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公开(公告)号:JPWO2019049855A1
公开(公告)日:2020-10-15
申请号:JP2018032727
申请日:2018-09-04
申请人: 日本ゼオン株式会社
IPC分类号: C08F220/44 , C08F220/18 , C08F222/16 , C08F6/22 , C08L13/00 , C08K5/17 , C08F236/06
摘要: α,β−エチレン性不飽和モノカルボン酸エステル単量体単位を26〜50重量%の割合で含有し、ヨウ素価が120以下であり、ナトリウム、カルシウム、およびマグネシウムの合計含有量が1000重量ppm以下、塩化物イオン含有量が50〜500重量ppmであるカルボキシル基含有ニトリルゴムを提供する。
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公开(公告)号:JP6703295B2
公开(公告)日:2020-06-03
申请号:JP2015108230
申请日:2015-05-28
申请人: 日産化学株式会社
IPC分类号: G02F1/13363 , C08F222/16 , G02F1/1337
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公开(公告)号:JPWO2016009893A1
公开(公告)日:2017-04-27
申请号:JP2016534380
申请日:2015-07-07
申请人: 富士フイルム株式会社
IPC分类号: G03F7/027 , C08F222/16 , C09D4/02 , C09D7/12 , G02F1/1333 , G03F7/004 , G03F7/075 , G03F7/40 , G06F3/041 , H01L51/50 , H05B33/22
摘要: 低温で加熱した場合であっても、得られる硬化膜の密着性及び硬度に優れ、また、フォトリソグラフィーによるパターニング性に優れた感光性組成物、上記感光性組成物を硬化させた硬化膜及びその製造方法、並びに、上記硬化膜を有する液晶表示装置、有機EL表示装置、タッチパネル及びタッチパネル表示装置を提供することを目的とする。本発明の感光性組成物は、成分Aとして、分子内に3つ以上の(メタ)アクリロイル基と1つ以上のカルボキシ基とを有する重合性単量体、成分Bとして、分子内に3つ以上の(メタ)アクリロイル基を有し、カルボキシ基を有しない重合性単量体、成分Cとして、光重合開始剤、成分Dとして、溶剤、及び、成分Eとして、重合禁止剤を含有し、成分A及び成分Bの合計含有量や、成分Aの含有量が、ある一定の範囲に含まれる値であることを特徴とする。
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公开(公告)号:JP2017057260A
公开(公告)日:2017-03-23
申请号:JP2015182093
申请日:2015-09-15
申请人: 住友ベークライト株式会社
发明人: 大西 治
IPC分类号: G03F7/023 , G03F7/038 , G03F7/004 , C08F222/06 , C08F222/16 , C08F222/20 , C08F8/14 , C08F222/26 , C08G65/18 , C08G59/40 , C08F290/12 , G03F7/20 , C08F232/08
摘要: 【課題】感光性樹脂組成物としたときに、樹脂膜の耐熱性を向上させるポリマーの提供。 【解決手段】式(1)で表される単量体と、無水マレイン酸及び無水マレイン酸の半エステル由来の繰り返し単位とを含むポリマー。 (R 1 〜R 4 の内、一つ以上は環状エーテル含有基;他はH又はC1〜30の有機基;nは0〜2の整数) 【選択図】なし
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公开(公告)号:JP4303382B2
公开(公告)日:2009-07-29
申请号:JP31551299
申请日:1999-11-05
申请人: 電気化学工業株式会社
IPC分类号: C08F220/28 , C08J3/24 , C08F210/02 , C08F220/10 , C08F222/16 , C08F222/20 , C08K5/17 , C08K5/31 , C08L33/14 , C09K3/10 , F16L11/04
CPC分类号: C08F220/28
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公开(公告)号:JP2006515640A
公开(公告)日:2006-06-01
申请号:JP2004566918
申请日:2003-12-03
发明人: シャン−ジェン・ジャン , チー−チャン・チュ
IPC分类号: C08J3/28 , A61K9/58 , C08F220/58 , C08F222/16 , C09K3/00
CPC分类号: A61L27/20 , A61L27/52 , C08F220/58 , C08F222/16 , C08F251/00 , C08L51/02 , C08L5/02 , C08L2666/02
摘要: pHおよび温度の変化に応答してその体積および形状が変化する、部分的に生分解可能なヒドロゲルを、デキストラン−マレイン酸モノエステルおよびN−イソプロピルアクリルアミドを含む組成物のUV照射によって製造する。
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公开(公告)号:JP3636415B2
公开(公告)日:2005-04-06
申请号:JP29428897
申请日:1997-10-27
发明人: クラフ−フベール アンナ , スルセール ウエリ , アー.ブールゲ セオドア , ウィドメール ユールグ
IPC分类号: C04B24/16 , C04B24/26 , C04B24/32 , C04B28/02 , C04B103/32 , C08F222/16 , C08F222/20 , C08F226/00 , C08F226/02
CPC分类号: C04B24/165 , C04B24/2658 , C04B24/267 , C04B24/2694 , C04B2103/408 , C04B2111/00103 , C08F222/20 , C08F226/02
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公开(公告)号:JP3579446B2
公开(公告)日:2004-10-20
申请号:JP6721694
申请日:1994-04-05
发明人: フン・ダン・ゴク , マリアノ・サラサール
IPC分类号: C08F212/10 , B32B25/08 , C08F20/10 , C08F22/10 , C08F212/00 , C08F220/18 , C08F220/42 , C08F220/44 , C08F222/16 , C08F265/04 , C08L27/06 , C08L33/04 , C08L33/06 , C08L33/08 , C08L55/02
CPC分类号: B32B27/065 , B32B5/18 , B32B25/08 , B32B27/22 , B32B27/304 , B32B2266/0278 , B32B2307/718 , B32B2605/08 , C08F220/18 , C08F265/04 , C08L27/06 , C08L33/06 , C08L55/02 , Y10S428/904 , Y10S525/902 , Y10T428/24438 , Y10T428/249991 , Y10T428/31576 , Y10T428/3158 , Y10T428/31583 , C08L2666/04 , C08L2666/02
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公开(公告)号:JP2002282687A
公开(公告)日:2002-10-02
申请号:JP2001092020
申请日:2001-03-28
发明人: OTA YOSHIHISA , NOMURA YOTA
IPC分类号: B01J20/26 , B01J20/30 , C08F220/04 , C08F222/02 , C08F222/16 , C08F230/02 , C08K3/32 , C08K3/38 , C08K5/16 , C08L101/06
摘要: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a water absorbent having not only a high instant absorption speed while an ordinary particle size is kept but also excellent properties of diffusion into resin and absorption. SOLUTION: The water absorbent comprises a crosslinked polymer (A) obtained from at least one water-soluble monomer (a) selected from the group consisting of a monomer having a carboxy group, a monomer having a phosphate group, and their salts and a crosslinking agent (b) as indispensable components and a heat absorbing agent (B). The heat absorbing agent (B) is contained in the polymer (A).
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公开(公告)号:JP2002040651A
公开(公告)日:2002-02-06
申请号:JP2000224104
申请日:2000-07-25
申请人: FUJIFILM ARCH CO LTD
发明人: TAKAGI YOSHIHIRO
IPC分类号: G03F7/033 , C08F214/26 , C08F216/14 , C08F218/04 , C08F218/14 , C08F220/00 , C08F220/06 , C08F222/16 , C08K5/00 , C08K5/42 , C08L27/18 , C08L63/00 , G03F7/004 , G03F7/022 , G03F7/40 , H01L21/027 , H01L21/312
摘要: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive resin composition which is developable with an alkaline aqueous solution, having high sensitivity and capable of easily forming a patterned thin film of superior various characteristics such as flatness, high resolution, developability, heat and chemical resistances, adhesion to a substrate, transparency and insulation performance, to provide a photosensitive resin composition, capable of easily forming a patterned thin film of superior low dielectric property and in these various characteristics, and to provide a pattern-forming method using the composition. SOLUTION: The positive photosensitive resin composition contains a fluorine- containing copolymer obtained by copolymerizing tetrafluoroethylene, a carboxyl- containing monomer and a monomer copolymerizable with these, a 1,2- naphthoquinonediazido-containing compound and a crosslinker. In the pattern- forming method, the positive photosensitive resin composition is applied and subjected successively to first exposure, development, second exposure and heating, with the quantity of light in the second exposure being 2-15 times that in the first exposure.
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