公开(公告)号：KR101898021B1

公开(公告)日：2018-09-12

申请号：KR1020147012760

申请日：2012-10-18

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 에노모토유이치로 ,  코다마쿠니히코 ,  타루타니신지

IPC分类号： C08F2/46 ,  C08F2/50 ,  C08L101/06 ,  B29C59/02 ,  H01L21/027 ,  G03F7/028

CPC分类号： C09D11/30 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F2/50 ,  G03F7/0002 ,  Y10T428/24802 ,  C08F2222/102 ,  C08F220/24 ,  C08F2222/245 ,  C08F2220/1875 ,  C08F2220/1891

摘要： 패턴결함이적은패턴을형성가능한임프린트용경화성조성물의제공. (A) 중합성화합물및 (B) 광중합개시제를함유하는임프린트용경화성조성물로서, 용제를제외한전체성분의합계중량에대한함유수분의비율이 0.8중량% 미만인임프린트용경화성조성물.

公开(公告)号：KR20180064459A

公开(公告)日：2018-06-14

申请号：KR20187012500

申请日：2016-09-30

IPC分类号： C08F20/28 ,  C08F8/36 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28

CPC分类号： C08F20/28 ,  C08F2220/1808 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/1891

摘要： 본발명은수성유액라디칼중합에의한회합성아크릴산 (공)중합체의합성에관한것이고, 상기 (공)중합체는식 (I)에의해나타내어진아크릴산의올리고머의적어도하나의혼합물을포함한다:(I) 여기서 n은범위의정수 1 내지 10, 상기올리고머는 50℃및 200℃사이의온도에서염기또는산 촉매, 물및 중합저해제의존재하에서아크릴산으로부터제조됨. 본발명은또한상기방법을통해얻어지는회합성아크릴산 (공)중합체및 다양한제제내 농후화제로서이 (공)중합체의용도에관한것이다.

公开(公告)号：KR1020170118156A

公开(公告)日：2017-10-24

申请号：KR1020177025880

申请日：2016-03-14

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 고토유이치로 ,  마루모카즈히로 ,  키타가와히로타카 ,  오오마츠타다시

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F2/50 ,  C08F222/10 ,  G03F7/027 ,  G03F7/20 ,  B29C59/02 ,  G03F7/00

CPC分类号： C08F222/14 ,  B29C59/02 ,  C08F2/48 ,  C08F222/10 ,  C08F2220/1858 ,  C08F2220/1866 ,  C08F2220/1875 ,  C08F2220/1883 ,  C08F2220/1891 ,  C08F2222/1013 ,  C08F2800/20 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/027

摘要： 이형성의향상과에칭시의기복의발생의억제를양립시키는것이가능한임프린트용경화성조성물, 및상기임프린트용경화성조성물을이용한경화물, 패턴형성방법, 리소그래피방법, 패턴및 리소그래피용마스크를제공하는것이다. 단관능중합성화합물, 지환구조및 방향환구조중 적어도한쪽을포함하고, 25℃에있어서의점도가 150mPa·s 이하인다관능중합성화합물, 및광중합개시제를포함하는임프린트용경화성조성물로서, 상기단관능중합성화합물을, 임프린트용경화성조성물중의전체중합성화합물에대하여 5~30질량% 함유하고, 상기임프린트용경화성조성물의경화막은, 탄성률이 3.5GPa 이하, 또한유리전이온도가 90℃이상인, 임프린트용경화성조성물.

摘要翻译： 两者的释放性功能增强以及在蚀刻时的救济的发生的抑制，并提供使用Hankyong货运，图案形成方法，光刻方法，所述图案与所述光刻掩模的固化性组合物的印记能够压印固化性组合物。 合成化合物，脂环式结构和芳香环结构含有至少一个，并在25℃150MPA·s以下的多官能化合物的合成的粘度，以及用于压印的可固化组合物，包含该级的光聚合引发剂的单官能 比（重量）的官能的合成化合物，相对于在用于压印5的固化性组合物中所有的化合物的合成于30％，并且包含，将膜压印用固化性组合物的固化，所述弹性模量是为3.5GPa或更小，和90℃的玻璃化转变温度，压印 Lt。

公开(公告)号：KR1020170070009A

公开(公告)日：2017-06-21

申请号：KR1020177007329

申请日：2015-10-07

申请人： 스미토모 세이카 가부시키가이샤

发明人： 니시구치,사토시 ,  무라카미,료스케 ,  이자와,신고 ,  요시나카,마사토요

IPC分类号： C08L33/02 ,  C08L29/10 ,  C08F220/04 ,  C08F216/12 ,  C08K5/06 ,  C08K5/103

CPC分类号： C08F220/04 ,  C08F216/12 ,  C08F220/06 ,  C08K5/06 ,  C08K5/103 ,  C08L29/10 ,  C08L33/02 ,  C08F2220/1891 ,  C08F216/125

摘要： 물에의용해성및 수용액의증점성이뛰어나, 건조공정에서의열 이력에의한점도변화가작고, 물과혼합하여얻을수 있는중화점조액의투명성이높고, 카복실기함유중합체조성물을제공한다. (A) α,β-불포화칼본산(a1) 및분자내에에틸렌성불포화기를적어도둘 이상갖는화합물(a2)를공중합시켜이루어지는카복실기함유중합체와, (B) 다가알코올지방산에스테르알킬렌옥사이드부가물과, (C) 지방족알코올과폴리옥시알킬렌으로이루어진에테르(c1) 및폴리옥시알킬렌지방산에스테르(c2)의적어도일방인폴리옥시알킬렌변성물,을포함하는, 카복실기함유중합체조성물.

摘要翻译： 在水中的嫌疑优异的溶解性和溶液粘度，粘度小的变化，由于热历史eseoui干燥过程中，在与水的混合物中得到的中和粘稠液的透明性高，并提供了一个含有羧基的聚合物的组合物。 （A）α，β-不饱和刀在分子中具有至少两个烯键式不饱和基团的酸（a1）和化合物（a2）的共聚物是由包含羧基的聚合物和，（B）多元醇脂肪酸酯的氧化烯加合物的 和，（C）醚（C1）组成的脂族醇与聚氧化烯，和聚氧化烯酯烘箱防御（c2）的聚氧化烯改性水的唯一至少一个，包括：a。含有羧基的聚合物的组合物。

公开(公告)号：KR1020170043450A

公开(公告)日：2017-04-21

申请号：KR1020160129686

申请日：2016-10-07

申请人： 닛토덴코 가부시키가이샤

发明人： 다카라다쇼우 ,  스에후사에이코 ,  야스이아츠시 ,  사와자키료헤이

IPC分类号： C09J7/00 ,  G02B1/04 ,  G02B6/32 ,  C09J133/04 ,  C08L29/04 ,  G02F1/13363

CPC分类号： C09J7/0217 ,  B29D11/00644 ,  B29D11/0073 ,  B32B2457/20 ,  B32B2457/202 ,  C08F220/18 ,  C09J4/06 ,  C09J7/22 ,  C09J7/38 ,  C09J133/062 ,  C09J133/08 ,  C09J133/10 ,  C09J133/12 ,  C09J133/14 ,  C09J2201/622 ,  C09J2203/318 ,  C09J2205/114 ,  C09J2429/006 ,  C09J2433/00 ,  G02B5/3033 ,  G02F1/133528 ,  G02F2001/133311 ,  G02F2001/133331 ,  G02F2201/50 ,  G02F2202/28 ,  H01L27/3232 ,  Y10T428/1036 ,  Y10T428/1041 ,  Y10T428/105 ,  Y10T428/1059 ,  Y10T428/1077 ,  Y10T428/1082 ,  C08F2220/1858 ,  C08F2220/1891 ,  C08F220/20 ,  C08F226/10 ,  C08F220/06 ,  C08F2220/1825 ,  C08K5/5435

摘要： 전면투명부재와편광판을점착제에의해층간충전한화상표시장치에있어서, 고온환경하에서의편광판의광학특성의변화를억제한다. 점착시트(20)는두께가 D, 투습도가 X, 수분율이 Y이고, XD가 2.7×10g/24h 이상, Y/D가 47m이하이다. 두께 D는, 50 내지 500㎛가바람직하다. 요오드를함유하는폴리비닐알코올계필름을포함하는편광자(11)를포함하는편광판(10)과전면투명부재(70)를, 점착시트(20)에의해접합한화상표시장치(110)는고온환경하에서의편광판(10)의단체투과율의저하나직교투과율의상승이발생하기어려워, 내구성이우수하다.

摘要翻译： 在通过粘合剂将前透明构件和偏振板填充在夹层中的图像显示装置中，抑制了高温环境下偏振板的光学特性的变化。 粘合片20的厚度D，透湿度X，含湿量Y，XD为2.7×10g / 24h以上，Y / D为47μm以下。 厚度D优选为50至500μm。 一种图像显示装置110，其中包括包含含碘的聚乙烯醇膜的偏振片11和前透明构件70的偏振片10通过粘合片20彼此粘合， 简单透射率的降低和偏振片10的正交透射率的增加不太可能发生并且耐久性得到改善。

公开(公告)号：KR1020170031053A

公开(公告)日：2017-03-20

申请号：KR1020160114173

申请日：2016-09-06

申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤

发明人： 나카가와,히사시 ,  나루오카,다케히코 ,  나가이,도모키

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/26 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/11

CPC分类号： G03F7/203 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/11 ,  G03F7/162 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325 ,  C08F2220/185 ,  C08F2220/1891

摘要： [과제] EUV 광등의, 250㎚이하의파장을갖는방사선을패턴노광광으로서사용했을경우에있어서의감도및 리소그래피성능을양립가능한패턴형성방법의제공을목적으로한다. [해결수단] 본발명에따른레지스트패턴형성방법은, 기판에화학증폭형레지스트재료를사용하여레지스트막을형성하는막 형성공정과, 상기레지스트막에, 250㎚이하의파장을갖는방사선을조사하는패턴노광공정과, 상기레지스트막에, 250㎚를초과하는파장을갖는방사선을조사하는일괄노광공정과, 상기레지스트막을가열하는베이크공정과, 상기레지스트막을, 유기용매를주성분으로하는현상액에접촉시키는현상공정을구비하고, 상기화학증폭형레지스트재료가 (1) 중합체성분과 (2) 성분을포함하고, 상기 (2) 성분이, (a) 및 (b) 성분, (b) 및 (c) 성분, 또는 (a) 내지 (c) 성분모두를함유하고, (b) 성분이, 하기식 (B)로표시되는화합물을포함한다.

摘要翻译： [问题]提供一种方法，其能够图案灵敏度和在使用曝光光图案的辐射具有的波长小于所述EUV250㎚荧光灯的情况下形成的平版印刷性能的的一个目的。 [解决问题的手段]用于照射根据本发明的抗蚀图案形成方法的图案，形成了的膜形成工序，通过使用化学放大型抗蚀剂材料到基材上，并在抗蚀剂膜中，具有不大于250㎚的波长的辐射的抗蚀剂膜 曝光步骤和在与辐射照射波长比250㎚大于抗蚀剂膜接触拍摄曝光显影工序;加热所述抗蚀膜的烧成工序中，在主要由有机溶剂组成的显影液的抗蚀剂膜 和一个步骤，而这是在化学增幅型抗蚀剂材料（1）的聚合物组分和（2）含有的组分，所述组分（2），（a）和（b）成分，（b）和（c）成分 （a）〜（c）两者，成分（b）含有下述式（B）所示的化合物。

公开(公告)号：KR1020170026578A

公开(公告)日：2017-03-08

申请号：KR1020177002850

申请日：2015-07-03

申请人： 아르크로마 아이피 게엠베하

发明人： 크나우프볼프강 ,  가사피-마틴발트라우드

IPC分类号： C08L33/10 ,  C09K3/18 ,  C08L33/16 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F2/44 ,  C08L61/28 ,  C08L91/06 ,  D06M15/277 ,  C08L33/06

CPC分类号： D06M13/02 ,  C08F2/44 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F2220/1891 ,  C08K5/01 ,  C08L33/10 ,  C08L33/16 ,  C08L91/06 ,  C08L2203/12 ,  C08L2205/025 ,  C09D4/00 ,  C09D5/00 ,  C09D7/63 ,  C09D133/066 ,  C09D133/068 ,  C09D133/08 ,  C09D133/12 ,  C09D133/16 ,  C09D191/06 ,  D06M13/224 ,  D06M15/248 ,  D06M15/263 ,  D06M15/273 ,  D06M15/277 ,  D06M15/29 ,  D06M2101/06 ,  D06M2101/32 ,  D06M2200/01 ,  D06M2200/11 ,  D06M2200/12 ,  C08F2220/1825 ,  C08F2220/325 ,  C08F220/20 ,  C08F214/06 ,  C08L33/068 ,  C08L33/066 ,  C08L61/28 ,  C09K3/18

摘要： 적어도하기성분 (A) 및 (B)와, 선택적으로하기성분 (C) 내지 (E) 중적어도하나를포함하는조성물로서, 물및/또는유기용제를기반으로한 조성물: (A) 하기단량체들의중합에서얻어진폴리아크릴산염: (M1) CH=CRCOO-R과, (M2) CH=CRCOO-R, 그리고선택적으로 (M3) CH=CRCOO-Y-R및 (M4) CH=CR-X-R; (B) 왁스; (C) 블록이소시안산염; (D) 유기폴리실록산; (E) 멜라민수지 [상기식 중, R은탄소원자 1개내지 8개를함유하는 (메트)아크릴산염단량체 (M1) 중알코올기이고; R는탄소원자 9개내지 40개를함유하는 (메트)아크릴산염단량체 (M2) 중알코올기이며; R는 H, CH또는 CH이고; R-Y는 (메트)아크릴산염단량체 (M3) 중알코올기이되, 다만 Y는 -(CH)[식중 m은 1 내지 10의범위에있는정수임]이고; R는 CF[식중 x는 1 내지 12, 바람직하게는 1 내지 6, 더욱바람직하게는 4 내지 6의범위에있는정수임]이며; R는 H, CH, CI 또는 F로부터선택되고; X는 COO 또는 CONH이고; R는글리시딜또는 CH(CH)-OR[식중, n은 1 내지 10의범위에있는정수이고, R는 H, 또는탄소원자 1개내지 6개를함유하는잔기임]임] 이제공된다.

摘要翻译： 组合物，至少包含组分（A）和（B）和任选的组分（C）至（E）中的至少一种：（A）在单体（M1）CH2 = CR3COO-R1与（M2 ）CH2 = CR3COO-R2和任选的（M3）CH2 = CR6COO-Y-RF（M4）CH2 = CR3-X-R4; （B）蜡; （C）封端异氰酸酯; （D）有机聚硅氧烷; （E）三聚氰胺树脂; 其中R1是含有1至8个碳原子的（甲基）丙烯酸酯单体（M1）中的醇部分; R2是含有9-40个碳原子的（甲基）丙烯酸酯单体（M2）中的醇部分; R3是H，CH3或C2H5; RF-Y是（甲基）丙烯酸酯单体（M3）中的醇部分，其中Y是 - （CH 2）m - ，其中m是1至10的整数; RF为CxF2x + 1，其中x为1至12，优选1至6，更优选4至6的整数; R6是H，CH3，C1或F; X是COO或CONH; R4是缩水甘油基或CH2（CH2）n-OR5，其中n是1到10的整数，R5是H或含1到6个碳原子的残基; 并且其中所述组合物基于水和/或有机溶剂。

公开(公告)号：KR1020170018941A

公开(公告)日：2017-02-20

申请号：KR1020177001231

申请日：2015-05-20

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 츠치무라토모타카

IPC分类号： G03F7/26 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  C08F212/14

CPC分类号： C08F212/14 ,  C08F2/50 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F220/18 ,  C08F220/20 ,  C08F220/22 ,  C08F220/68 ,  C08F2220/1866 ,  C08F2220/1875 ,  C08F2220/1883 ,  C08F2220/1891 ,  C08F2220/301 ,  C08F2220/303 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/32 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  G03F7/26 ,  G03F7/004 ,  C08F212/32

摘要： 패턴형성방법은, 감활성광선성또는감방사선성수지조성물을이용하여막을형성하는공정과, 막을활성광선또는방사선으로노광하는공정과, 유기용제를포함한현상액을이용하여노광된막을현상하는공정을갖는패턴형성방법으로서, 감활성광선성또는감방사선성수지조성물이, 일반식 (I)로나타나는부분구조를갖는화합물을함유한다.

摘要翻译： 该图案形成方法包括：使用活性光敏性或辐射敏感性树脂组合物形成膜的步骤; 将膜暴露于活性光或辐射的步骤; 以及使用含有有机溶剂的显影液显影曝光膜的步骤。 活性光敏或辐射敏感性树脂组合物含有具有由通式（I）表示的部分结构的化合物。

公开(公告)号：KR1020170017727A

公开(公告)日：2017-02-15

申请号：KR1020160095365

申请日：2016-07-27

申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

发明人： 오하시마사키 ,  하타케야마준 ,  후쿠시마마사히로 ,  후지와라다카유키

IPC分类号： C07C309/02 ,  C07D493/06 ,  C07D493/14 ,  C08F20/38 ,  G03F7/004 ,  G03F7/32 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  G03F1/22

CPC分类号： G03F7/039 ,  C07C309/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  C07D327/08 ,  C08F220/20 ,  C08F220/38 ,  C08F2220/1891 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/302 ,  C08F2220/303 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38

摘要： [과제] 고해상도이고고감도이며, LWR나 CDU 등의리소그래피성능의밸런스가우수한레지스트조성물의베이스수지로서, 적합하게이용되는고분자화합물의원료로서적합한화합물을제공한다. [해결수단] 하기일반식(1)로표시되는화합물.(식중, R은수소원자, 불소원자, 메틸기또는트리플루오로메틸기를나타낸다. A는단결합또는헤테로원자가개재해도좋은탄소수 1∼30의직쇄형, 또는탄소수 3∼30의분기형또는환형의 2가탄화수소기를나타내고, 이탄화수소기중의수소원자의일부또는전부는헤테로원자를포함하는기로치환되어있어도좋다. n은 0 또는 1을나타낸다. 단 A가단결합인경우, n은반드시 0이다. M는양이온을나타낸다.)

摘要翻译： 其中R1表示氢原子，氟原子，甲基或三氟甲基; A表示单键或碳原子数为1〜30的直链二价烃基或碳原子数3〜30的支链状或环状的二价烃基，该烃基可含有杂原子，部分或全部为氢原子 在烃基中可以被含有杂原子的基团取代; “n”表示0或1，条件是当A为单键时“n”为0; M +表示阳离子。 该化合物适合作为抗蚀剂组合物的基础树脂的高分子化合物的原料，其具有高分辨率和高灵敏度，并且平版印刷性能如LWR和CDU之间的平衡优异。

公开(公告)号：KR1020160145787A

公开(公告)日：2016-12-20

申请号：KR1020167032481

申请日：2015-05-13

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 츠치하시토루 ,  니하시와타루 ,  츠바키히데아키

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  C08F220/20 ,  C08F220/34 ,  C08F2220/1816 ,  C08F2220/1833 ,  C08F2220/1841 ,  C08F2220/302 ,  C08F2220/382 ,  C08F2800/10 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/16 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2059 ,  G03F7/32 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40 ,  C08F2220/1891 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/70033

摘要： 패턴형성방법은, 페놀성수산기를갖는반복단위, 및산의작용에의하여분해되어카복실기를발생하는기를갖는반복단위를갖는수지 (A)와, 활성광선또는방사선의조사에의하여산을발생하는화합물 (B)를함유하는감활성광선성또는감방사선성수지조성물을이용하여기판상에막을형성하는공정과, 상기막을노광하는공정과, 상기노광한막을, 유기용제를포함하는현상액을이용하여현상하는공정을이 순서로갖고, 상기유기용제를포함하는현상액이, 탄소원자수가 8 이상이고또한헤테로원자수가 2 이하인유기용제를 50질량% 이상함유한다.

摘要翻译： 图案形成方法依次包括使用含有具有酚羟基的重复单元的树脂（A）的活性光敏感或辐射敏感性树脂组合物在基材上形成膜，并且重复 具有通过酸的作用分解以产生羧基的基团的单元和在用活性光或辐射照射时产生酸的化合物（B）; 曝光电影; 并使用包括有机溶剂的显影剂显影所述曝光的膜，其中包含有机溶剂的显影剂含有具有8个或更多个碳原子的有机溶剂和2个或更少的杂原子的量为50质量％以上。