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    비수용성 음이온 교환 재료
    2.
    发明公开
    비수용성 음이온 교환 재료 审中-实审
    不溶于水的阴离子交换材料

    公开(公告)号：KR1020170122675A

    公开(公告)日：2017-11-06

    申请号：KR1020170053706

    申请日：2017-04-26

    申请人： 라이브니츠-인스티튜트 퓌어 폴리머포르슝 드레스덴 에.파우.

    发明人： 마이어-하아크,요헨

    IPC分类号： C08G81/02 ,  C08G75/23 ,  C08G85/00 ,  C08L101/04 ,  C08J5/22

    CPC分类号： B01J41/12 ,  A61K31/785 ,  C02F1/42 ,  C08F10/02 ,  C08F12/08 ,  C08F14/26 ,  C08F22/02 ,  C08F26/06 ,  C08F126/06 ,  C08F126/08 ,  C08F226/06 ,  C08G73/00 ,  C08G75/23

    摘要： 본발명은, 고분자화학의영역과관련이있고비수용성음이온교환재료에관한것으로서, 이러한재료는예를들어음이온교환막이나혹은음이온교환수지로서사용될수 있다. 본발명의과제는, 향상된비수용성을갖는비수용성음이온교환재료를제공하는것이다. 상기과제는, 적어도선형적으로중합된및/또는분지된및/또는가교된음이온교환그룹 C로이루어지고, 이들그룹이아래 I~VIII의일반식중 하나이상의식에따른구조단위의구성성분인, 비수용성음이온교환재료를통해서해결된다:식 (I) 식 (II)식 (III) 식 (IV)식 (V) 식 (VI)식 (VII) 식 (VIII)

    摘要翻译： 本发明中，作为与聚合物化学领域，并涉及一种不溶于水的阴离子交换材料，这种材料可以被使用，例如阴离子交换膜或阴离子交换树脂或。 本发明的一个目的是提供一种具有改进的水不溶性水不溶性的阴离子交换材料。 面临的挑战是，根据由至少线性地聚合和/或支链和/或交联的阴离子交换基团C，一个或多个这些基团被以下I〜VIII uiil bansik意识的结构单元的成分， 它是由不溶于水的阴离子交换材料解决：式（I），式（II）式（III）式（IV）式（V）式（VI）式（VII）式（VIII）

    수지 및 레지스트 조성물
    4.
    发明授权
    수지 및 레지스트 조성물 有权
    树脂和抗蚀剂组合物

    公开(公告)号：KR101766920B1

    公开(公告)日：2017-08-09

    申请号：KR1020100059509

    申请日：2010-06-23

    申请人： 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤

    发明人： 이찌까와,고지 ,  후지,유스께 ,  야마구찌,사또시

    IPC分类号： C07D497/02 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

    CPC分类号： C08F224/00 ,  C08F220/10 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F222/14 ,  C08F226/06 ,  C08F228/06 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

    摘要： 본발명의수지는하기화학식 (aa)로표시되는화합물에서유래하는구조단위를갖는다.[식중, T는탄소수 4 내지 36의지환식탄화수소기를나타내고, 이지환식탄화수소기에포함되는수소원자는할로겐원자, 수산기, 할로겐원자또는수산기로치환될수도있는탄소수 1 내지 12의알킬기, 탄소수 1 내지 12의알콕시기, 탄소수 6 내지 12의아릴기, 탄소수 7 내지 12의아랄킬기, 글리시딜옥시기, 탄소수 2 내지 4의아실기, 알콕시카르보닐기, 알카노일옥시알킬기또는시아노기로치환될수도있으며, 상기지환식탄화수소기에포함되는 -CH-는적어도하나의 -SO-로치환되고, 추가로 -CO-, -O-, -S-, -SO- 또는 -N(R)-로치환될수도있고, R는수소원자또는탄소수 1 내지 6의알킬기를나타내고, R은수소원자, 할로겐원자, 또는할로겐원자를가질수도있는탄소수 1 내지 6의알킬기를나타내며, Z은치환기를가질수도있는탄소수 1 내지 17의포화탄화수소기를나타내고, 상기포화탄화수소기에포함되는 -CH-는 -CO-, -O-, -S- 또는 -N(R)-로치환될수도있음]

    摘要翻译： 本发明的树脂具有由下式（AA）表示的化合物衍生的结构单元。[式中，T为4〜36的意志的碳原子数表示环状烃，可以包括组yijihwan烃希望的卤素原子，羟基 ，芳烷基，卤原子或C 1 -C其doelsudo被羟基取代的，烷氧基具有1至12个碳原子的基团，C 6 -C 12芳基，7至12个碳原子，2至4个碳原子数12的烷基怀疑的缩水甘油氧基 基，烷氧基羰基，烷酰氧基或由氰基，和取代的doelsudo，-CH-载到所述脂环族烃是至少一种环 - SO-蟑螂，被-CO - ， - O-，-S加入 - ， - SO-，或-N（R） - 和罗奇doelsudo环，R表示氢原子或碳原子数1〜6的烷基，R隐士希望在这里，图1至6个碳原子也可以采取一个卤原子，或卤原子。 并且Z代表取代基 A表示gajilsu还一组饱和烃，-CH-含有1至17个碳原子的所述饱和烃是-CO - ， - O - ， - S-或-N（R）在-是doelsudo罗奇环;

    네거티브형 패턴 형성 방법
    5.
    发明授权
    네거티브형 패턴 형성 방법 有权
    负图案形成方法

    公开(公告)号：KR101761430B1

    公开(公告)日：2017-07-25

    申请号：KR1020120129910

    申请日：2012-11-16

    申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

    发明人： 고바야시,도모히로 ,  가따야마,가즈히로 ,  하따께야마,준 ,  후나쯔,겐지 ,  다찌바나,세이이찌로

    IPC分类号： G03F7/26 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/38 ,  C08F220/34 ,  C08F220/36 ,  C08F226/06 ,  C08F226/10 ,  C08F228/02 ,  C08F228/06 ,  C08F2220/343 ,  C08F2220/365 ,  C08F2220/382 ,  C08F2220/385 ,  C08F2220/387 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

    摘要： 본발명은산불안정기에의해카르복실기가보호된구조를갖는반복단위 (a1)과아미노기, 아미드결합, 카르바메이트결합, 질소함유복소환으로부터선택되는구조를하나이상포함하는반복단위 (a2)를함유하는고분자화합물 [A]와, 광산발생제 [B]와, 유기용제 [C]를모두포함하는레지스트조성물을기판에도포하고, 도포후 가열처리를하여제작한레지스트막을고에너지선으로노광하고, 노광후 가열처리를실시한후에유기용제를함유하는현상액에의해레지스트막의미노광부분을선택적으로용해시키는네거티브형패턴형성방법에관한것이다. 본발명의특정한구조의고분자화합물과광산발생제와유기용제를포함하는레지스트조성물을유기용제네거티브현상과조합함으로써표면난용층의형성을방지하고, 미세트렌치패턴이나홀 패턴의넓은초점심도를얻는것이가능해진다.

    摘要翻译： 本发明包含含有重复单元（a1）和具有保护结构，羧基，酰胺键，氨基甲酸酯键的氨基，从由酸不稳定含氮杂环中的至少一种结构的重复单元（a2） 和高分子化合物[A]一，和光 - 酸产生[B]，以及将所述抗蚀剂包含所有的有机溶剂[C]至基板的组合物中，并通过热处理制备后的涂布暴露于能量辐射的抗蚀剂膜， 抗蚀剂膜的负图案选择性地溶解由曝光涉及一种形成方法之后进行热处理后含有有机溶剂的显影溶液暴露部分的装置。 它是一种聚合的化合物和本发明权利要求的具体结构的光产酸剂和包含有机溶剂的抗蚀剂组合物，通过组合有机溶剂负发展防止形成表面层不溶性的，为了获得精细的沟槽图案或场的孔图案的宽对焦 变得可能。

    Ｎ-아실-β-락탐 유도체, 고분자 화합물 및 포토레지스트 조성물
    6.
    发明授权
    Ｎ-아실-β-락탐 유도체, 고분자 화합물 및 포토레지스트 조성물 有权
    N-酰基-β-内酰胺衍生物，聚合物化合物和光刻胶组合物

    公开(公告)号：KR101732205B1

    公开(公告)日：2017-05-02

    申请号：KR1020127004936

    申请日：2010-08-27

    申请人： 주식회사 쿠라레

    发明人： 후쿠모토다카시 ,  마츠나가슈지 ,  츠루타미키

    IPC分类号： C08F20/34 ,  C08F20/52 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07D205/08 ,  C08F20/26 ,  C08F20/34 ,  C08F226/06 ,  G03F7/039

    摘要： 산확산길이를짧게제어하는포토레지스트조성물이얻어지는하기일반식으로나타내는 N-아실-β-락탐유도체, 그하기일반식으로나타내는 N-아실-β-락탐유도체를원료의하나로서중합함으로써얻어지는고분자화합물, 및그 고분자화합물을함유하는포토레지스트조성물을제공한다.(식중, R은수소원자, 메틸기, 또는트리플루오로메틸기를나타낸다. W 는알킬렌기또는시클로알킬렌기를나타낸다. n 은 0 또는 1 을나타낸다. R, R, R및 R는각각독립적으로수소원자, 알킬기, 고리형탄화수소기또는아실옥시기를나타낸다. 단, 1) R와 R, R와 R는연결하여임의의위치에산소원자를갖고있어도되는치환또는비치환의고리를형성해도되고, 2) R과 R는연결하여임의의위치에산소원자를갖고있어도되는치환또는비치환의고리를형성해도되고, 또한, 3) R, R, R및 R의모두가동시에수소원자인경우는없다)

    摘要翻译： 通过酸扩散聚合以得到的光致抗蚀剂组合物来控制短长度而得到的高分子化合物-β-N-酰基内酰胺衍生物，对-β-内酰胺衍生物由下式作为原料表示的通式表示的N-酰基 （式中，R表示氢原子，甲基或三氟甲基，W表示亚烷基或亚环烷基，n表示0或1）和光聚合引发剂 R，R，R和R可具有在每个独立地表示氢原子，烷基，环烃基或酰氧基的氧原子。但是，1）R和R，R和R是任何位置连接 即，即使形成取代或未取代的环，2）R和R被连接到，并且可以形成一个取代或未取代的环，该环可包含在任意的位置的氧原子，和，3）R，R，R和R 所有同时氢原子 如果不是）

    활성에너지선 경화성 수지 조성물, 이를 포함하는 편광판 및 액정표시장치
    8.
    发明公开
    활성에너지선 경화성 수지 조성물, 이를 포함하는 편광판 및 액정표시장치 审中-实审
    具有活性能量的可固化组合物，包含其的极化平板和液晶显示装置

    公开(公告)号：KR1020160085582A

    公开(公告)日：2016-07-18

    申请号：KR1020150002773

    申请日：2015-01-08

    申请人： 동우 화인켐 주식회사

    发明人： 김옥형 ,  노세진

    IPC分类号： C08F220/18 ,  C08F226/06 ,  C08F228/02 ,  C08F220/34 ,  C08F2/50 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1337

    CPC分类号： C08F220/18 ,  C08F2/50 ,  C08F220/34 ,  C08F226/06 ,  C08F228/02 ,  C08F2810/20 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1337

    摘要： 본발명은활성에너지선경화성수지조성물, 이를포함하는편광판및 액정표시장치에관한것으로, 더욱상세하게는아크릴레이트계화합물과함께분자구조내 비닐기를포함하는이온성비닐단량체를포함하는활성에너지선경화성수지조성물, 이를포함하는편광판및 액정표시장치에관한것이다. 상기활성에너지선경화성수지조성물은대전방지제가고분자에고정화되어편광자의광학특성을저하를방지하고, 편광자와의밀착력을높일수 있으며, 별도의접착제층이나점착층없이하나의층으로종래 TAC과같은투명보호필름과대전방지층대신사용이가능하여편광판의박형경량화를가능케한다.

    摘要翻译： 本发明涉及一种活性能量射线固化树脂组合物，包含该活性能量射线固化树脂组合物的偏振片和液晶显示装置。 更具体地说，本发明涉及一种活性能量射线固化性树脂组合物，其包含具有分子结构中的乙烯基的丙烯酸酯类化合物的离子型乙烯基单体。 本发明还涉及包括该偏振片的偏振片和液晶显示装置。 活性能量射线固化性树脂组合物由于防静电剂固定在聚合物上而防止了偏振片的光学特性的降低，并且增加了与偏振片的粘附性。 此外，活性能量射线固化型树脂组合物可以是防静电层和透明保护膜的替代物，例如不含附加粘合剂层或内聚层的单层的常规三乙酰纤维素（TAC），并且还能够 偏振板的变薄和重量减轻。