation: 要解决的问题:提供可以使抗蚀剂图案精细而有效地形成更精细的抗蚀剂图案的组合物。解决方案:用于更精细抗蚀剂图案的组合物包括由式(1-1)表示的离子,由式 1-2),由式(2-1)表示的离子,由式(2-2)表示的离子和溶剂。 这些离子的总含量相对于溶剂以外的成分的总和为50质量%以上。附图:图2

    フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物
    7.
    发明专利
    フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 有权
    光电组合物,电阻图案形成方法,聚合物和化合物

    公开(公告)号:JP2015096932A

    公开(公告)日:2015-05-21

    申请号:JP2013245494

    申请日:2013-11-27

    Abstract: 【課題】LWR性能、CDU性能、解像性、断面形状の矩形性、焦点深度、露光余裕度及びMEEF性能に優れるフォトレジスト組成物の提供。 【解決手段】式(1)で表される基を含む構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。式(1)中、R 1 及びR 2 は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。但し、R 1 及びR 2 のうちの少なくともいずれかは炭素数1〜20の1価の有機基である。上記R 1 及びR 2 の1価の有機基としては酸解離性基が好ましい。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题:提供LWR性能,CDU性能,分辨率,截面形状的矩形度,焦深,曝光余量和MEEF性能优异的光致抗蚀剂组合物。解决方案:光致抗蚀剂组合物含有具有结构的聚合物 含有式(1)的基团的单元和辐射敏感的酸产生剂。 在式(1)中,兰德尔稀土各自独立地为氢原子或1-20C一价有机基团,并且兰德尔中的至少一个为1-20C一价有机基团。 兰德Ris的一价有机基团优选是酸解离基团。

    塗料用キット、及び塗料用組成物を製造する方法

    公开(公告)号:JP2017160425A

    公开(公告)日:2017-09-14

    申请号:JP2017037841

    申请日:2017-03-01

    Abstract: 【課題】貯蔵安定性に優れると共に、基材と塗膜との密着性、塗膜の強度(例えば耐候性、耐水性、耐久性)及び安定性に優れる塗料用キット、及び該塗料用組成物製造する方法を提供する。 【解決手段】本発明に係る塗料用キットは、不飽和カルボン酸に由来する繰り返し単位を有する重合体(A)と、架橋剤(B1)と液状媒体と、を含有する第一の組成物と、架橋剤(B2)と、液状媒体と、を含有する第二の組成物と、を備える。また、架橋剤(B1)と架橋剤(B2)が異なる化合物であることもできる。 【選択図】なし

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