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2.发明专利
公开(公告)号：KR102232160B1
公开(公告)日：2021-03-25
申请号：KR1020190073568A
申请日：2019-06-20
申请人： (주)동진금속 , (재)한국건설생활환경시험연구원
CPC分类号： C23C18/1632 , C23C18/1617 , C23C18/1651 , C23C18/1662 , C23C18/34
摘要： 본 발명은 무전해 Ni-P-PTFE 복합도금액을 이용해 도금을 수행하도록 하며, 특히 복합도금액의 순환 구조를 통해 PTFE 입자가 원활하게 분산되게 하면서 복합도금 편차를 최소화하고, PTFE 입자의 석출을 최소화하여 유지 보수를 간편하도록 하는 도금액 순환 기능을 갖는 무전해 Ni-P-PTFE용 도금장치 및 이를 이용한 도금방법에 관한 것이다.
이와 같은 목적을 해결하기 위해 본 발명은; 무전해 도금을 수행하는 도금 부재(100)와; 상기 도금 부재(100)의 도금액이 만수위를 넘으면 보조탱크(210) 측으로 흘러 넘치면서 유입되게 하여 도금액을 저장하고, 상기 보조탱크(210)의 도금액을 제1펌프(221a)를 이용해 강제 흡입 유동시켜 상기 도금 부재(100)로 다시 공급하는 순환 사이클을 제공하며, 상기 순환하는 도금액을 여과기(230)를 이용해 여과하는 회수 부재(200)를 포함하여 구성된다.-
公开(公告)号：JP2020196914A
公开(公告)日：2020-12-10
申请号：JP2019102591
申请日：2019-05-31
申请人： 奥野製薬工業株式会社
摘要： 【課題】めっき均一性及びめっき平滑性により優れためっき技術を提供すること。 【解決手段】(工程1)界面活性剤を含有する酸性表面調整液でアルミニウム材を処理する工程、及び/又は(工程2)アルミニウム材を、酸性亜鉛置換処理液で処理した後、アルカリ性亜鉛置換処理液で処理する工程、を含む、アルミニウム材のめっき前処理方法。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JPWO2019163484A1
公开(公告)日：2020-10-08
申请号：JP2019003644
申请日：2019-02-01
申请人： 三菱電機株式会社
IPC分类号： H01L21/768 , H01L23/522 , H01L21/288 , H01L21/329 , H01L29/47 , H01L29/872 , H01L29/868 , H01L29/861 , C23C18/44 , C23C18/34 , C23C18/42 , H01L21/3205
摘要： 表側電極及び裏側電極を有する表裏導通型基板の少なくとも片側の電極上に第一電極及び無電解めっき層が順次形成された半導体素子であって、前記第一電極が、前記第一電極が形成されている前記電極を形成する金属よりも貴な元素を含有し、前記第一電極の面積が、前記第一電極が形成されている前記電極の面積よりも小さい、半導体素子。
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公开(公告)号：JP6726186B2
公开(公告)日：2020-07-22
申请号：JP2017532092
申请日：2015-12-04
发明人： ハイコ・ブルンナー , ラース・コールマン , センギュル・カラサヒン , マティアス・ダムアシュ , シモン・パーペ , ザンドラ・ラックス
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公开(公告)号：JP2020090711A
公开(公告)日：2020-06-11
申请号：JP2018228673
申请日：2018-12-06
发明人： MIKOSHIBA HITOSHI
IPC分类号： C23C18/20 , B32B15/08 , B32B37/02 , C23C18/16 , C23C18/31 , C23C18/34 , C23C18/40 , C23C18/52
摘要： 【解決手段】(1)透明基材表面に、除去可能な層を設け、次いで該層に透明基材表面にまで達する深さの多数の微細線の溝を形成する工程(微細線溝形成工程)、(2)真空紫外光を照射して、親水性基が形成された紫外光照射基材を得る工程(紫外光照射工程)、(3)紫外光照射基材に触媒付与し、次いで該層が除去されない条件で金属Aのめっき処理を施す工程(金属Aのめっき処理工程)、(4)該層を該層上の金属Aと共に除去し、透明基材表面に金属Aからなる多数の微細線を形成する工程(金属Aからなる微細線形成工程)、(5)金属Aからなる微細線に触媒付与し、金属Bのめっき処理を施す工程(金属Bのめっき処理工程)よりなる導電性積層体の製造方法。【効果】透明基材自体の疎水性のレベルを気にすることなく目的に合った透明基材を導電性積層体の基板として利用でき、更に比較的安価で加工できかつ生産性に優れた方法で作製することが可能となる。【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2019214776A
公开(公告)日：2019-12-19
申请号：JP2018112995
申请日：2018-06-13
申请人： 株式会社SCREENホールディングス
发明人： 梅田 栄次
摘要： 【課題】めっき層の厚さの均一性を向上する。 【解決手段】無電解めっき処理では、水平状態の基板9の上面91に向けて混合ノズル31からめっき液を吐出することにより、上面91を覆うめっき液の液層を形成する工程が行われる。続いて、混合ノズル31から上面91へのめっき液の吐出を停止し、かつ、上面91上において当該液層を保持した状態で、ヒータ41により当該液層の加熱を開始することにより、上面91における無電解めっき反応を促進させる工程が行われる。これにより、めっき層の厚さの均一性を向上することができる。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2019191076A
公开(公告)日：2019-10-31
申请号：JP2018086302
申请日：2018-04-27
申请人： 日立GEニュークリア・エナジー株式会社
摘要： 【課題】構造部材への放射性核種の付着をさらに抑制できる原子力プラントの構造部材への放射性核種の付着抑制方法を提供する。 【解決手段】停止中の原子力プラントのステンレス鋼製の再循環系配管に貴金属注入装置を接続する(S1)。再循環系配管の酸化除染(S2A)及び還元除染(S2B)を実施する。還元除染で用いたシュウ酸の一部を分解後(S3B)、Niイオン、Ptイオン及びヒドラジンの各注入を行い(S4〜S6)、これらを含む水溶液を循環配管から再循環系配管に供給し、再循環系配管の内面にNi金属を含むPt粒子を付着させる。貴金属注入装置を再循環系配管から取り外し(S10)、原子力プラントを起動する(S11)。130℃以上330℃以下の酸素を含む炉水の接触により(S12)、Ptが作用しても溶出しない安定なNiフェライトの薄い皮膜をPt粒子が付着した再循環系配管の内面に形成する。 【選択図】図1
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