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发明专利
KR20210024689A - Method for producing at least one recess in a material by means of electromagnetic radiation and subsequent etching process 审中-公开

公开(公告)号：KR20210024689A

公开(公告)日：2021-03-05

申请号：KR1020217005915A

申请日：2018-03-05

Applicant: 엘피케이에프 레이저 앤드 일렉트로닉스 악티엔게젤샤프트

Inventor： 로만 오슈트홀트 , 노르베르트 암브로지우스 , 아르네 슈노어 , 다니엘 둔커

IPC: B23K26/402 , B23K26/00 , B23K26/0622 , B23K26/53 , B23K103/00 , B81C1/00 , C03C23/00

CPC classification number: B23K26/0006 , B23K26/06 , B23K26/0624 , B23K26/402 , B23K26/53 , B41J2/1433 , B41J2/162 , B41J2/1626 , B81B1/004 , B81C1/00087 , B81C1/00103 , B81C1/00595 , C03C15/00 , C03C23/00 , C03C23/0025 , B23K2103/50 , B23K2103/54 , B81B2201/052 , B81B2201/058 , B81B2203/0353 , B81B2203/0392 , B81C2201/0133 , B81C2201/0143

Abstract: 본 발명은 투명한 또는 투과성 유리 기판 (2) 안으로 적어도 하나의 관통구멍 (1) 을 도입하기 위한 방법에 관한 것이며, 상기 유리 기판 (2) 은 전자기 방사선, 특히 레이저를 이용해 빔축 (s) 을 따라 선택적으로 변조된다. 상기 변조들이 유리 기판 (2) 안에서 빔축 (s) 을 따라, 서로 다른 특성들을 갖는 전자기 방사선에 의해, 예컨대 서로 다른 펄스 에너지에 의해, 생성됨으로써, 상기 유리 기판 (2) 안의 에칭공정이 비균질하게 서로 다른 에칭률들로 진행된다. 이를 통해, 상기 투명한 또는 투과성 재료 안에서 에칭 처리를 근거로 생기는 관통구멍 (1) 을 타겟팅하여 그리고 선택적으로 상기 변조들의 서로 다른 특성들을 통해 형성하는 그리고 예컨대 상기 관통구멍 (1) 의 원뿔각도 (α, β) 를 변화시키는 가능성이 만들어내진다.

2.

发明专利
ｎｍ範囲の穴を有する３次元メンブレン構造を有する構造化可能な基板に基づく構成要素及びその製造に関する半導体技術の方法审中-公开

公开(公告)号：JP2018504579A

公开(公告)日：2018-02-15

申请号：JP2017523412

申请日：2015-10-21

Applicant: フラウンホファーゲセルシャフトツールフェールデルンクダーアンゲヴァンテンフォルシュンクエー.ファオ.

Inventor： トーマス・リセック , エリック・ネーブリング , シュテファン・クビック , シュテフェン・ルップ

IPC: G01N27/28 , B82Y5/00 , B82Y40/00 , G01N27/416 , G01N33/68

CPC classification number: G01N33/48721 , B01D67/0039 , B81B2201/0214 , B81B2201/051 , B81B2203/0127 , B81B2203/0353 , B81C1/00087 , G01N27/44791

Abstract: 本発明は、多孔質メンブレンによって閉鎖された少なくとも1つの連続的な開口部を有する構造化可能な材料からなるキャリアを含む構成要素であって、多孔質メンブレンが、連続的な開口部を取り囲む構成要素の表面から突出することを特徴とする、構成要素に関する。いくつかの実施形態において、構成要素はキャリア基板をさらに含み、構成要素に面するキャリア基板の側及び構成要素の反対側が好適には流路を形成し、キャリアの少なくとも1つの連続的な開口部が、好適には流路を有する開放側に連通する。本発明に係る構成要素は、好適には脂質二重層における膜貫通タンパク質の導入及び電気化学的測定に適している。本発明はまた、構成要素を製造するための様々な方法を提案する。

3.

发明专利
基板開口を形成する方法有权
Title translation: 形成的衬底开口的方法

公开(公告)号：JP2016521012A

公开(公告)日：2016-07-14

申请号：JP2016516657

申请日：2014-04-24

Applicant: マイクロンテクノロジー, インク. , マイクロンテクノロジー, インク.

Inventor： キールバウチ，マーク

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/76804 , B44C1/227 , B81B2203/0315 , B81B2203/0323 , B81B2203/033 , B81B2203/0338 , B81B2203/0353 , B81C1/00103 , B81C1/00531 , G02B6/136 , H01L21/3065 , H01L21/308 , H01L21/3083 , H01L21/31116 , H01L21/32 , H01L21/32136 , H01L21/32137 , H01L21/76232

Abstract: 基板開口を形成する方法は、基板内に複数の横並び開口を形成することを含む。直接隣接する横並び開口のうちの少なくとも幾つかは、基板内で互いに異なる深さに形成される。横並び開口間に横方向に存在する壁は、非垂直側壁表面を有するより大きい開口を形成するために除去され、壁は、除去される壁に直交し、側壁表面を通る少なくとも一つの垂直断面において除去された。【選択図】図1

Abstract translation: 形成基板开口的方法包括在衬底中形成多个并排的侧孔。中的至少一些直接相邻的并排侧开口被在基板的不同深度形成。壁中存在的由侧面开口的侧面之间的横向方向上被去除，以形成具有非垂直侧壁表面上的较大开口，壁是垂直于壁被除去，通过侧壁表面的至少一个垂直剖面它已被删除。点域1

4.

发明专利
ノズルの製造方法有权
Title translation: 一种制造喷嘴的方法

公开(公告)号：JP2015501402A

公开(公告)日：2015-01-15

申请号：JP2014540088

申请日：2012-11-01

Applicant: スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー , スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー

Inventor： ジュン‐インザン， , ジュン‐インザン， , マイケルアール．ゴーマン， , マイケルアール．ゴーマン， , ハイヤンザン， , ハイヤンザン， , レイモンドピー．ジョンストン， , レイモンドピー．ジョンストン， , バリーエス．カーペンター， , バリーエス．カーペンター， , ジョンシー．クラーク， , ジョンシー．クラーク，

IPC: F02M61/18 , B29C43/24 , F02M51/06 , F02M61/16

CPC classification number: B05B1/14 , B81B2203/0353 , B81C99/0085 , B81C2201/034 , Y10T29/4998

Abstract: ノズルの製造方法について開示する。より具体的には、燃料噴射システムの構成部品として使用され得る、ノズルの製造方法を開示する。

Abstract translation: 它公开了一种制造喷嘴的方法。更具体地，可被用作燃料喷射系统的部件，公开了一种制造喷嘴的方法。

5.

发明专利
Method of forming sub-lithographic structure using directional self-assembly of polymers 有权

公开(公告)号：JP5579494B2

公开(公告)日：2014-08-27

申请号：JP2010102303

申请日：2010-04-27

Applicant: インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Machines Corporation

Inventor： ジョイ・チェン , ダニエル・ポール・サンダース , チャールズ・トーマス・レットナー , ヤンヘェ・ナ , ダ・ヤン , カファイ・レイ , ワイキン・リー

IPC: B05D7/00 , B82B3/00 , H01L21/027 , H01L21/768

CPC classification number: H01L21/76816 , B81B2203/0353 , B81B2207/07 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , B81C2201/0198 , G03F7/40 , H01L21/0337 , H01L21/31144 , Y10S438/947

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发明专利
A method of manufacturing a semiconductor device 有权

公开(公告)号：JP4556454B2

公开(公告)日：2010-10-06

申请号：JP2004073218

申请日：2004-03-15

Applicant: パナソニック電工株式会社

Inventor： 昌男桐原 , 和夫江田 , 洋一西嶋 , 幸司辻

IPC: B81C1/00 , B81B1/00

CPC classification number: B81C1/00142 , B81B2201/0242 , B81B2203/0136 , B81B2203/0353

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发明专利
マイクロ流体デバイスおよび試料分析方法审中-公开

公开(公告)号：JPWO2017061600A1

公开(公告)日：2018-08-02

申请号：JP2016079956

申请日：2016-10-07

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 後藤圭佑 , 牧野洋一 , 星野昭裕

IPC: B01J19/00 , B01J19/12 , G01N21/03

CPC classification number: B01L3/502715 , B01J19/00 , B01L7/52 , B01L2300/046 , B01L2300/0829 , B01L2300/0877 , B01L2300/0887 , B01L2300/161 , B81B1/006 , B81B2201/057 , B81B2203/0338 , B81B2203/0353 , G01N21/03 , G01N21/64 , G01N21/6428 , G01N21/6452 , G01N2021/6439

Abstract: マイクロ流体デバイスは、電磁波を透過可能であり、かつ自家蛍光を有しない基板と、前記基板上に形成され、厚さ方向に複数の貫通孔が形成された壁部層を有するマイクロウェルアレイと、前記壁部層と離間した状態で前記基板と対向配置された蓋部材と、を備え、前記基板と前記壁部層に形成された前記貫通孔とでマイクロウェルが形成され、前記壁部層は、所定の波長の電磁波を吸収する有色成分を含有する材料から形成されている。