公开(公告)号：JP6408590B2

公开(公告)日：2018-10-17

申请号：JP2016545217

申请日：2014-09-24

申请人： 高砂香料工業株式会社

发明人： ブランディーノ,モーリーン ,  ランキン,マイケル,イー. ,  ロンバード,ケント,エイチ.

IPC分类号： C11D3/50 ,  C11D9/44 ,  C07C255/07 ,  A61K8/40 ,  A61Q13/00 ,  A61Q19/10 ,  A61Q5/02 ,  A61Q5/12 ,  A61Q9/02 ,  A61Q19/00 ,  A61Q15/00 ,  A61Q11/00 ,  A23L5/00 ,  A23G4/06 ,  A23G3/34 ,  A23L2/00 ,  A23L2/02 ,  A23L2/38 ,  A23F3/16 ,  C11B9/00

CPC分类号： C11B9/0023 ,  A23G3/36 ,  A23L2/56 ,  A23L27/202 ,  A23V2002/00 ,  A61K8/40 ,  A61Q1/06 ,  A61Q5/02 ,  A61Q5/12 ,  A61Q9/02 ,  A61Q15/00 ,  A61Q19/10 ,  C11D3/26 ,  C11D3/50

公开(公告)号：JP5930467B2

公开(公告)日：2016-06-08

申请号：JP2012273361

申请日：2012-12-14

申请人： 花王株式会社

发明人： 青木 崇 ,  廣瀬 孝博 ,  田原 勝一

IPC分类号： D06M13/345 ,  C11B9/00 ,  D06M13/00 ,  D06L1/12 ,  A61K8/33 ,  A61Q13/00 ,  A61Q5/06 ,  A61Q19/10 ,  C07C255/47

CPC分类号： C11D3/50 ,  C07C255/47 ,  C11B9/0042 ,  C11D3/26 ,  D06M13/005 ,  D06M13/345 ,  C07C2103/68

公开(公告)号：JP2013534957A

公开(公告)日：2013-09-09

申请号：JP2013516719

申请日：2011-06-22

申请人： ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー

发明人： ヨハン、スメッツ ,  ユゴー、ロベール、ジェルマン、デニュート ,  アン、ピンテンス ,  コーエン、ファン、アケン ,  フレーク、アニー、カミエル、フリーリンク

IPC分类号： C11B9/00 ,  A61K8/33 ,  A61K8/34 ,  A61K8/37 ,  A61Q5/02 ,  A61Q13/00 ,  C11D3/50

CPC分类号： C11B9/0061 ,  A61K8/33 ,  A61K8/35 ,  A61K8/40 ,  A61K8/738 ,  A61K8/84 ,  A61Q5/02 ,  A61Q13/00 ,  C07C31/1333 ,  C07C33/02 ,  C07C33/14 ,  C07C33/34 ,  C07C43/162 ,  C07C47/21 ,  C07C47/225 ,  C07C47/45 ,  C07C49/11 ,  C07C49/21 ,  C07C49/553 ,  C07C49/792 ,  C07C69/145 ,  C07C255/31 ,  C07C255/46 ,  C07C2601/02 ,  C07C2601/16 ,  C07C2602/42 ,  C11B9/0015 ,  C11B9/0019 ,  C11B9/003 ,  C11B9/0034 ,  C11B9/0046 ,  C11D3/2068 ,  C11D3/2072 ,  C11D3/26 ,  C11D3/50 ,  C11D3/505 ,  C11D11/0017 ,  C11D11/0023

摘要： 本出願は、香料原材料、香料送達系、並びに、このような香料原材料及び／又はこのような香料送達系を含む消費者製品、並びに、このような香料原材料、香料送達系及び消費者製品の製造及び使用プロセスに関する。 本明細書に開示される、送達系を含む香料原材料及び組成物は、このような香料原材料が性質上の多様性を提供することができ、このような組成物が所望の匂い特性を提供することができるといったように、香料コミュニティーの選択肢を拡大する。

公开(公告)号：JP5037519B2

公开(公告)日：2012-09-26

申请号：JP2008543692

申请日：2006-11-27

申请人： ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ.

发明人： ホースト ウェステンフェルター， ,  ローラント ジェルマン， ,  キャロライン プロトン，

IPC分类号： C09K3/00 ,  A61K8/35 ,  A61K8/37 ,  A61K8/40 ,  A61Q1/00 ,  A61Q5/00 ,  A61Q13/00 ,  A61Q17/04 ,  A61Q19/00 ,  C11D3/20 ,  C11D3/26 ,  C11D3/60

CPC分类号： C09K15/24 ,  A61K8/35 ,  A61K8/37 ,  A61K8/40 ,  A61K2800/434 ,  A61K2800/52 ,  A61K2800/522 ,  A61Q1/02 ,  A61Q1/04 ,  A61Q3/02 ,  A61Q5/006 ,  A61Q5/008 ,  A61Q5/02 ,  A61Q5/06 ,  A61Q5/12 ,  A61Q17/04 ,  A61Q19/00 ,  A61Q19/002 ,  A61Q19/10 ,  C08K5/07 ,  C08K5/315 ,  C09D7/48 ,  C09D11/03 ,  C09D11/38 ,  C11D3/2072 ,  C11D3/2093 ,  C11D3/26 ,  D06M16/00

摘要： The present invention relates to compositions of UV absorbers and optionally additional antioxidants. The compositions are useful for the protection and stabilization of photosensitive ingredients such as colorants, dyes, scents, fragrances and active ingredients in body care products, household products or inks against the deleterious effects of ultraviolet radiation and oxygen.

公开(公告)号：JP2006307158A

公开(公告)日：2006-11-09

申请号：JP2006027278

申请日：2006-02-03

申请人： Air Products & Chemicals Inc ,  エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッドAir Products And Chemicals Incorporated

发明人： ROVITO ROBERTO J ,  WU AIPING

IPC分类号： C11D7/28 ,  G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D3/042 ,  C11D3/2075 ,  C11D3/24 ,  C11D3/26 ,  C11D3/28 ,  C11D7/08 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3281 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition and a method for selectively removing residues, for example, an ashed photoresist and/or processing residues.
SOLUTION: In one aspect, the composition for removing residues has a pH from about 2 to about 9 and comprises a buffer solution composed of an organic acid and a base conjugated with the acid in a molar ratio of the acid to the base is 10:1 to 1:10, a fluoride and water, wherein substantially no organic solvent added is contained. In another aspect, the composition may further comprise a corrosion inhibitor and/or a surfactant.
COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

摘要翻译： 待解决的问题：提供选择性地除去残留物的组合物和方法，例如灰化光致抗蚀剂和/或加工残余物。 解决方案：一方面，用于除去残留物的组合物具有约2至约9的pH，并且包含由有机酸和与酸结合的碱与酸与碱的摩尔比组成的缓冲溶液 为10:1至1:10，氟化物和水，其中基本上不含有有机溶剂。 在另一方面，组合物还可以包含腐蚀抑制剂和/或表面活性剂。 版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP6117931B2

公开(公告)日：2017-04-19

申请号：JP2015538234

申请日：2012-10-26

申请人： ローム アンド ハース カンパニー ,  ROHM AND HAAS COMPANY ,  ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー

发明人： ヨニー・ドン・ユン ,  ウェイ・チェン ,  オリヴァー・シュパンゲンベルク

IPC分类号： C11D7/32 ,  C11D7/22 ,  C11D7/02 ,  C11D17/08

CPC分类号： C11D17/003 ,  C11D1/26 ,  C11D3/222 ,  C11D3/26 ,  C11D3/33 ,  C11D7/268 ,  C11D7/3245

公开(公告)号：JP2016519423A

公开(公告)日：2016-06-30

申请号：JP2016501882

申请日：2014-03-13

申请人： キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション ,  キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション

发明人： コ チュヨン−ユエン ,  コ チュヨン−ユエン

IPC分类号： H01L21/304 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/36 ,  C11D17/00

CPC分类号： C11D7/3281 ,  C11D3/0073 ,  C11D3/2086 ,  C11D3/26 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/33 ,  C11D3/361 ,  C11D3/364 ,  C11D3/365 ,  C11D7/265 ,  C11D7/32 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3245 ,  C11D7/36 ,  C11D11/0047 ,  C23G1/18 ,  C23G1/20 ,  H01L21/02074

摘要： 銅の化学的機械的平坦化後のための水性清浄化組成物が提供される。該組成物は、有機塩基、銅エッチング剤、有機リガンド、腐食防止剤、及び水を含み、該有機塩基は少なくとも200ppmの濃度であり、該銅エッチング剤は少なくとも200ppmの濃度であり、該有機リガンドは少なくとも50ppmの濃度であり、及び該腐食防止剤は少なくとも10ppmの濃度である。銅の化学的機械的平坦化後の清浄化手順において使用されるとき、該水性清浄化組成物は、ウェハ表面から残留汚染物質を効果的に除去してウェハ表面上の欠陥数を減少させることができて、同時に、該ウェハの表面粗度を改善することができる。【選択図】なし

摘要翻译： 用于铜的化学后机械平坦化的含水清洁组合物被提供。 所述的组合物，有机碱，铜的蚀刻剂，有机配体，包括腐蚀抑制剂，和水，所述有机碱是在至少200 ppm的浓度，铜的蚀刻剂是至少200ppm的浓度，有机配体 是至少50ppm的浓度，并且所述腐蚀抑制剂为以至少10ppm的浓度。 当铜，水性清洁组合物的化学机械平坦化后的清洗步骤中使用，以减少在晶片表面上的缺陷数量从晶片表面有效地去除残余的污染物 它是同时能够提高晶片的表面粗糙度。 系统技术领域

公开(公告)号：JP5840347B2

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：JP2009541466

申请日：2007-11-29

申请人： ザ・ボーイング・カンパニー ,  The Boeing Company

发明人： イーガン,ウィリアム・エム ,  デュフレーヌ,ラルフ・イー

IPC分类号： C11D3/43 ,  C11D3/22 ,  C11D3/12 ,  C11D3/20 ,  C11D3/40 ,  C09J5/00 ,  C09D9/00 ,  C09K3/00

CPC分类号： C11D3/43 ,  C11D3/124 ,  C11D3/18 ,  C11D3/2003 ,  C11D3/2006 ,  C11D3/2068 ,  C11D3/2072 ,  C11D3/2079 ,  C11D3/2093 ,  C11D3/2096 ,  C11D3/222 ,  C11D3/26 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/3409 ,  C11D3/2024 ,  C11D3/2034 ,  C11D3/2044 ,  C11D3/2065

公开(公告)号：JP2015536361A

公开(公告)日：2015-12-21

申请号：JP2015538234

申请日：2012-10-26

申请人： ローム アンド ハース カンパニーRohm And Haas Company ,  ローム アンド ハース カンパニーRohm And Haas Company ,  ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー ,  ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー

发明人： ヨニー・ドン・ユン ,  ウェイ・チェン ,  オリヴァー・シュパンゲンベルク

IPC分类号： C11D17/08 ,  C11D7/02 ,  C11D7/22 ,  C11D7/32

CPC分类号： C11D17/003 ,  C11D1/26 ,  C11D3/222 ,  C11D3/26 ,  C11D3/33 ,  C11D7/268 ,  C11D7/3245

摘要： キレ−ト剤ゲルを形成するための水性ゲル組成物であって、エチレンジアミン四酢酸、グルタミン酸N,N−二酢酸、メチルグリシン二酢酸、およびニトリロ三酢酸のうち少なくとも1つから選択される4重量%〜60重量%のキレート剤と、2〜8重量%のゲル形成成分であって、a)カルボキシメチルセルロース、またはb)イオン性もしくは酸性の多糖類、分散性粘土、およびポリビニルアルコールを有する混合物を含む、2〜8重量%のゲル形成成分と、0.01〜10重量%の塩と、を含み、キレ−ト剤ゲルは、少なくとも部分的に水に溶解可能である、水性ゲル組成物が記載される。【選択図】なし

摘要翻译： 螯合剂 - 4重量用于形成制备凝胶剂，乙二胺四乙酸，谷氨酸n以下的含水凝胶组合物时，选择N-二乙酸，甲基甘氨酸二乙酸，和次氮从乙酸中的至少一种 ％至螯合剂的60重量％，按重量计的2〜8％的凝胶形成成分，一）的羧甲基纤维素或b）的离子型或酸性的多糖，可分散的粘土，并用聚乙烯醇的混合物 包括，包括按重量计的凝胶形成组分的2-8％，且盐的0.01〜10重量％，螯合剂 - DOO剂凝胶可溶于至少部分的水，描述含水凝胶组合物 这一点。 系统技术领域

公开(公告)号：JP2009518536A

公开(公告)日：2009-05-07

申请号：JP2008545234

申请日：2006-12-14

申请人： ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー

发明人： ディビッド ウィリー アレン ,  ロバート フォーリー ピーター ,  コルネリオ フォード フランシス

IPC分类号： C11D3/26 ,  C11D1/14 ,  C11D1/22 ,  C11D1/28 ,  C11D1/29 ,  C11D1/75 ,  C11D3/20 ,  C11D3/34 ,  C11D3/386 ,  C11D3/395

CPC分类号： C11D11/0035 ,  C11D3/26 ,  C11D3/28 ,  C11D3/349 ,  C11D3/386 ,  C11D7/32 ,  C11D7/3281

摘要： アゾ反応開始剤化合物を含む洗剤組成物が提供される。 より詳しくは、改良された漂白力及びしみ抜きの利点を有するアゾ反応開始剤化合物を含む洗剤組成物及び、該洗剤組成物を使用した方法が提供される。 物質及び物品の組成物及び製品も提供される。