公开(公告)号：JPWO2016104518A1

公开(公告)日：2017-10-19

申请号：JP2016566397

申请日：2015-12-22

申请人： 旭硝子株式会社

发明人： 祐介 ▲高▼平 ,  祐介 ▲高▼平

IPC分类号： C07C41/18 ,  B01J31/22 ,  B01J31/24 ,  C07C17/35 ,  C07C21/18 ,  C07C43/17 ,  C07C67/28 ,  C07C69/63

CPC分类号： C07C6/04 ,  B01J23/24 ,  C07B61/00 ,  C07C21/18 ,  C07C41/18 ,  C07C41/22 ,  C07C43/17 ,  C07C67/28 ,  C07C69/007 ,  C07D207/18

摘要： 本発明はオレフィンメタセシスによって、工業的に容易に入手可能な含フッ素オレフィンから、簡便かつ効率的に別の含フッ素オレフィンを製造する方法を提供することを目的とする。本発明は下記式(11)〜(15)で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属触媒の存在下、下記式(21)で表されるオレフィン化合物と下記式(31)で表されるオレフィン化合物を反応させることにより、下記式(51)〜(54)で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種のオレフィン化合物を製造する方法に関する。【化1】

公开(公告)号：JP5361731B2

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：JP2009537584

申请日：2007-10-30

申请人： エボニック デグサ ゲーエムベーハーEvonik Degussa GmbH

发明人： レートリングスヘーファー フーベルト ,  ヴェックベッカー クリストフ ,  フートマッハー クラウス

IPC分类号： C07C27/00 ,  C07B61/00 ,  C07C45/29 ,  C07C45/79 ,  C07C45/82 ,  C07C47/22 ,  C07C67/28 ,  C07C69/02

CPC分类号： C07C45/54 ,  C07C45/52 ,  C07C67/03 ,  C11C1/08 ,  C11C1/10 ,  C11C3/003 ,  C12P7/62 ,  C12P7/649 ,  Y02E50/13 ,  Y02P20/127 ,  C07C47/22 ,  C07C69/24 ,  C07C69/52

摘要： A fatty acid alkyl ester of the general formula I: and acrolein are prepared by reacting a triglyceride of the general formula II: wherein a) the triglyceride is reacted using an alcohol R'-OH in the presence of a catalyst to give said fatty acid alkyl ester and glycerol; and b) the glycerol is dehydrated catalytically to acrolein, wherein R is R1, R2 and R3, and R1, R2 and R3 are all the same or some are the same or all are different and are each a straight-chain or branched, and optionally mono- or polyunsaturated C10-C30-alkyl radical, and R' is a C1-C10-alkyl radical or a C3-C6-cycloalkyl radical.

公开(公告)号：JP5308678B2

公开(公告)日：2013-10-09

申请号：JP2008003339

申请日：2008-01-10

申请人： 東京応化工業株式会社

发明人： 大寿 塩野 ,  尚宏 太宰 ,  宏明 清水

IPC分类号： C07C69/54 ,  C07C67/14 ,  C07C67/28 ,  C08F20/26 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

摘要： A positive resist composition, a method for forming a resist pattern by using the composition, and a novel polymer compound used in the composition are provided to improve resolution and to reduce the line edge roughness of a pattern. A positive resist composition comprises a base component whose solubility in an alkali developer increases by the action of an acid and which comprises a polymer compound represented by the formula 1; and an acid generator component which generates an acid by exposure, wherein R1 is H, a low molecular weight alkyl group or a halogenated low molecular weight alkyl group; A is a substituted or unsubstituted C2 or more divalent hydrocarbon group; B is a substituted or unsubstituted C1 or more divalent hydrocarbon group; and R2 is an acid-labile dissolution inhibiting group.

公开(公告)号：JP4813841B2

公开(公告)日：2011-11-09

申请号：JP2005214175

申请日：2005-07-25

申请人： キユーピー株式会社

发明人： 亘 小田中 ,  智行 金光

IPC分类号： C07C67/52 ,  C07C67/28 ,  C07C69/013 ,  C07C69/24 ,  C12P7/42 ,  C12P7/62

公开(公告)号：JP4601861B2

公开(公告)日：2010-12-22

申请号：JP2001167025

申请日：2001-06-01

申请人： 花王株式会社

发明人： 健博 今中 ,  薫 大前 ,  俊伯 田中 ,  秀雄 田原

IPC分类号： C07C67/28 ,  C07B61/00 ,  C07C69/003 ,  C07C69/708 ,  C07C69/732 ,  C07C69/78 ,  C11B11/00 ,  C11C3/00 ,  C11C3/10

公开(公告)号：JP4302934B2

公开(公告)日：2009-07-29

申请号：JP2002124301

申请日：2002-04-25

申请人： 株式会社日本触媒

发明人： 直紀 世良田 ,  一彦 坂元 ,  文生 渋沢

IPC分类号： C07C51/09 ,  C07B61/00 ,  C07C51/377 ,  C07C51/487 ,  C07C57/04 ,  C07C67/28 ,  C07C67/30 ,  C07C67/327 ,  C07C67/60 ,  C07C69/54

CPC分类号： C07C67/327 ,  C07C51/09 ,  C07C51/377 ,  C07C51/487 ,  C07C67/60 ,  C07C57/04 ,  C07C69/54

公开(公告)号：JP4188826B2

公开(公告)日：2008-12-03

申请号：JP2003521239

申请日：2002-08-16

申请人： テバ ファーマシューティカル インダストリーズ リミティド

发明人： ニダム−ヒルデシェイム，バレリー ,  リドール−ハダス，ラミ ,  リフシッツ−リロン，レビタル

IPC分类号： C07C67/28 ,  C07D209/24 ,  A61K31/22 ,  A61K31/351 ,  A61K31/40 ,  A61K31/404 ,  A61K31/4418 ,  A61K31/47 ,  A61K31/4965 ,  A61K31/505 ,  A61P3/06 ,  A61P9/10 ,  C07B61/00 ,  C07C69/013 ,  C07C69/30 ,  C07D207/34 ,  C07D213/55 ,  C07D215/14 ,  C07D239/42 ,  C07D309/30 ,  C07F3/04

CPC分类号： C07D239/42 ,  C07D207/34 ,  C07D209/24 ,  C07D213/55 ,  C07D215/14 ,  C07D309/30 ,  Y02P20/55

公开(公告)号：JP2008542316A

公开(公告)日：2008-11-27

申请号：JP2008513970

申请日：2006-05-20

申请人： バイエル・ヘルスケア・アクチェンゲゼルシャフトBayer HealthCare AG

发明人： ヴォルフラム・レトヴォッホ ,  エーバーハルト・シュヴァインハイム ,  ゲルハルト・フランクコヴィアック ,  ユタカ・ハヤウチ

IPC分类号： C07C69/14 ,  A61K9/08 ,  A61K31/616 ,  A61K47/18 ,  A61K47/48 ,  A61P9/00 ,  A61P11/06 ,  A61P19/02 ,  A61P21/00 ,  A61P25/06 ,  C07C67/28 ,  C07C67/52 ,  C07C69/017 ,  C07C229/08 ,  C07C229/26

CPC分类号： A61K31/616 ,  A61K31/198 ,  C07C69/157 ,  C07C227/42 ,  C07C229/08 ,  C07C229/26

摘要： 本発明は、ｏ−アセチルサリチル酸の塩基性アミノ酸との塩およびグリシンの安定な活性化合物複合体、それらの製造方法および医薬としてのそれらの使用に関する。

公开(公告)号：JP2006522142A

公开(公告)日：2006-09-28

申请号：JP2006509559

申请日：2004-04-01

申请人： プラス ケミカルズ ベスローテン フェンノートシャップ

发明人： アドリエンネ コバチェン−メゼイ ,  コロディ，フェレンツ ,  サーボ，チャバ ,  フェヘール，エリカ ,  ボディ，イストバン

IPC分类号： C07C59/11 ,  A61K31/22 ,  A61K31/366 ,  A61P3/06 ,  A61P43/00 ,  C07B61/00 ,  C07C51/09 ,  C07C51/48 ,  C07C67/28 ,  C07C67/52 ,  C07C69/30 ,  C07D309/30

CPC分类号： C07D309/30 ,  C07C67/28 ,  C07C67/52 ,  C07C69/30 ,  C07C2602/28 ,  C07D309/20

摘要： 非晶質ジヒドロキシ・オープンアシッド・シンバスタチン・カルシウム、および非晶質シンバスタチン・カルシウムの製造方法。

公开(公告)号：JP2003040820A

公开(公告)日：2003-02-13

申请号：JP2001227036

申请日：2001-07-27

申请人： Kuraray Co Ltd ,  株式会社クラレ

发明人： SUZUKI SHIGEAKI

IPC分类号： C07C29/56 ,  C07B61/00 ,  C07C35/18 ,  C07C41/18 ,  C07C43/188 ,  C07C43/243 ,  C07C67/28 ,  C07C69/145

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for industrially producing a cyclohexene derivative such as 2-cyclohexen-1-ol.
SOLUTION: This method for producing a cyclohexene derivative of general formula I comprises performing metathesis reaction of an octadiene derivative of general formula II in the presence of a ruthenium complex coordinated with an imidazolidene compound. (X is hydroxyl, an alkoxy, an acyloxy or an aryloxy).
COPYRIGHT: (C)2003,JPO

摘要翻译： 待解决的问题：提供工业上生产2-环己烯-1-醇的环己烯衍生物的方法。 解决方案：用于制备通式I的环己烯衍生物的方法包括在与咪唑烷化合物配位的钌络合物的存在下进行通式II的辛二烯衍生物的复分解反应。 （X是羟基，烷氧基，酰氧基或芳氧基）。