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公开(公告)号：KR102230150B1
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：KR1020197015583A
申请日：2015-08-19
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Inventor： 카우스투브 바타차리야 , 헨리쿠스 빌헬무스 마리아 반 부엘 , 크리스토프 다비드 푸케 , 헨드릭 얀 히데 스밀데 , 마우리츠 반 데르 스하르 , 아리에 예프레이 덴 보에프 , 리차드 요한네스 프란시스쿠스 반 하렌 , 싱 란 리우 , 요한네스 마르쿠스 마리아 벨트만 , 안드레아스 푹스 , 오메르 아부바커 오메르 아담 , 미하엘 쿠비스 , 마르틴 야코부스 요한 야크
CPC classification number: G03F7/70633 , G01B11/14 , G03F7/70608 , G03F7/70683
Abstract: 적어도 제 1 서브-타겟 및 적어도 제 2 서브-타겟을 갖는 회절 측정 타겟이 제공되고, (1) 제 1 및 제 2 서브-타겟들은 각각 주기적 구조체들의 쌍을 포함하며, 제 1 서브-타겟은 제 2 서브-타겟과 상이한 디자인을 갖고, 상이한 디자인은 제 2 서브-타겟 주기적 구조체들과 상이한 피치, 피처 폭, 공간 폭, 및/또는 세그멘테이션을 갖는 제 1 서브-타겟 주기적 구조체들을 포함하거나, (2) 제 1 및 제 2 서브-타겟들은 각각 제 1 층에 제 1 및 제 2 주기적 구조체들을 포함하고, 제 3 주기적 구조체가 제 1 층 아래의 제 2 층에서 제 1 주기적 구조체 밑에 적어도 부분적으로 위치되며, 제 2 층에서 제 2 주기적 구조체 밑에 주기적 구조체가 존재하지 않고, 제 4 주기적 구조체가 제 2 층 아래의 제 3 층에서 제 2 주기적 구조체 밑에 적어도 부분적으로 위치된다. 서브-타겟들 주변에 어시스트 피처를 위치시키는 것을 수반하는 이러한 측정 타겟을 계획하는 방법이 제공되고, 어시스트 피처는 서브-타겟들의 주변에서의 측정된 세기 피크들을 감소시키도록 구성된다.
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2.发明专利
公开(公告)号：KR102238466B1
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：KR1020187030359A
申请日：2017-03-28
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Inventor： 뵈프 아리에 제프리 덴 , 카우스투베 바타차리야
IPC: G03F7/20 , G01N21/47 , G01N21/956
CPC classification number: G03F7/70633 , G01N21/4788 , G01N21/956 , G03F7/70133 , G03F7/70625
Abstract: 패터닝 프로세스를 사용하여 처리된 기판 상의 계측 타겟의 측정치를 획득하는 단계 - 상기 측정치는 측정 방사선을 사용하여 획득된 것임 -; 및 상기 측정치로부터 상기 패터닝 프로세스의 관심 파라미터를 유도하는 단계 - 상기 관심 파라미터는 스택 차이(stack difference) 파라미터에 의하여 정정되고, 상기 스택 차이 파라미터는 타겟의 인접한 주기적 구조체들 사이 또는 상기 계측 타겟과 상기 기판 상의 다른 인접 타겟 사이의 물리적 구성에 있어서의 설계되지 않은 차이를 나타냄 -를 포함하는, 방법.
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公开(公告)号：KR20210028272A
公开(公告)日：2021-03-11
申请号：KR1020217006169A
申请日：2017-08-03
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Inventor： 빔 티보 텔 , 마크 존 매슬로우 , 프랭크 스탈스 , 폴 크리스티안 힌넨
CPC classification number: G03F7/2043 , G03F7/705 , G03F7/70616 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , H01L22/12 , H01L22/20
Abstract: 본 방법은 기판의 특성의 값으로부터 특성에 대한 리소그래피 장치의 기여도와 특성에 대한 하나 이상의 리소그래피 전 공정 장치의 기여도를 제거함으로써, 하나 이상의 공정 장치에 의하여 패터닝 공정에 따라 기판이 처리된 후에 하나 이상의 공정 장치가 기판의 특성에 대해 이루는 기여도를 결정하는 단계를 포함하고 있다.
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公开(公告)号：KR20210028166A
公开(公告)日：2021-03-11
申请号：KR1020207038123A
申请日：2019-06-03
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Inventor： 마틴 다이어터 니코 피터스 , 마르셀루스 안토니우스 데 폴터
Abstract: 제 1 자기 요소(204)를 포함하고, 제 1 위치와 제 2 위치 사이에서 이동가능한 제 1 그리핑 부재(202); 제 1 위치를 향해 제 1 그리핑 부재를 편향시키도록 구성되는 제 1 편향 부재(210); 및 제 1 모드 및 제 2 모드에서 선택적으로 작동가능한 제 2 자기 요소(214)를 포함하고, 제 1 모드에서 제 2 자기 요소는 제 1 편향 부재를 극복하고 제 1 그리핑 부재를 제 2 위치로 이동시키도록 제 1 자기 요소와 상호작용하며, 제 2 모드에서 제 2 자기 요소는 제 1 편향 부재를 극복하지 않고 제 1 그리핑 부재가 제 1 위치에 안착하도록 하는 장치(200)가 개시된다.
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公开(公告)号：KR102236200B1
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：KR1020207025064A
申请日：2012-07-02
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Inventor： 코르 벌버그 , 로버트 모셀 , 카우스투브 프라보드 파드혜 , 에릭 데 콕 , 빔 비스
Abstract: 타겟에 대한 측정된 위치 또는 거리를 나타내는 측정 신호를 생성하기 위한 용량성 측정 시스템이 개시된다. 상기 시스템은 제 1 회로를 포함하고, 제 1 회로는, 측정된 위치 또는 거리에 의존하여 센서 커패시턴스를 제공하도록 배열된 박막 용량성 센서(1a); 센서 와이어(31a) 및 동축 실드 도전체(32a)를 포함하는 케이블(30a) ― 케이블은 원격 단부 및 로컬 단부를 갖고, 센서 와이어는 케이블의 로컬 단부에서 용량성 센서에 전기적으로 접속됨 ― ; 케이블의 원격 단부에서 센서 와이어에 접속된 출력 단자를 갖고, 용량성 센서에 에너지를 공급하고, 센서 와이어와 근본적으로 동일한 전압으로 실드 도전체에 에너지를 공급하는 전압 소스(24a); 및 제 1 입력 단자 및 제 2 입력 단자 및 출력 단자를 갖는 전류 측정 회로(21a) ― 전류 측정 회로는 전압 소스의 출력 단자에 접속된 제 1 입력 단자 및 케이블의 원격 단부에서 센서 와이어에 접속된 제 2 입력 단자와 직렬로 접속되고, 전류 측정 회로는 센서 와이어에서 흐르는 전류를 측정하고 측정 신호를 출력 단자에서 생성하도록 배열됨 ― 를 갖는다.
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Patent Agency Ranking6.发明专利
公开(公告)号：KR20210033496A
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：KR1020217004438A
申请日：2019-07-26
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
CPC classification number: G03F7/70616 , G01B11/24 , G01N21/9501 , G01N21/9515 , G03F7/7065 , G06N3/02 , G06T7/0004 , G06T7/001 , G01N21/95607 , G01N2201/12 , G06T2207/30144
Abstract: 프린트된 패턴의 이미지들을 평가하는 방법이 적어도 하나의 프로그램가능한 프로세서에 의해 구현된다. 상기 방법은 프린트된 패턴의 제 1 평균 이미지를 얻는 단계(2310, 2320)를 포함하고, 제 1 평균 이미지는 프린트된 패턴의 원시 이미지들을 평균함으로써 생성된다. 또한, 상기 방법은 제 1 평균 이미지의 1 이상의 피처를 식별하는 단계(2330)를 포함한다. 또한, 상기 방법은 이미지 품질 분류 모델을 실행하는 프로그램가능한 프로세서에 의해, 및 적어도 1 이상의 피처에 기초하여 제 1 평균 이미지를 평가하는 단계(2340)를 더 포함한다. 평가하는 단계는 이미지 품질 분류 모델에 의해, 제 1 평균 이미지가 메트릭을 만족시키는지 여부를 결정하는 단계(2350)를 포함한다.
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公开(公告)号：KR20210032009A
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：KR1020217007540A
申请日：2015-08-19
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Inventor： 카우스투브 바타차리야 , 헨리쿠스 빌헬무스 마리아 반 부엘 , 크리스토프 다비드 푸케 , 헨드릭 얀 히데 스밀데 , 마우리츠 반 데르 스하르 , 아리에 예프레이 덴 보에프 , 리차드 요한네스 프란시스쿠스 반 하렌 , 싱 란 리우 , 요한네스 마르쿠스 마리아 벨트만 , 안드레아스 푹스 , 오메르 아부바커 오메르 아담 , 미하엘 쿠비스 , 마르틴 야코부스 요한 야크
CPC classification number: G03F7/70683 , G03F7/70633 , G01B11/14 , G03F7/70608
Abstract: 적어도 제 1 서브-타겟 및 적어도 제 2 서브-타겟을 갖는 회절 측정 타겟이 제공되고, (1) 제 1 및 제 2 서브-타겟들은 각각 주기적 구조체들의 쌍을 포함하며, 제 1 서브-타겟은 제 2 서브-타겟과 상이한 디자인을 갖고, 상이한 디자인은 제 2 서브-타겟 주기적 구조체들과 상이한 피치, 피처 폭, 공간 폭, 및/또는 세그멘테이션을 갖는 제 1 서브-타겟 주기적 구조체들을 포함하거나, (2) 제 1 및 제 2 서브-타겟들은 각각 제 1 층에 제 1 및 제 2 주기적 구조체들을 포함하고, 제 3 주기적 구조체가 제 1 층 아래의 제 2 층에서 제 1 주기적 구조체 밑에 적어도 부분적으로 위치되며, 제 2 층에서 제 2 주기적 구조체 밑에 주기적 구조체가 존재하지 않고, 제 4 주기적 구조체가 제 2 층 아래의 제 3 층에서 제 2 주기적 구조체 밑에 적어도 부분적으로 위치된다. 서브-타겟들 주변에 어시스트 피처를 위치시키는 것을 수반하는 이러한 측정 타겟을 계획하는 방법이 제공되고, 어시스트 피처는 서브-타겟들의 주변에서의 측정된 세기 피크들을 감소시키도록 구성된다.
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公开(公告)号：KR20210025680A
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：KR1020217005024A
申请日：2019-07-10
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Inventor： 페트루스 빌헬무스 스모렌버그 , 게릿 야코부스 헨드릭 브뤼사드 , 데이빗 오'듀이어
IPC: H05G2/00 , G01N21/956 , G02F1/35 , G03F7/20 , H01S3/109
CPC classification number: H01S3/109 , H05G2/00 , G01N21/956 , G03F7/202 , G02F1/354
Abstract: 고차 조화파 발생으로 방출 방사선을 발생시키기 위해 구동 방사선 비임과 매질 사이에 상호 작용을 일으키도록 방법 및 대응하는 장치가 개시되며, 본 방치는 상호 작용 평면에 위치되고 매질을 받아 들이도록 구성되어 있는 상호 작용 영역; 상호 작용 평면의 상류에서 비임 블럭 평면에 위치되고 구동 방사선 비임을 부분적으로 차단하도록 구성되어 있는 비임 블럭; 비임 블럭 평면의 상류에서 대상물 평면에 위치되고 구동 방사선 비임의 공간 분포를 제어하도록 구성되어 있는 비임 성형기; 및 상호 작용 평면의 상류에서 상기 비임 블럭 평면의 하류에 위치되는 적어도 하나의 렌즈를 포함하고, 렌즈는 구동 방사선 비임의 공간 분포의 이미지가 상호 작용 평면에 형성되도록 위치된다.
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公开(公告)号：KR102236187B1
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：KR1020197010594A
申请日：2017-08-31
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. , 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이.
Inventor： 크린 프레데릭 버스트란 , 양-산 황 , 안토니우스 프란치스코스 요하네스 데 그루트 , 민규 김 , 제스터 앤 프리도 마리쿠스 시몬스 , 테오 안제스 마리아 루일 , 로날드 요세푸스 마리아 라멜스
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70725 , G03F7/70258 , G03F7/70766 , G03F7/70775 , H01L21/027
Abstract: 대상물을 위치시키는 위치설정 시스템이 개시된다. 위치설정 시스템은 스테이지, 균형 질량체 및 액추에이터 시스템을 포함한다. 스테이지는 대상물을 유지하기 위한 것이다. 액추에이터 시스템은 제 1 방향으로 스테이지를 구동하는 한편, 제 1 방향과 반대인 제 2 방향으로 균형 질량체를 구동하도록 배치된다. 스테이지는 이동 범위 내에서 제 1 방향으로 이동가능하다. 스테이지가 제 1 방향으로 이동하고 있고 이동 범위의 끝에 있는 경우, 위치설정 시스템은 스테이지를 정면으로 균형 질량체에 충돌시키도록 배치된다.
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公开(公告)号：KR102233398B1
公开(公告)日：2021-03-29
申请号：KR1020197010024A
申请日：2017-08-10
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Inventor： 세르게이 타라브린 , 시몬 필립. 스펜서 헤이스팅스 , 아르만드 유진 알버트 쿠렌
CPC classification number: G01B11/272 , G03F7/70141 , G03F7/70591 , G03F7/70633
Abstract: 기판 상의 타겟의 특성을 결정하는 방법 및 대응하는 메트롤로지 장치 및 컴퓨터 프로그램이 개시된다. 상기 방법은 타겟의 제 1 이미지 내의 제 1 이미지 픽 및 타겟의 제 2 이미지 내의 제 2 이미지 픽셀을 포함한 상보적인 픽셀들의 쌍들로부터 복수의 세기 비대칭 측정들을 결정하는 단계를 포함한다. 제 1 이미지는 타겟에 의해 산란된 제 1 방사선으로부터 얻어지고, 제 2 이미지는 타겟에 의해 산란된 제 2 방사선으로부터 얻어지며, 제 1 방사선 및 제 2 방사선은 상보적인 비-0차 회절들을 포함한다. 그 후, 타겟의 특성은 상기 복수의 세기 비대칭 측정들로부터 결정된다.
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