公开(公告)号：JP5617504B2

公开(公告)日：2014-11-05

申请号：JP2010222675

申请日：2010-09-30

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 憲彦 池田 ,  憲彦 池田 ,  賢二 星子 ,  賢二 星子 ,  寛 冨岡 ,  寛 冨岡

IPC: G03F7/039 ,  C08F2/50 ,  C08F20/10 ,  G03F7/004

CPC classification number: C08F2/50 ,  C08F20/10 ,  G03F7/00

公开(公告)号：JPWO2011125685A1

公开(公告)日：2013-07-08

申请号：JP2012509496

申请日：2011-03-29

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 寛 冨岡 ,  寛 冨岡 ,  昇 大塚 ,  昇 大塚 ,  征矢野　晃雅 ,  晃雅 征矢野

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/10 ,  C08F220/28 ,  C08L33/06 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122

Abstract: 本発明は、[A]下記式(a1)で表される構造単位(I)、下記式(a2)で表される構造単位(II)及びラクトン構造を含む構造単位(III)を有する重合体、並びに[B]感放射線性酸発生剤を含有し、上記構造単位(I)の含有割合が、[A]重合体を構成する全構造単位に対して50モル%以上である感放射線性樹脂組成物である。[A]重合体が、ラクトン構造を有する構造単位(III)をさらに有することが好ましい。上記構造単位(I)が、下記式(a1−1)で表される構造単位(I−1)であることが好ましい。

公开(公告)号：JP5655352B2

公开(公告)日：2015-01-21

申请号：JP2010084494

申请日：2010-03-31

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 征矢野　晃雅 ,  晃雅 征矢野 ,  寛 冨岡 ,  寛 冨岡 ,  龍一 芹澤 ,  龍一 芹澤 ,  芳史 大泉 ,  芳史 大泉

IPC: G03F7/039 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JPWO2011115190A1

公开(公告)日：2013-07-04

申请号：JP2012505737

申请日：2011-03-16

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 昇 大塚 ,  昇 大塚 ,  誠 杉浦 ,  誠 杉浦 ,  寛 冨岡 ,  寛 冨岡 ,  研 丸山 ,  研 丸山

IPC: G03F7/004 ,  C08F20/38 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C08F220/38 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

Abstract: 本発明は、LWRが小さく、かつパターン形状に優れるレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とし、[A]下記式(1)で表される構造単位(I)を有する酸解離性基含有重合体、及び[B]下記式(2)で表される化合物を含有する感放射線性樹脂組成物である。下記式(1)におけるM+が、下記式(3)及び下記式(4)でそれぞれ表されるオニウムカチオンからなる群より選ばれる少なくとも1種のオニウムカチオンであることが好ましい。

公开(公告)号：JP5126182B2

公开(公告)日：2013-01-23

申请号：JP2009191426

申请日：2009-08-20

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 信司 松村 ,  幸生 西村 ,  晃雅 征矢野 ,  龍一 芹澤 ,  昇 大塚 ,  寛 冨岡

IPC: G03F7/004 ,  C07C311/09 ,  C07C381/12 ,  C08F20/36 ,  C08F20/38 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP5407906B2

公开(公告)日：2014-02-05

申请号：JP2010017785

申请日：2010-01-29

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 芳史 大泉 ,  昇 大塚 ,  晃雅 征矢野 ,  龍一 芹澤 ,  寛 冨岡

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-sensitive resin composition, which is free from problems of a radiation-sensitive acid generator, having a perfluoroalkyl sulfonyl structure such as PFOS (perfluoro-n-octane sulfonic acid), which has characteristics of excellent resolution performance, no vaporization of an acid generated by exposure, and an appropriately short diffusion length, and which gives a small LWR (line width roughness) as an index of fluctuation in the line width of a resist pattern, and can give a resist pattern having a small film reduction. SOLUTION: The radiation-sensitive resin composition comprises (A) a radiation-sensitive acid generator, having a partial fluoroalkyl structure and (B) a resin having a specified cyclic carbonate structure. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT