公开(公告)号：KR101872051B1

公开(公告)日：2018-06-27

申请号：KR1020137025947

申请日：2012-03-05

Applicant: 머크 샤프 앤드 돔 코포레이션

Inventor： 알리,암자드 ,  로,마이클맨-츄 ,  화이트헤드,브렌트 ,  샤,쉬레닉,케이. ,  헨더슨,티모시,제이. ,  옌,린 ,  궈,즈창

IPC: C07D211/40 ,  C07D207/12 ,  A61K31/445 ,  A61P9/00 ,  A61P3/10

CPC classification number: C07D211/46 ,  C07D207/12 ,  C07D207/273 ,  C07D207/48 ,  C07D211/96 ,  C07D223/08 ,  C07D309/12 ,  C07D401/04 ,  C07D401/06 ,  C07D401/10 ,  C07D401/14 ,  C07D403/04 ,  C07D403/10 ,  C07D405/12

Abstract: 고혈압, 폐동맥고혈압 (PAH), 울혈성심부전, 과도한수분저류로인한상태, 심혈관질환, 당뇨병, 산화적스트레스, 내피기능장애, 간경변증, 자간전증, 골다공증또는신병증을치료하는데유용한, 하기구조화학식 I을갖는화합물.

公开(公告)号：KR1020150084974A

公开(公告)日：2015-07-22

申请号：KR1020157015444

申请日：2013-11-06

Applicant: 장쑤 한서 파마슈티칼 캄파니 리미티드

Inventor： 란,찌옹 ,  썬,피아오양 ,  첸,레이 ,  펭,웨이 ,  리우,씽 ,  동,칭

IPC: C07D207/48 ,  A61K31/40

CPC classification number: C07D207/48

Abstract: 본발명은신규한피롤설폰아미드유도체, 이의제조방법, 이의의학적적용에관한것이다. 특히, 본발명은식 (I)에의해표시되는신규한피롤설폰아미드유도체, 상기유도체의제조방법, 상기유도체를포함하는약학조성물, 및이의치료제로서, 특히, 위산분비저해체및 칼륨-경쟁적위산분비억제제 (P-CAB)들로서의용도에관한것이다. 식 (I)의각 치환체들은명세서에서정의한바와같다.

公开(公告)号：KR101496190B1

公开(公告)日：2015-02-26

申请号：KR1020077017997

申请日：2006-01-05

Applicant: 애브비 인코포레이티드

Inventor： 페이텔지오티알 ,  슈아이치 ,  링크제임스티 ,  로데제프리제이 ,  딩게스위르겐 ,  소렌센브라이언케이 ,  윈마틴 ,  용홍 ,  예빈스에스

IPC: C07C235/14 ,  C07C317/16 ,  C07C323/41 ,  C07D257/04

CPC classification number: C07C233/23 ,  C07C235/14 ,  C07C237/24 ,  C07C255/31 ,  C07C255/47 ,  C07C259/16 ,  C07C311/08 ,  C07C311/29 ,  C07C311/46 ,  C07C311/51 ,  C07C317/22 ,  C07C317/30 ,  C07C317/44 ,  C07C323/41 ,  C07C323/60 ,  C07C2601/04 ,  C07C2601/14 ,  C07C2601/18 ,  C07C2602/08 ,  C07C2602/10 ,  C07C2603/74 ,  C07D207/48 ,  C07D213/64 ,  C07D233/64 ,  C07D257/04 ,  C07D261/08

Abstract: 본 발명은 11-베타-하이드록시스테로이드 데하이드로게나제 타입 I 효소의 억제제인 화합물에 관한 것이다. 추가로, 본 발명은 인슐린 비의존성 타입 2 당뇨병, 인슐린 내성, 비만, 지질 장애, 대사 증후군 및 과도한 글루코코르티코이드 작용에 의해 매개되는 다른 질환 및 상태를 치료하기 위한, 11-베타-하이드록시스테로이드 데하이드로게나제 타입 I 효소의 억제제의 용도에 관한 것이다.
11-베타-하이드록시스테로이드 데하이드로게나제 타입 I 효소, 인슐린 비의존성 타입 2 당뇨병, 인슐린 내성, 비만, 지질 장애, 대사 증후군, 스테로이드-유도된 급성 정신병, 우울증 또는 불안증을 치료하기 위한 약제학적 조성물.

公开(公告)号：KR1020110031221A

公开(公告)日：2011-03-24

申请号：KR1020117002737

申请日：2009-07-01

Applicant: 신젠타 리미티드

Inventor： 장마르스테판앙드레마리 ,  바이너러셀 ,  테일러존벤자민 ,  위팅엄윌리엄가이 ,  웨일스제프리스티븐 ,  타겟사라 ,  매튜스크리스토퍼존 ,  고벤카르만가라 ,  코딩리매튜로버트 ,  러셀클레어쟈넷 ,  타이트멜로니

IPC: C07D309/04 ,  C07D307/06 ,  A01N43/16 ,  A01P13/00

CPC classification number: C07D309/04 ,  A01N43/08 ,  A01N43/10 ,  A01N43/16 ,  A01N43/18 ,  A01N43/20 ,  A01N43/28 ,  A01N43/32 ,  A01N43/36 ,  A01N43/40 ,  A01N43/56 ,  A01N43/80 ,  A01N43/84 ,  A01N43/90 ,  A01N47/00 ,  A01N47/06 ,  A01N47/16 ,  A01N47/38 ,  A01N53/00 ,  A01N55/00 ,  C07D207/08 ,  C07D207/48 ,  C07D211/32 ,  C07D211/94 ,  C07D211/96 ,  C07D307/12 ,  C07D317/26 ,  C07D319/12 ,  C07D335/02 ,  C07D401/06 ,  C07D405/06 ,  C07D409/06 ,  C07D413/06 ,  C07D491/18 ,  C07F7/0812

Abstract: 본 발명은 제초제로 사용하기에 적합한 화학식 I의 화합물에 관한 것이다.
화학식 I

위의 화학식 I에서,
치환체들은 청구항 1에서 정의한 바와 같다.

公开(公告)号：KR1020100113556A

公开(公告)日：2010-10-21

申请号：KR1020107017700

申请日：2009-01-08

Applicant: 퍼듀 퍼머 엘피

Inventor： 샤오빈 ,  야오지앙차오

IPC: C07D409/14 ,  A61K31/381 ,  A61K31/4025 ,  A61P25/04

CPC classification number: C07D409/12 ,  C07D207/48 ,  C07D403/12 ,  C07D409/14

Abstract: 본 발명은 카나비노이드 수용체에 대한 리간드인 프롤린 유사 화합물, 프롤린 유사 화합물 및 약학적으로 허용가능한 담체를 포함하는 조성물, 이러한 프롤린 유사 화합물을 제조하는 방법, 및 이를 필요로 하는 동물에게 유효량의 프롤린 유사 화합물을 투여하는 것을 포함하는 상태의 치료 또는 예방 방법에 관한 것이다(화학식).

公开(公告)号：KR1020100068083A

公开(公告)日：2010-06-22

申请号：KR1020080126779

申请日：2008-12-12

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 양영수 ,  최승집 ,  김준숙 ,  최상준

IPC: C07D207/08

CPC classification number: C07D207/48 ,  C07D211/22 ,  C07D211/42 ,  C07D211/46 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/34 ,  G03F7/0397

Abstract: PURPOSE: A (meth)acrylate compound, photosensitive polymer, and resist composition are provided to control acid diffusion and to improve side wall roughness. CONSTITUTION: A (meth)acrylate compound with cyclo group contains a nitrogen of chemical formula 1. A photosensitive polymer comprises a repeat unit induced by compounds of chemical formulas 1, 2, 3, and 4. A resist polymer comprises the photosensitive polymer, photoacid generator, and solvent. The photosensitive polymer is contained in 5-15 weight parts based on 100 weight parts of resist composition. The photoacid generator is triarylsulfonium salts, diaryliodonium salts, sulfonates, or mixture thereof.

Abstract translation: 目的：提供（甲基）丙烯酸酯化合物，光敏聚合物和抗蚀剂组合物以控制酸扩散并改善侧壁粗糙度。 构成：具有环基的（甲基）丙烯酸酯化合物含有化学式1的氮。光敏聚合物包括由化学式1,2,3和4的化合物诱导的重复单元。抗蚀剂聚合物包含光敏聚合物，光酸 发电机和溶剂。 基于100重量份抗蚀剂组合物，光敏聚合物含有5-15重量份。 光酸产生剂是三芳基锍盐，二芳基碘鎓盐，磺酸盐或其混合物。

公开(公告)号：KR1020060017747A

公开(公告)日：2006-02-27

申请号：KR1020057017943

申请日：2004-03-11

Applicant: 액시킨 파마수티컬스 인코포레이티드

Inventor： 리,잉푸 ,  바콘,케빈 ,  수기모토,히로미 ,  후쿠시마,게이코 ,  하시모토,겐타로 ,  마루모,마키코 ,  모리와키,토시야 ,  누나미,노리코 ,  츠노,나오키 ,  얼반스,클라우스 ,  요시다,나가히로

IPC: C07D401/04 ,  C07C311/37 ,  C07D207/34

CPC classification number: C07D487/04 ,  A61K31/439 ,  C07C311/29 ,  C07D207/12 ,  C07D207/14 ,  C07D207/16 ,  C07D207/40 ,  C07D207/404 ,  C07D207/48 ,  C07D211/54 ,  C07D223/12 ,  C07D241/04 ,  C07D243/08 ,  C07D257/04 ,  C07D295/13 ,  C07D295/22 ,  C07D295/26 ,  C07D303/06 ,  C07D303/36 ,  C07D401/04 ,  C07D401/06 ,  C07D401/14 ,  C07D403/06 ,  C07D403/12 ,  C07D453/02 ,  C07D487/02 ,  C07D487/08

Abstract: The present invention relates to a benzenesulfonamide derivative of formula (I), which is useful as an active ingredient of pharmaceutical preparations. The benzenesulfonamide derivatives of the present invention have CCR3 (CC type chemokine receptor) antagonistic activity, and can be used for the prophylaxis and treatment of diseases associated with CCR3 activity, in particular for the treatment of asthma, atopic dermatitis, allergic rhinitis and other inflammatory/immunological disorders. In said formula, X represents O or S; R4 represents formulae (a), (b), (c), (d), (e), (f), (g), (h), (i) or (j), the other substituents are as defined in claim 1.

Abstract translation: 本发明涉及式（I）的苯磺酰胺衍生物，其可用作药物制剂的活性成分。 本发明的苯磺酰胺衍生物具有CCR3（CC型趋化因子受体）拮抗活性，可用于预防和治疗与CCR3活性有关的疾病，特别是用于治疗哮喘，特应性皮炎，过敏性鼻炎等炎症 /免疫学障碍。 在所述式中，X表示O或S; R4代表式（a），（b），（c），（d），（e），（f），（g），（h），（i）或（j） 权利要求1。

公开(公告)号：KR1020040111616A

公开(公告)日：2004-12-31

申请号：KR1020047018445

申请日：2003-05-15

Applicant: 바스프 에스이

Inventor： 함프레흐트,게르하르트 ,  풀,미하엘 ,  라인하르트,로베르트 ,  자가써,잉고 ,  슈미트,토마스 ,  괴츠,노르베르트 ,  치에르케,토마스

IPC: C07C303/34 ,  C07C307/02

CPC classification number: C07D295/26 ,  C07C303/34 ,  C07C307/00 ,  C07C2601/14 ,  C07D207/48 ,  C07D211/96 ,  C07D239/46

Abstract: 본 발명은 i) 1급 또는 2급 아민 A1을 각각의 경우에 아민 A1에 대해 등몰량 이상의 3급 아민 A2의 존재하에서 등몰량 이상의 SO
3 또는 SO
3 공급원과 반응시키는 단계, 및 ii) 단계 i)에서 수득한 반응 혼합물을 화학량론에 따른 필요량 이상의 할로겐화인과 반응시키는 단계를 포함하는, 1급 또는 2급 아민의 술팜산 할로겐화물의 제조 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 상기 단계 i) 및 ii)를 수행한 후, 이어서 이와 같이 수득한 술팜산 할로겐화물을 암모니아와 반응시킴으로써 술팜산 할로겐화물을 제조하는 것을 포함하는, 술팜산 디아미드의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 추가로 술포디아미드 구조를 갖는 제초제 활성 성분의 제조에 있어 상기 방법의 사용에 관한 것이다. 본 발명은 또한 신규한 술팜산 클로라이드에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR100266467B1

公开(公告)日：2000-10-02

申请号：KR1019960041963

申请日：1996-09-24

Applicant: 오노 야꾸힝 고교 가부시키가이샤

Inventor： 나카에다카히코 ,  가토마사시 ,  후지타다케히로 ,  가와바타가즈히토 ,  오노히로유키

IPC: C07C311/00 ,  A61K31/495 ,  C07D403/12

CPC classification number: C07D295/26 ,  C07C311/29 ,  C07C311/64 ,  C07C2601/02 ,  C07C2601/04 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07D203/24 ,  C07D207/48 ,  C07D209/42 ,  C07D211/96 ,  C07D231/12 ,  C07D233/56 ,  C07D235/22 ,  C07D249/08 ,  C07D263/38 ,  C07D277/56 ,  C07D307/68 ,  C07D309/10 ,  C07D333/24 ,  C07D491/10 ,  C07H5/10 ,  C07K5/06139 ,  C07K5/06165

Abstract: 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되며 엘라스타제에 대한 억제 효능을 갖는 설폰아미드 유도체, 이의 비독성 염, 산 부가염 또는 용매화합물에 관한 것이다.
[화학식 1]

公开(公告)号：KR1020000029858A

公开(公告)日：2000-05-25

申请号：KR1019997001020

申请日：1997-08-07

Applicant: 다윈 디스커버리 리미티드

Inventor： 오웬데이비드알렌 ,  몬타나존그레이 ,  켈리존프레져 ,  와트슨로버트존 ,  박스터앤드류더글러스

IPC: C07C317/44

CPC classification number: C07C317/44 ,  C07C2601/08 ,  C07D207/48

Abstract: PURPOSE: The invention concerns hydroxamic acid and carboxyl acid derivatives of formulae (I): B-X-(CH2)n-CHR¬1-(CH2)m-CONHOH and (Ia): B-S(O)1-2-(CH2)n-CHR¬1-(CH2)m-COOR¬2, in which X is O, NR3 or S(O)0-2, and the other variables have the definitions given in the claims, having MMP and TNF inhibitory activity. CONSTITUTION: Novel compounds according to the invention are of the general type represented by formula (I): B-X-(CH3,-CHR' -(CH3,,-COY (I) wherein m and n are both independently 0 or 1, but are not both 0; X is 0, NR3 or S(O)0-2; Y is OR or NHOH; Rl is H or a group (optionally substituted with Rq selected from C1-6 alkyl, C2.6 alkenyl, aryl, C alkyl-aryl, heteroaryl, C,4 alkyl-heteroaryl, heterocycloalkyl, C1.6 alkylheterocycloalkyl, cycloalkyl and C1-6 alkyl-cycloalkyl; R2 is H or C1 alkyl; R3 is H, C1-6 alkyl, COR2, CON(R2)2 where each R2 is the same or different, CO2R4 or SO2R4, and R4 is C1-6 alkyl; B is Cj alkyl-aryl, C1-6 alkyl, cycloalkyl, C,4 alkyl-cycloalkyl, cycloalkenyl, heterocycloalkenyl, C,4 alkyl-heteroaryl, heterocycloalkyl, C,4 alkyl-heterocycloalkyl, aryl or heteroaryl, any of which groups is optionally substituted by a substituent selected from R5, C1-6 alkyl-R5, C2-6 alkenyl-R5, aryl (optionally substituted with R5), aryl-C1-6 alkyl-R5, C1-6alkyl-aryl (optionally substituted with R5), C1-6alkyl-heteroaryl (optionally substituted with R5), aryl-C2 alkenyl-R7, heteroaryl (optionally substituted with R5), heteroaryl-C1-6 alkyl-R5, cycloalkyl (optionally substituted with R5), benzofused cycloalkyl (optionally substituted with R5), heterocycloalkyl (optionally substituted with R5), benzofused heterocycloalkyl (optionally substituted with RS).

Abstract translation: 目的：本发明涉及式（I）的异羟肟酸和羧酸衍生物：BX-（CH2）n-CHR1-1（CH2）m-CONHOH和（Ia）：BS（O）1-2-（CH2） 其中X是O，NR 3或S（O）0-2，其他变量具有权利要求书中给出的定义，具有MMP和TNF抑制活性，n-CHR1-1（CH2）m-COOR2。 构成：根据本发明的新化合物是通式（I）表示的一般类型：BX-（CH 3，-CHR' - （CH 3）-COY（I）其中m和n各自独立地为0或1，但是 不是都是0; X是0，NR3或S（O）0-2; Y是OR或NHOH; R1是H或一个基团（任选地被选自C 1-6烷基，C 2-6烯基，芳基， C 1 -C 6烷基 - 杂芳基，杂环烷基，C 1-6烷基杂环烷基，环烷基和C 1-6烷基 - 环烷基; R 2是H或C 1烷基; R 3是H，C 1-6烷基，COR 2，CON（ R2）2，其中每个R 2相同或不同，CO 2 R 4或SO 2 R 4，并且R 4是C 1-6烷基; B是C 1-8烷基 - 芳基，C 1-6烷基，环烷基，C 1-4烷基 - 环烷基，环烯基，杂环烯基，C ，烷基 - 杂芳基，杂环烷基，C 1-4烷基 - 杂环烷基，芳基或杂芳基，其任何基团任选被选自R5，C1-6烷基-R5，C2-6烯基-R5，芳基（任选地 被R 5取代），芳基-C 1-6烷基-R 5，C 1-6烷基 - 芳基（任选地， 被R 5取代），C 1-6烷基 - 杂芳基（任选被R 5取代），芳基-C 2烯基-R 7，杂芳基（任选被R 5取代），杂芳基-C 1-6烷基-R 5，环烷基（任选被R 5取代） 环烷基（任选被R 5取代），杂环烷基（任选被R 5取代），苯并稠合的杂环烷基（任选被RS取代）。