公开(公告)号：JP2014225023A

公开(公告)日：2014-12-04

申请号：JP2014125020

申请日：2014-06-18

申请人： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. ,  Rohm & Haas Electronic Materials Llc

发明人： JAMES F CAMERON ,  ZYDOWSKY THOMAS M

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07B61/00 ,  C07C17/263 ,  C07C22/08 ,  C07C303/20 ,  C07C303/32 ,  C07C309/24 ,  C07C381/12 ,  C09K3/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： C07C303/20 ,  C07C303/32 ,  C07C309/24 ,  C07C381/12 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122

摘要： 【課題】新規な光感応性酸発生剤化合物(PAGs)およびそれらの化合物を含むフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】放射線で露光されることによりα,α−ジフルオロアルキルスルホン酸を発生させる光感応性酸発生剤化合物を含有するフォトレジスト組成物。このようなPAGsを含むポジ型およびネガ型の化学的に増幅されたレジストが要求されている。またこのようなPAGsおよびα,α−ジフルオロアルキルスルホン酸の合成方法も含む。【選択図】なし

摘要翻译： 要解决的问题：提供新的感光酸产生剂化合物（PAG）和包含该化合物的光致抗蚀剂组合物。解决方案：本发明涉及光致抗蚀剂组合物，其包含在暴露于...时产生α，α-二氟烷基磺酸的光敏酸产生剂化合物 辐射。 需要含有这种PAG的正性和负性化学增强抗蚀剂。 本发明还包括合成这种PAG和α，α-二氟烷基磺酸的方法。

公开(公告)号：JP2013080234A

公开(公告)日：2013-05-02

申请号：JP2012255880

申请日：2012-11-22

申请人： Rohm & Haas Electronic Materials Llc ,  ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

发明人： JAMES F CAMERON ,  ZYDOWSKY THOMAS M

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07B61/00 ,  C07C17/263 ,  C07C22/08 ,  C07C25/02 ,  C07C303/20 ,  C07C303/32 ,  C07C309/24 ,  C07C381/12 ,  C09K3/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： C07C303/20 ,  C07C303/32 ,  C07C309/24 ,  C07C381/12 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide new photoacid generator compounds which can be used in both positive and negative photoresist compositions, and photoresist compositions that comprise the compounds.SOLUTION: A photoresist composition comprises a resin binder and a photoacid generator compound in an amount sufficient to permit development of an exposed coating layer of the composition. The photoacid generator generates α,α-difluoroalkyl sulfonic acid upon exposure to radiation.

摘要翻译： 要解决的问题：提供可用于正光致抗蚀剂组合物和负光致抗蚀剂组合物的新的光酸产生剂化合物，以及包含该化合物的光致抗蚀剂组合物。 解决方案：光致抗蚀剂组合物包含足以允许显影组合物的暴露涂层的量的树脂粘合剂和光致酸产生剂化合物。 光致酸发生剂在暴露于辐射时产生α，α-二氟烷基磺酸。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2012201654A

公开(公告)日：2012-10-22

申请号：JP2011069685

申请日：2011-03-28

申请人： Nitto Denko Corp ,  日東電工株式会社

发明人： SUGITANI TORU

IPC分类号： C07C309/43 ,  C07C303/06

CPC分类号： C07C309/50 ,  C07C303/20 ,  C07C309/43 ,  C07C2603/18

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new diamine compound containing a sulfonic acid group.SOLUTION: The diamine compound containing a sulfonic acid group is represented by formula (1). In formula (1), A represents, for example, an optionally substituted divalent aliphatic group (the number of carbon atoms being ten or less) and an aromatic group (the number of rings being four or less).

摘要翻译： 待解决的问题：提供含有磺酸基团的新的二胺化合物。 解决方案：含有磺酸基团的二胺化合物由式（1）表示。 在式（1）中，A表示例如任选取代的二价脂族基（碳数为10以下）和芳基（环数为4以下）。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP3929482B2

公开(公告)日：2007-06-13

申请号：JP50555195

申请日：1994-07-25

申请人： コグニス・ドイッチュランド・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンデイトゲゼルシヤフト

发明人： フォイシュテル、ディーター ,  ヘルト、ウヴェ ,  メイヤー、ヨアヒム

IPC分类号： C07C309/17 ,  B01F17/00 ,  B01F17/10 ,  B01F17/42 ,  B01F17/52 ,  C07C303/20 ,  C07C303/32 ,  C11D1/12 ,  C11D3/34

CPC分类号： C11D1/123 ,  B01F17/0057 ,  C07C303/20 ,  C07C303/32 ,  C07C309/17 ,  Y10S516/909

公开(公告)号：JP2017214568A

公开(公告)日：2017-12-07

申请号：JP2017106500

申请日：2017-05-30

申请人： 花王株式会社

发明人： 森川 悟史 ,  櫻庭 彩子 ,  喜多 亜矢子 ,  遠藤 寛子

IPC分类号： D06F35/00 ,  C11D17/08 ,  C11D3/43 ,  C11D1/14

CPC分类号： C11D1/14 ,  C11D17/08 ,  C11D3/43 ,  D06L1/12 ,  D06M13/256 ,  C07C303/20 ,  C07C303/32 ,  C07C309/08 ,  C07C309/20

摘要： 【課題】繊維製品に対する風合い付与効果に優れ、且つ繊維製品に付着した汚れに対する洗浄力に優れた繊維製品用液体洗浄剤組成物を提供する。 【解決手段】下記(A)成分を10質量%以上60質量%以下、下記(B)成分及び水を含有する繊維製品用液体洗浄剤組成物。 (A)成分:炭素数17以上24以下の内部オレフィンスルホン酸塩であって、該内部オレフィンスルホン酸塩における、スルホン酸基が2位以上4位以下に存在する炭素数17以上24以下の内部オレフィンスルホン酸塩(IO−1S)とスルホン酸基が5位以上に存在する炭素数17以上24以下の内部オレフィンスルホン酸塩(IO−2S)との質量比が(IO−1S)/(IO−2S)で0.75以上5.5以下である、内部オレフィンスルホン酸塩 (B)成分:水酸基を有する有機溶剤 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6215686B2

公开(公告)日：2017-10-18

申请号：JP2013263099

申请日：2013-12-19

申请人： 花王株式会社

发明人： 高田 慎吾

IPC分类号： C07C11/02 ,  C07C309/20 ,  C07C303/06 ,  B01J23/30 ,  B01J27/053 ,  B01J27/18 ,  B01J37/02 ,  B01J37/04 ,  C07C1/24

CPC分类号： B01J27/053 ,  B01J21/12 ,  B01J23/002 ,  B01J23/30 ,  B01J27/16 ,  B01J35/002 ,  B01J35/1019 ,  B01J35/1038 ,  B01J35/1042 ,  B01J35/1047 ,  B01J35/1061 ,  B01J37/0236 ,  C07C1/24 ,  C07C303/20 ,  C07C303/32 ,  C07F9/65685 ,  B01J21/04 ,  B01J23/10 ,  C07C2521/04 ,  C07C2521/06 ,  C07C2521/12 ,  C07C2523/30 ,  C07C2527/02 ,  C07C2527/053 ,  C07C2527/14 ,  C07C2527/167

公开(公告)号：JP5184129B2

公开(公告)日：2013-04-17

申请号：JP2008032677

申请日：2008-02-14

申请人： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

发明人： エフ キャメロン ジェームズ ,  エム ジドウスキー トーマス

IPC分类号： C07C303/20 ,  C07B61/00 ,  C07C17/263 ,  C07C22/08 ,  C07C303/32 ,  C07C309/24 ,  C07C381/12 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： C07C303/20 ,  C07C303/32 ,  C07C309/24 ,  C07C381/12 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122

公开(公告)号：JP2008545790A

公开(公告)日：2008-12-18

申请号：JP2008515896

申请日：2006-06-07

申请人： イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニーE.I.Du Pont De Nemours And Company

发明人： ピー．ジャンク クリストファー ,  シュネップ ゾエ ,  アンドリュー ハーマー マーク

IPC分类号： C07C303/20 ,  C07C309/04

CPC分类号： C07C303/32 ,  C07C303/20 ,  C07C309/06

摘要： スルホン酸基に結合された炭素原子に隣接する炭素原子に結合された少なくとも１個の水素を有するヒドロフルオロアルカンスルホン酸の製造方法であって、約ｐＨ４〜ｐＨ１２に調節された水溶液中でフルオロオレフィンを亜硫酸塩と接触させる工程と、溶液から水を除去して固体を形成させる工程と、固体をオレウムで直接処理する工程と、ヒドロフルオロアルカンスルホン酸を蒸留する工程とを含むことを特徴とする方法。 高い純度でヒドロフルオロアルカンスルホン酸カリウムの製造する方法も記載されている。

公开(公告)号：JP2017083826A

公开(公告)日：2017-05-18

申请号：JP2016201651

申请日：2016-10-13

申请人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC ,  Rohm & Haas Electronic Materials Llc ,  ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC

发明人： JAMES F CAMERON ,  ZYDOWSKY THOMAS M

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07B61/00 ,  C07C17/263 ,  C07C22/08 ,  C07C303/20 ,  C07C303/32 ,  C07C309/24 ,  C07C381/12 ,  C09K3/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： C07C303/20 ,  C07C303/32 ,  C07C309/24 ,  C07C381/12 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122

摘要： 【課題】サブミクロンの単位でより高い解像度を与えうる新規な光感応性酸発生剤化合物(PAGs)と合成方法、及びそれらの光感応性酸発生剤化合物を含むフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】放射線で露光されることによりα,α−ジフルオロアルキルスルホン酸を発生させる新規な光感応性酸発生剤化合物(PAGs)を含むポジ型およびネガ型の化学的に増幅されたフォトレジスト組成物。【選択図】なし

公开(公告)号：JP2016529222A

公开(公告)日：2016-09-23

申请号：JP2016523799

申请日：2014-06-18

申请人： ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー ,  ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー

发明人： ポール・アール・エロウェ ,  ワンリン・ユ ,  ブラッド・シー・バイレイ ,  マイケル・エル・タルキンスキー ,  アンドレ・ビー・アルジャントン ,  ダニエル・ジェイ・アリオラ ,  ジャージー・ジェイ・クロシン

IPC分类号： C07C45/50 ,  A61K8/39 ,  A61K8/46 ,  A61K8/86 ,  A61Q19/00 ,  C07C29/141 ,  C07C31/125 ,  C07C47/02 ,  C07C303/02 ,  C07C309/20 ,  C08F10/00

CPC分类号： C07C45/505 ,  B01J31/2213 ,  B01J31/223 ,  B01J2231/20 ,  B01J2531/48 ,  C07C2/32 ,  C07C7/04 ,  C07C29/141 ,  C07C31/125 ,  C07C41/01 ,  C07C45/50 ,  C07C303/20 ,  C07C303/24 ,  C07C309/04 ,  C07C2531/14 ,  C07C2531/18 ,  C07C2531/22 ,  C11D1/143 ,  C11D1/146 ,  C11D3/168 ,  C08F110/02 ,  C08F4/65912 ,  C08F8/36 ,  C08F2500/02 ,  C07C11/02 ,  C07C305/04 ,  C07C47/02

摘要： 軽分岐界面活性剤生成物を調製するための方法は、少なくとも1つのオリゴマー生成物が形成されるような条件下で、少なくとも1つのオレフィンと配位挿入触媒とを合わせることを含む。この界面活性剤生成物は、平均0.5〜2.5の分岐を含有する炭素主鎖を含み、それらの分岐の50%超がエチル分岐であり、それらの分岐は、界面活性剤生成物分子の20%超で、炭素主鎖の各末端から1つを超える炭素分離れて配置される。【選択図】なし

摘要翻译： 用于制备光分支表面活性剂产品，包括使得至少一个低聚物产物形成的条件下结合的方法，和至少一种烯烃和协调插入催化剂。 含支化平均0.5〜2.5，乙基支链的50％以上的它们的支，其分支机构，表面活性剂的产物分子的20％的含表面活性剂产品的碳骨架 德超级，从碳主链的每一端间隔开的多于一个的碳含量。 系统技术领域