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公开(公告)号：KR20210032910A
公开(公告)日：2021-03-25
申请号：KR1020200117575A
申请日：2020-09-14
Applicant: 인피늄 인터내셔날 리미티드
Inventor： 콜린 모르톤 , 폴 디 커비 , 앤드류 씨 수트코브스키 , 크리지스토프 제르지 마란스키
IPC: C10G75/04 , C07C303/10 , C10G29/28
CPC classification number: C10L1/2437 , C10G75/02 , C07C303/10 , C07C309/20 , C10G29/28 , C10G75/04 , C10L10/04 , C10L10/08 , C10L10/18 , C10G2300/206 , C10G2300/80
Abstract: 아스팔텐을 용매화 및/또는 분산시키는 원유의 능력은 (i) 폴리(부틸렌일)벤젠 설폰산; 또는 (ii) 폴리(프로필렌일)벤젠 설폰산; 또는 (iii) 폴리(부틸렌일)벤젠 설폰산 및 폴리(프로필렌일)벤젠 설폰산의 조합물을 포함하는 첨가제를 포함하는 원유를 제공함으로써 증가된다.
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公开(公告)号：JP2018066102A
公开(公告)日：2018-04-26
申请号：JP2017199168
申请日：2017-10-13
Applicant: 花王株式会社
IPC: D06M11/155 , D06M13/256
CPC classification number: C07C309/20 , D06M11/155 , D06M13/256
Abstract: 【課題】繊維製品本来の吸水性を低下させることなく、繊維製品を柔らかな風合いに仕上げる繊維用改質剤を提供する。 【解決手段】炭素数17以上24以下の内部オレフィンスルホン酸塩からなる繊維用改質剤。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2017214567A
公开(公告)日：2017-12-07
申请号：JP2017106499
申请日：2017-05-30
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: C07C43/10 , C07C229/16 , C07C309/20 , C07C43/11 , C11D1/14 , C11D1/72 , C11D1/74 , D06L1/12
Abstract: 【課題】繊維に付着した汚れの洗浄力を維持しつつ、繊維を柔らかく仕上げることが出来る、繊維用洗浄剤組成物、及び繊維の洗浄方法の提供。 【解決手段】下記(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含有する繊維用洗浄剤組成物であって、(B)成分と(A)成分の質量比(B)/(A)が0以上1.0以下であり、該組成物が(B)成分を含む場合は、HLB10.5を超えるノニオン界面活性剤を含有し、(C)成分の含有量が20質量%以下であり、該組成物が硬度成分を含む水中での繊維の洗浄に用いる為の組成物である、繊維用洗浄剤組成物。 (A)成分:炭素数17以上24以下の内部オレフィンスルホン酸塩 (B)成分:ノニオン界面活性剤 (C)成分:金属イオンキレート剤 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP5883560B2
公开(公告)日：2016-03-15
申请号：JP2010505835
申请日：2009-03-27
Applicant: 旭化成ファインケム株式会社
IPC: C07C303/44 , C08F28/02 , H01L21/312 , H01M8/02 , C07C309/20
CPC classification number: B01D1/065 , B01D3/02 , C07C309/20 , C08F220/44 , C08F228/02 , H01M8/1023 , H01M8/1025 , H01M8/103 , H01M8/1044 , H01M8/1072 , Y02E60/521 , Y02P70/56
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公开(公告)号：JPWO2011024988A1
公开(公告)日：2013-01-31
申请号：JP2011528887
申请日：2010-08-30
Applicant: 和光純薬工業株式会社
IPC: C07C309/20 , C07C211/63 , C07D213/06 , C07D213/20 , C07D213/68 , C07D233/58 , C07D295/04 , C07D295/08
CPC classification number: C07C309/20 , C07D213/06 , C07D213/20 , C07D213/68 , C07D233/58 , C07D295/04 , C07D295/08
Abstract: 要約課題コストが低く環境に優しく、且つ低い粘性及び融点を有する新規イオン液体を提供すること。解決手段本発明は、一般式[1]で示されるイオン液体の発明である。{式中、R1〜R3及びn個のR4は夫々独立して水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表し、R5〜R7は夫々独立してアルキル基、アラルキル基又はアリル基を表し、R8はアルキル基、アラルキル基、アリル基又は一般式[2](式中、Tは炭素数1〜8のアルキレン鎖を表し、R1〜R7及びnは前記に同じ。)で示される基を表し、Xは窒素原子又はリン原子を表し、nは1又は2を表す。nが1の場合は、R3とR4とが結合し、隣接する炭素原子と一緒になってシクロヘキセン環を形成していてもよい。また、Xが窒素原子である場合は、R5〜R7又はR5〜R6とそれらが結合する窒素原子とでヘテロ環を形成していてもよい。}
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPWO2010030024A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：JP2010528772
申请日：2009-09-14
Applicant: 株式会社日本触媒
IPC: C07C303/02 , C07C309/09 , C08F16/30
CPC classification number: C07C309/20 , C07C303/02 , C07C309/09 , C08F216/1466
Abstract: 副生成物の生成を抑制し、高純度かつ良好な重合性を有するスルホン酸基含有エーテル化合物を効率的に製造できる方法、及び、不純物の含有量が少なく、かつ良好なラジカル(共)重合性を有するスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物を提供する。下記一般式(1)で表される化合物と亜硫酸化合物とを反応させてスルホン酸基含有エーテル化合物を製造する方法であって、アルカリ性物質を用いて反応系のpHを5.5以上に調整する工程と、亜硫酸化合物が存在する反応器に下記一般式(1)で表される化合物を添加する工程とを含むスルホン酸基含有エーテル化合物の製造方法。
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公开(公告)号：JPWO2008078767A1
公开(公告)日：2010-04-30
申请号：JP2008551129
申请日：2007-12-26
Applicant: 旭化成ファインケム株式会社
IPC: C07C303/22 , C07C303/44 , C07C309/20
CPC classification number: C07C303/22 , C07C303/44 , C07C309/20
Abstract: ビニルスルホン酸塩を脱金属処理する工程を有するビニルスルホン酸の製造方法であって、式:脱金属率(%)={(脱金属処理後の酸価)/(脱金属処理前の酸価)}×100で表される脱金属率が95%以上である方法。ビニルスルホン酸塩を脱金属処理する工程を有するビニルスルホン酸の製造方法であって、脱金属処理が強酸性イオン交換樹脂を用いて行う処理である方法。更に薄膜蒸留装置により精製する工程を有する前記ビニルスルホン酸の製造方法。
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8.发明专利Fluorine-containing sulfonate having polymerizable anion and method for producing the same, fluorine-containing resin, resist composition and method for forming pattern using the same 有权含有可聚合阴离子的含氟磺酸盐及其制备方法，含氟树脂，耐蚀组合物和使用其形成图案的方法
公开(公告)号：JP2010095643A
公开(公告)日：2010-04-30
申请号：JP2008268476
申请日：2008-10-17
Applicant: Central Glass Co Ltd , セントラル硝子株式会社
Inventor： MASUBUCHI TAKESHI , MORI KAZUKI , HAGIWARA YUJI , NARIZUKA SATOSHI , MAEDA KAZUHIKO
CPC classification number: C07C303/32 , C07C309/12 , C07C309/20 , C07C381/12 , C08F220/24 , C08F220/38 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/30 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , C08F220/28
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new photoacid generation agent that is highly sensitive to ArF excimer laser etc., generates an acid (photogenerated acid) having an enough high acidity, has a moderately short diffusion length in inside of resist coating, and depends only slightly on roughness and fineness of mask pattern, a new sulfonate comprising the acid generation agent, a sulfonic acid generated from the acid generation agent, and also to provide a sulfonic acid derivative useful as raw materials or intermediates for synthesizing the photoacid generating agent, and a method for producing the sulfonate. SOLUTION: There is provided a polymerizable fluorine-containing onium sulfonate represented by general formula (2) (wherein Z is (un)substituted 1-6C linear or branched alkylene; R is H, halogen, 1-3C alkyl or fluorine-containing alkyl; and Q + represents sulfonium cation or iodonium cation). A polymer produced by polymerizing the same is also provided. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
Abstract translation: 要解决的问题：为了提供对ArF准分子激光器等高度敏感的新的光致酸产生剂，产生具有足够高酸度的酸（光生酸），在抗蚀剂涂层内部具有适度较短的扩散长度 ，并且仅略微取决于掩模图案的粗糙度和细度，包含酸产生剂的新型磺酸盐，由酸产生剂产生的磺酸，并且还提供可用作原料的磺酸衍生物或用于合成光酸的中间体 生成剂，以及磺酸盐的制造方法。 解决方案：提供由通式（2）表示的可聚合的含氟鎓盐磺酸盐（其中Z是（未）取代的1-6C直链或支链亚烷基; R是H，卤素，1-3C烷基或氟 含有的烷基; Q（SP）+ 表示锍阳离子或碘鎓阳离子）。 还提供了通过聚合制备的聚合物。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT
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公开(公告)号：JP2018035096A
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：JP2016169793
申请日：2016-08-31
Applicant: 信越化学工業株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C309/02 , C07C309/20 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07C2603/68 , C07C2603/74 , C07D327/08 , C07D333/76 , C07D339/08 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/2004 , G03F7/2041 , G03F7/2053 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/38
Abstract: 【課題】各種リソグラフィーにおいて、LWR、解像性に優れたスルホニウム化合物、該スルホニウム化合物を光酸発生剤として含むレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 【解決手段】例えば下記反応式中に示されるスルホニウム化合物Aで代表されるスルホニウム化合物。 【選択図】なし
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