公开(公告)号：JP2020204765A

公开(公告)日：2020-12-24

申请号：JP2020074996

申请日：2020-04-20

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 錦織 克聡 ,  丸山 研 ,  笠原 一樹 ,  古川 剛 ,  木下 奈津子

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/039

Abstract: 【課題】高感度、良好なLWR性能、かつプロセス余裕度が広い感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。 【解決手段】フェノール性水酸基を含む第1構造単位、式(1)で表される基を含む第2構造単位及び酸解離性基を含む第3構造単位を有する重合体と、感放射線性酸発生体と、式(2)の化合物とを含有する感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2016028274A

公开(公告)日：2016-02-25

申请号：JP2015136458

申请日：2015-07-07

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 切通 優子 ,  仁井 啓之 ,  古川 剛 ,  塩谷 健夫

IPC: G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  C08F220/28 ,  C09K3/00 ,  G03F7/40

CPC classification number: G03F7/40 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322 ,  G03F7/405

Abstract: 【課題】レジストパターンを精度よくかつ良好に微細化することができるレジストパターン微細化組成物の提供。 【解決手段】式(1−1)で表されるイオン、式(1−2)で表されるイオン、式(2−1)で表されるイオン、式(2−2)で表されるイオン及び溶媒を含有し、イオンの合計配合量が、溶媒以外の成分の総和に対して50質量%以上であるレジストパターン微細化組成物。 【選択図】図2

Abstract translation: 要解决的问题：提供可以使抗蚀剂图案精细而有效地形成更精细的抗蚀剂图案的组合物。解决方案：用于更精细抗蚀剂图案的组合物包括由式（1-1）表示的离子，由式 1-2），由式（2-1）表示的离子，由式（2-2）表示的离子和溶剂。 这些离子的总含量相对于溶剂以外的成分的总和为50质量％以上。附图：图2

公开(公告)号：JP5760850B2

公开(公告)日：2015-08-12

申请号：JP2011182217

申请日：2011-08-24

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 関口 学 ,  古川 剛 ,  藤田 賢治 ,  青木 修

IPC: H01L21/02 ,  C08L101/12 ,  C08L61/00 ,  C08L25/02 ,  C08L33/06 ,  C08K5/09 ,  C08K5/01 ,  B81C3/00

公开(公告)号：JP2020203984A

公开(公告)日：2020-12-24

申请号：JP2019112329

申请日：2019-06-17

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 根本 龍一 ,  古川 剛

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  C08K5/09 ,  C08F220/36 ,  C07D327/04 ,  C07D309/10 ,  C07D319/20 ,  C07D317/40 ,  C07D307/33 ,  C08L101/02

Abstract: 【課題】露光光に対する感度が良好であり、LWR性能及びCDU性能に優れる感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、酸拡散制御剤、及び化合物の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体と、下記式(1)で表される化合物とを含有する感放射線性樹脂組成物である。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2020008640A

公开(公告)日：2020-01-16

申请号：JP2018127573

申请日：2018-07-04

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 笠原 一樹 ,  古川 剛 ,  丸山 研 ,  錦織 克聡

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

Abstract: 【課題】露光工程における感度やLWR性能等において優れた性能を有するレジストパターンの形成方法及び感放射線性樹脂組成物の提供。 【解決手段】基板上に直接又は間接に、フェノール性水酸基を有する構造単位(a1)及び環状構造を含む酸解離性基を有する構造単位(a2)を含む樹脂(A)、放射線の照射により式(1)で表される酸を発生する感放射線性酸発生剤(B)、特定のジフェニルスルホン化合物(C)並びに、溶剤(D)を含む感放射線性樹脂組成物を塗布してレジスト膜を形成する工程(1)、前記レジスト膜を露光する工程(2)、及び、露光された前記レジスト膜を現像する工程(3)を含むレジストパターンの形成方法。 (式中、R p1 は、環構造を含む1価の基等である。)、 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6540293B2

公开(公告)日：2019-07-10

申请号：JP2015136458

申请日：2015-07-07

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 切通 優子 ,  仁井 啓之 ,  古川 剛 ,  塩谷 健夫

IPC: G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  C08F220/28 ,  C09K3/00 ,  G03F7/40

公开(公告)号：JP5971248B2

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：JP2013524720

申请日：2012-07-17

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 酒井 達也 ,  西村 秀樹 ,  山本 雅浩 ,  中川 恭志 ,  齊藤 隆一 ,  青木 英行 ,  古川 剛

IPC: C07F5/06 ,  C23C16/20 ,  H01L21/28 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/768 ,  H01L23/532 ,  H01L21/8242 ,  H01L27/108 ,  H01L21/285 ,  H01L21/288 ,  C23C16/18

CPC classification number: C23C16/06 ,  C23C16/18 ,  H01L21/28556 ,  H01L21/32051 ,  H01L21/76843 ,  H01L21/76877

公开(公告)号：JP5817593B2

公开(公告)日：2015-11-18

申请号：JP2012046393

申请日：2012-03-02

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 酒井 達也 ,  西村 秀樹 ,  中川 恭志 ,  山本 雅浩 ,  青木 英行 ,  齊藤 隆一 ,  古川 剛

IPC: C23C18/14 ,  H01L21/285 ,  H01L21/28 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/768 ,  H01L23/532 ,  C07C211/65 ,  C23C18/10