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    共焦点変位計
    2.
    发明专利
    共焦点変位計 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2017110838A1

    公开(公告)日：2018-10-18

    申请号：JP2016088009

    申请日：2016-12-21

    申请人： 株式会社キーエンス

    发明人： 久我 翔馬

    IPC分类号： G01C3/06 ,  G01B11/00

    CPC分类号： G01B11/0608 ,  G01B11/002 ,  G01B2210/50 ,  G01D5/268 ,  G01D5/34

    摘要： 【課題】計測対象物の変位を容易かつ正確に計測することが可能な共焦点変位計を提供する。【解決手段】色収差を有する光がレンズユニット(220)により収束されて計測ヘッド(200)から計測対象物(S)に照射される。計測対象物(S)の表面で合焦しつつ反射された波長の光が計測ヘッド(200)内の光ファイバ(314)を通過する。光ファイバ(314)を通過した光は、処理装置(100)内の分光部(130)に導かれ、分光される。処理装置(100)においては、分光部(130)により分光された光は受光部(140)により受光され、受光部(140)から出力される受光信号が制御部(152)により取得される。制御部(152)は、取得された受光信号に基づいて変位を計測するとともに、受光信号を外部のPC(600)に与える。PC(600)のCPU(601)は、現時点よりも前の時点で取得された受光信号から現時点で取得された受光信号への変化を変化情報として表示部(700)に表示させる。【選択図】図1

    測量システム
    6.
    发明专利
    測量システム 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018128291A

    公开(公告)日：2018-08-16

    申请号：JP2017020074

    申请日：2017-02-07

    申请人： 株式会社トプコン

    发明人： 吉野 健一郎 ,  大友 文夫

    IPC分类号： G01C15/00

    CPC分类号： G01S17/42 ,  G01B11/002 ,  G01B11/245 ,  G01C15/002

    摘要： 【課題】異なる測定ユニットの交換を容易に可能とし、製作コストの低減が図れる測量システムを提供する。 【解決手段】複数の測定ユニット3,24と、該複数の測定ユニットに共通の整準ユニット2とを有し、該整準ユニットは上面に凹嵌合部を有し、前記複数の測定ユニットはそれぞれ前記凹嵌合部に嵌脱可能な凸嵌合部を有し、前記複数の測定ユニットは前記整準ユニットに対して交換可能であり、各測定ユニットを前記整準ユニットに取付けた状態で、それぞれ同一の測定対象を測定し、各測定ユニット間のオフセット量を測定し、該オフセット量に基づき各測定ユニットで測定した測定値を補正、座標変換する様構成した。 【選択図】図4

    情報処理装置、情報処理方法、及びプログラム
    7.
    发明专利
    情報処理装置、情報処理方法、及びプログラム 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2017134881A1

    公开(公告)日：2018-08-09

    申请号：JP2016082146

    申请日：2016-10-28

    申请人： 富士フイルム株式会社

    发明人： 増田 智紀

    IPC分类号： G01B11/00

    CPC分类号： G01B11/026 ,  G01B11/00 ,  G01B11/002 ,  H04N5/232121

    摘要： 実行部は、照射位置画素座標により特定される画素の位置が第1及び第2撮像画像の各々において互いに対応する位置で特定可能な画素の位置の場合に、第1及び第2撮像画像の各々において、実空間上で指向性光が照射された照射位置と同一の平面状領域に存在し、かつ、互いに対応する位置で特定可能な3画素以上の複数画素座標と、照射位置実空間座標と、焦点距離と、撮像画素の寸法と、に基づいて撮像位置距離を導出する第1導出処理と、照射位置実空間座標、照射位置画素座標、焦点距離、及び撮像素子の寸法に基づいて撮像位置距離を導出する第2導出処理と、を受付部により受け付けられた指示に従って選択的に実行する。