無電解めっきのための前処理方法
    9.
    发明专利
    無電解めっきのための前処理方法 有权
    用于化学镀的前处理方法

    公开(公告)号:JP6092489B1

    公开(公告)日:2017-03-08

    申请号:JP2016553445

    申请日:2015-01-14

    Abstract: 本発明は、望ましくないスキップめっきや不要なめっきを抑制する、プリント回路基板等の電子デバイスの銅素材上に金属または金属合金を無電解めっきするための方法を開示する。前記方法は、次の工程を含む:i)そのような基材を準備する工程;ii)前記銅素材を貴金属イオンで活性化させる工程;iii)余剰分の貴金属イオンやそれから形成された析出物を水性前処理組成物を用いて除去する工程、ここで、前記水性前処理組成物は、酸と、ハロゲン化物イオンの供給源と、チオ尿素化合物、チオ尿素誘導体およびチオ尿素基含有ポリマーからなる群から選択される添加剤とを含むものとする、およびiv)金属または金属合金層を無電解めっきする工程。

    Abstract translation: 本发明抑制跳跃镀敷和不需要的不必要的电镀,公开了一种用于化学镀上的电子设备的铜材料的金属或金属合金的方法,如印刷电路板。 所述方法包括以下步骤:i)制备这样的衬底的步骤;ⅱ)步骤激活与贵金属离子的铜材料; 3)过量的贵金属离子的析出物和然后形成 与水性预处理组合物中去除,所述水性预处理组合物含有酸,卤化物离子,硫脲化合物,硫脲衍生物和硫脲基团的聚合物的源的 它旨在包括从所述组中选出的添加剂,和iv)镀覆金属或金属合金层中的电解的步骤。

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