公开(公告)号：JP6343270B2

公开(公告)日：2018-06-13

申请号：JP2015209987

申请日：2015-10-26

Applicant: ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー ,  Rohm and Haas Electronic Materials LLC

Inventor： ポール・ジェイ.ラボーム

IPC: C07D335/16 ,  C07C309/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C07C303/32

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C303/32 ,  C07C309/12 ,  C07C2603/74 ,  C07D335/16 ,  C08K5/45 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38

公开(公告)号：JP6303186B2

公开(公告)日：2018-04-04

申请号：JP2017159725

申请日：2017-08-22

Applicant: ビタワークス アイピー エルエルシー

Inventor： フー ソンショウ

IPC: C07C309/14 ,  C07C303/22

CPC classification number: C07C303/02 ,  C07C303/22 ,  C07C303/32 ,  C07C303/44 ,  C07C309/14 ,  C07C309/08

公开(公告)号：JP6138179B2

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：JP2015012462

申请日：2015-01-26

Applicant: ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー ,  Rohm and Haas Electronic Materials LLC

Inventor： ミンキ・リー ,  イマッド・アカド ,  コン・リュウ ,  ジョセフ・マッティア ,  チェン−バイ・スー ,  ジョージ・ジー.バークレー

IPC: G03F7/039 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C303/32 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07C321/30 ,  C07C381/12 ,  C07D333/46 ,  C07D493/20 ,  C07J31/006 ,  C07C2603/74 ,  C07D335/02 ,  C07D337/04 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

公开(公告)号：JP2017083826A

公开(公告)日：2017-05-18

申请号：JP2016201651

申请日：2016-10-13

Applicant: ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC ,  Rohm & Haas Electronic Materials Llc ,  ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC

Inventor： JAMES F CAMERON ,  ZYDOWSKY THOMAS M

IPC: G03F7/004 ,  C07B61/00 ,  C07C17/263 ,  C07C22/08 ,  C07C303/20 ,  C07C303/32 ,  C07C309/24 ,  C07C381/12 ,  C09K3/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07C303/20 ,  C07C303/32 ,  C07C309/24 ,  C07C381/12 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122

Abstract: 【課題】サブミクロンの単位でより高い解像度を与えうる新規な光感応性酸発生剤化合物(PAGs)と合成方法、及びそれらの光感応性酸発生剤化合物を含むフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】放射線で露光されることによりα,α−ジフルオロアルキルスルホン酸を発生させる新規な光感応性酸発生剤化合物(PAGs)を含むポジ型およびネガ型の化学的に増幅されたフォトレジスト組成物。【選択図】なし

公开(公告)号：JP2016130240A

公开(公告)日：2016-07-21

申请号：JP2016001964

申请日：2016-01-07

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 坂本 宏 ,  市川 幸司

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  C07D307/00 ,  C09K3/00 ,  C07D327/06

CPC classification number: C07D327/06 ,  C07C303/32 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07D307/93 ,  C07D327/02 ,  C07D327/04 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D337/04 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38

Abstract: 【課題】良好なラインエッジラフネスでレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供することを目的とする。 【解決手段】式(I)で表される塩、この塩を含む酸発生剤及びこの酸発生剤を含有するレジスト組成物。 [式(I)中、R 1 は、炭素数1〜12のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい。mは、0〜3の整数を表し、mが2以上のとき、複数のR 1 は同一でも異なってもよい。Q 1 及びQ 2 は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。A 1 は、炭素数4〜24のラクトン環を有する基を表す。R 2 は、酸不安定基を表す。] 【選択図】なし

Abstract translation: 要解决的问题：提供可以产生具有良好线边缘粗糙度的抗蚀剂图案的盐，酸产生剂和抗蚀剂组合物。溶液：盐由式（I）表示。 酸产生剂含有盐，抗蚀剂组合物含有酸发生剂。 式（I）中，R表示碳原子数为1〜12的烷基，其中烷基中所含的亚甲基可被氧原子或羰基取代; m表示0〜3的整数，当m为2以上时，多个R may可以相同也可以不同， Qand Qeach独立地表示氟原子或具有1至6个碳原子的全氟烷基; 表示具有4至24个碳原子的内酯环的基团; 并表示酸不稳定组。选择图：无

公开(公告)号：JP5879834B2

公开(公告)日：2016-03-08

申请号：JP2011194759

申请日：2011-09-07

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 安立 由香子 ,  市川 幸司

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C09K3/00 ,  C07D327/06 ,  H01L21/027 ,  C07C309/17

CPC classification number: C07D327/02 ,  C07C303/32 ,  C07D327/04 ,  C07D327/06 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D337/04 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38

公开(公告)号：JP5850550B2

公开(公告)日：2016-02-03

申请号：JP2014542708

申请日：2013-02-19

Applicant: キアンジアン ヨンアン ファーマシューティカル カンパニー リミテッド ,  QIANGJIANG YONGAN PHARMACEUTICAL CO., LTD

Inventor： チェン ヨン

IPC: C07C309/14 ,  C07C303/22

CPC classification number: C07C303/18 ,  C07C303/22 ,  C07C303/32

公开(公告)号：JP5746707B2

公开(公告)日：2015-07-08

申请号：JP2012539262

申请日：2010-11-06

Applicant: ベーリンガー インゲルハイム インターナショナル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング

Inventor： グナート フリーダー ,  ダッハ ロルフ ,  ヘデスハイマー インゴ ,  ハイトガー ヘルムート ,  マイネック ジークフリート ,  ミューラー−ベティヒャー ヘルマン ,  シュミット シュテファン

IPC: C07D401/12

CPC classification number: C07D401/12 ,  C07C271/64 ,  C07C303/32

公开(公告)号：JP5742126B2

公开(公告)日：2015-07-01

申请号：JP2010167944

申请日：2010-07-27

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 飛田 憲之 ,  日比野 裕明

IPC: C07C205/06 ,  C07C309/39 ,  C07C201/12 ,  B01J27/122 ,  B01J31/02 ,  B01J31/22 ,  B01J27/055 ,  B01J27/25 ,  C07C303/22

CPC classification number: C07C303/32 ,  C07B37/04 ,  C07C201/12

公开(公告)号：JP5727930B2

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：JP2011510742

申请日：2009-05-26

Applicant: パラテック ファーマシューティカルズ インコーポレイテッド

Inventor： クベトビッチ レイモンド ,  ワーコル タデウシュ

IPC: A61K31/65 ,  A61P31/04 ,  C07C237/26

CPC classification number: A61K31/65 ,  C07C231/12 ,  C07C237/26 ,  C07C303/32 ,  C07C309/30 ,  C07B2200/13 ,  C07C2103/46