-
公开(公告)号：KR1020150060693A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：KR1020157006282
申请日：2013-08-23
Applicant: 가부시키가이샤 아도테크 엔지니어링
CPC classification number: G03F7/2032 , H05K3/00 , H05K2203/1545
Abstract: 피노광기판의양면에화상을묘화할때에각 면에서서로대응하지않는화상을묘화해버리는것을방지할수 있는노광묘화장치를제공한다. 피노광기판의제 1 면을노광함으로써제 1 면에화상을묘화하는제 1 묘화수단과, 제 1 면의화상정보와노광조건정보가대응된제 1 잡정보(60A), 제 2 면의화상정보와노광조건정보가대응된제 2 잡정보(60B), 및제 1 잡정보(60A)와제 2 잡정보(60B)의대응정보를기억하는기억수단과, 제 1 잡정보(60A)에의해나타내어지는노광조건으로제 1 면을노광함으로써제 1 면에화상을묘화한피노광기판의제 2 면에화상을묘화할경우, 대응정보에의거하여제 1 면에화상을묘화했을때에사용한제 1 잡정보(60A)에대응된제 2 잡정보에의해나타내어지는노광조건으로제 2 면을노광함으로써제 2 잡정보(60B)에의해나타내어지는화상을제 2 면에묘화한다.
-
公开(公告)号：KR1020150017191A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：KR1020130093177
申请日：2013-08-06
Applicant: 삼성디스플레이 주식회사
CPC classification number: C23F1/02 , C23C14/042 , G03F7/2032 , H01L51/0011
Abstract: 메탈 마스크 제작 방법이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 메탈 마스크 제작 방법은, 박판의 양면에 패턴 영역을 형성하는 제 1 단계; 및 패턴 영역을 소정의 두께만큼 식각하는 제 2 단계를 포함하되, 제 2 단계는, 습식 식각 및 건식 식각을 모두 사용한다.
Abstract translation: 公开了一种金属掩模的制造方法。 根据本发明的一个实施例的金属掩模的制造方法包括在薄板的两侧形成图案区域的第一步骤和以预定厚度蚀刻图案区域的第二步骤。 在第二步中使用湿蚀刻工艺和干法蚀刻工艺。
-
公开(公告)号：KR100891703B1
公开(公告)日：2009-04-03
申请号：KR1020070031478
申请日：2007-03-30
Applicant: 주식회사 엘지화학
CPC classification number: G03F7/2032 , G02B6/0053 , G02B6/0065 , G03F7/2022 , Y10T428/24479
Abstract: 본 발명은 마이크로 패턴이 형성된 필름의 제조방법 및 그로부터 제조된 필름에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 여러 가지 광학적인 용도로 사용될 수 있는 마이크로 패턴이 형성된 필름을 효율적으로 제조할 수 있는 방법 및 그로부터 제조된 광학용 필름에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 필름의 한쪽 면에 마이크로 패턴을 형성시키는 단계; 및 상기 한쪽면에 형성된 마이크로 패턴을 포토 마스크로 이용하여 다른쪽 면에 포토 리쏘그라피 방식으로 먼저 형성된 마이크로 패턴과 동일한 형태의 마이크로 패턴을 형성시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 패턴이 형성된 필름의 제조방법이 제공된다.
마이크로 패턴, 포토 레지스트, 포토 마스크, 중심축간의 거리-
公开(公告)号：KR1020020077212A
公开(公告)日：2002-10-11
申请号：KR1020020017145
申请日：2002-03-28
Applicant: 오토마 테크
CPC classification number: G03F7/2032 , G03F7/2008 , G03F7/201 , G03F7/2014 , H05K3/0082
Abstract: PURPOSE: Provided is an exposure apparatus that makes it possible to improve exposure of a surface by scanning, in particular for manufacturing printed circuits, by providing a strip of light which presents both a good uniformity and a good angle of incidence relative to the panel. CONSTITUTION: In an apparatus for exposing at least one face of a panel(120), in particular a panel for a printed circuit, the apparatus comprises: means holding at least one artwork and the panel(120) on a frame; an optical system comprising a light source(112) emitting a light beam(I), processor means for processing the light beam to generate a uniform and collimated light beam(III) having a mean angle of incidence relative to the surface to be exposed of less than 2 degree and having illumination uniformity that departs by less than ±10% from a mean value, and shaper means(158, 160) enabling the uniform and collimated light beam to be transformed into a uniform and collimated light strip on the surface(118) of the panel to be exposed and including the artwork, the uniform and collimated light strip being of length not less than the length of one of the sides of the surface to be exposed, the means for processing the light beam comprising a reflector and an integrator-collimator assembly; displacement means for generating relative displacement between the light strip and the face to be exposed in a direction substantially transverse to the longitudinal direction of the light strip; and matching means for matching the speed of relative displacement between the light strip and the face to be exposed to the illumination of the light strip and to the sensitivity of the surface to be exposed.
Abstract translation: 目的：提供一种曝光装置，通过提供相对于面板具有良好的均匀性和良好的入射角度的光条，可以通过扫描特别是用于制造印刷电路来改善表面的曝光。 构成：在用于暴露面板（120）的至少一个面，特别是用于印刷电路的面板的设备中，该设备包括：将至少一个艺术品和面板（120）保持在框架上的装置; 包括发射光束（I）的光源（112）的光学系统，用于处理光束以产生具有相对于要暴露的表面的平均入射角的均匀和准直光束（III）的处理器装置 小于2度并且具有从平均值偏离小于±10％的照明均匀性，以及使均匀和准直的光束能够转换成表面上均匀和准直的光条的成形器（158,160） 118），并且包括艺术品，均匀和准直的灯条的长度不小于要暴露的表面的一侧的长度，用于处理包括反射器的光束的装置和 积分器 - 准直器组件; 位移装置，用于在基本上横向于光条的纵向方向的方向上产生待曝光的光条与面之间的相对位移; 以及匹配装置，用于使光条与要暴露于光条的照明的面之间的相对位移的速度以及要暴露的表面的灵敏度相匹配。
-
公开(公告)号：KR1020170106653A
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：KR1020177025563
申请日：2014-02-20
Applicant: 오사카 유니버시티
IPC: G03F7/38 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/2022 , G03F7/203 , G03F7/2032 , G03F7/32 , G03F7/38 , G03F7/2059 , H01L21/0273
Abstract: 본발명의레지스트패턴형성방법은, 기판(11)에레지스트층(12)을형성하는레지스트층형성단계S101과, 활성화에너지빔의조사에의해상기레지스트층을활성화하는활성화단계S103과, 상기레지스트층의활성의감쇠를억제하는감쇠억제단계S105와, 잠상형성에너지빔의조사에의해, 상기활성화된레지스트층에패턴잠상을형성하는패턴잠상형성단계S107과, 상기레지스트층을현상하는현상단계S110을함유한다.
Abstract translation: 本发明的抗蚀剂图案形成方法包括：用于在基板11上形成擦除抗蚀剂层12的抗蚀剂层形成步骤S101;用于通过照射活化能量束激活抗蚀剂层的激活步骤S103; 通过照射形成潜像的能量束在活性抗蚀剂层上形成图案潜像的图案潜像形成步骤S107，用于显影抗蚀剂层的显影步骤S110， 它包含的内容。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020170022944A
公开(公告)日：2017-03-02
申请号：KR1020160105644
申请日：2016-08-19
Applicant: 제이에스알 가부시끼가이샤 , 고꾸리쯔 다이가꾸 호우징 오사까 다이가꾸 , 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: G03F7/2022 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/2032 , G03F7/30 , G03F7/322 , G03F7/38
Abstract: EUV 광등의전리방사선등을이용한패턴형성기술의실용화에유용한패턴형성방법을제공한다. 본발명의패턴형성방법은, 기판상에형성된반사막상에레지스트재료를사용해서레지스트재료막을형성하는막 형성공정과, 레지스트재료막의소정의개소에전리방사선또는비전리방사선을조사하는패턴노광공정과, 상기레지스트재료막에비전리방사선을조사하는일괄노광공정과, 상기레지스트재료막을가열하는베이크공정과, 레지스트패턴을형성하는현상공정을구비하고, 일괄노광공정에서조사하는비전리방사선에있어서의상기반사방지막의소쇠계수가 0.1 이상이며, 상기레지스트재료가, (1) 산의작용에의해현상액에가용또는불용이되는베이스성분과, (2) 노광에의해감방사선성증감체및 산을발생하는성분을포함하고, 상기 (2) 성분이, (a) 성분, (a) 내지 (c) 성분중의임의의 2개의성분, 또는 (a) 내지 (c) 성분모두를함유한다.
Abstract translation: 图案形成方法包括在形成在基板上的抗反射膜上施加化学放大的抗蚀剂材料以形成抗蚀剂材料膜。 抗蚀剂材料膜图案地暴露于波长不大于400nm的电离辐射或非离子化辐射。 图案曝光的抗蚀剂材料膜被洪泛地暴露于波长大于用于图案曝光的非离子化辐射的波长的大于200nm的非离子化辐射。 烘烤曝光的抗蚀剂材料膜。 用显影剂溶液显影烘烤的抗蚀剂材料膜。 用于液体曝光的非离子辐射防反射膜的消光系数不小于0.1。 化学放大抗蚀剂材料包括能够在曝光时产生辐射敏感敏化剂和酸的基础成分和生成成分。
-
公开(公告)号：KR1020100066843A
公开(公告)日：2010-06-18
申请号：KR1020080125331
申请日：2008-12-10
Applicant: (주) 프렉코
CPC classification number: C23F1/02 , G03F7/2032 , C22F1/00 , C09K13/00 , C22C9/00 , C22C19/00 , C22C38/00 , C22F1/08 , C22F1/10 , C23F1/10 , F16F1/00 , G03F7/00
Abstract: PURPOSE: A spring and a manufacturing method thereof are provided to achieve exact dimension and simplify the manufacturing process by employing a photo etching method. CONSTITUTION: A manufacturing method of a spring comprises the steps of: preparing a metal substrate cut to size(S10), coating photosensitive photoresist on both sides of the metal substrate(S20), vacuum-pressing a photomask on the coated metal substrate and irradiating UV ray to the metal substrate so as to form a spring pattern part(S30), removing the photosensitive photoresist from non-pattern part except for the spring pattern part(S40), and etching the non-pattern part with etchant(S50).
Abstract translation: 目的：提供一种弹簧及其制造方法，以通过采用光蚀刻方法实现精确尺寸并简化制造工艺。 构成：弹簧的制造方法包括以下步骤：制备切割成尺寸（S10）的金属基板，在金属基板的两侧涂覆感光性光致抗蚀剂（S20），对涂覆的金属基板上的光掩模进行真空加压并照射 紫外线到金属基板，以形成弹簧图案部分（S30），除了弹性图案部分之外的非图案部分（S40）去除光敏光刻胶，并用蚀刻剂蚀刻非图案部分（S50）。
-
公开(公告)号：KR1020080088767A
公开(公告)日：2008-10-06
申请号：KR1020070031478
申请日：2007-03-30
Applicant: 주식회사 엘지화학
CPC classification number: G03F7/2032 , G02B6/0053 , G02B6/0065 , G03F7/2022 , Y10T428/24479
Abstract: A method for manufacturing a film having a micro-pattern and a film manufactured by the same are provided to obtain the film having micro-patterns with equally controlled shapes on both sides thereof. A method for manufacturing a film(10) having a micro-pattern(40) includes the steps of: forming the micro-pattern on one surface of the film; and forming another micro-pattern equal to the previously formed micro-pattern in a photolithography method on another surface by using the micro-pattern formed on the one surface as a photo mask. The previously formed micro-pattern is formed by using a photolithography method.
Abstract translation: 提供具有微图案的膜的制造方法和由其制造的膜，以获得具有两侧具有相同控制形状的微图案的膜。 一种制造具有微图案（40）的薄膜（10）的方法包括以下步骤：在薄膜的一个表面上形成微图案; 并且通过使用在一个表面上形成的微图案作为光掩模，在另一个表面上以光刻方法形成等于先前形成的微图案的另一微图案。 通过使用光刻法形成先前形成的微图案。
-
9.发明公开
公开(公告)号：KR1020050037388A
公开(公告)日：2005-04-21
申请号：KR1020040082831
申请日：2004-10-15
Applicant: 오토마 테크
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/2032 , H05K3/0082
Abstract: 본 발명은 양면 회로 기판을 제 1 도판 및 제 2 도판을 통과하여 광에 노출하기 위한 노출 조립체 및 노광 장치에 관한 것으로, 노광 장치는 프레임(14)과, 제 1 도판 지지부(10) 및 제 2 도판 지지부(16)와, 도판 지지부(10, 16)들을 위한 접근/분리용 이동 수단(51)과, 인쇄 회로 기판을 지지하기 위한 수단을 포함한다. 상기 노광 장치는 위치 오차를 검출하는 광학 검출 수단과, 광원과, 상기 광원에서 방출된 광선의 방향을 유도하는 광학 수단을 추가로 포함한다.
상기 노출 조립체는, 도판 지지부(10, 16)들을 함께 변위시킬 수 있는 공동 변위 수단(12, 18, 20, 22, 24, 26, 28, 30A, 30B, 30C, 32A, 32B, 34, 36, 40, 42)과, 제 1 도판 지지부(10)에 대하여 제 2 도판 지지부(16)를 변위시킬 수 있는 독립 변위 수단(18, 20, 22, 24, 26, 28, 30A, 30B, 30C, 32A, 32B, 36, 38, 42, 44)을 또한 포함한다.-
公开(公告)号：KR101300866B1
公开(公告)日：2013-08-27
申请号：KR1020077020552
申请日：2006-03-06
Applicant: 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니
Inventor： 호이징가존에스. , 킹빈센트더블유. , 스트랜드존티. , 답스제임스엔. , 헌터토마스비. , 도우어윌리암브이. , 칼슨다니엘에이치. , 웻즐스서지 , 킹그레고리에프. , 벤슨올레스터주니어 , 루윅브라이언더블유. , 쟝하이옌 , 라르센제레미케이. , 프리엠.벤톤 , 컨스데이비드더블유.
CPC classification number: B29C59/04 , B05D1/40 , B05D3/067 , B05D3/12 , B05D2252/02 , B29C35/0805 , B29C35/0888 , B29C35/0894 , B29C39/148 , B29C39/203 , B29C59/046 , B29C2035/0827 , B29C2043/463 , B29C2059/023 , G03F7/0957 , G03F7/2032 , H05K1/0393 , H05K3/0008 , H05K3/0079 , H05K3/101 , H05K2201/0108 , H05K2203/0113 , H05K2203/0143 , H05K2203/1545 , H05K2203/1572
Abstract: 본 발명은 불투과성 웨브의 양쪽 측면 상에 패터닝된 표면을 캐스팅하는 장치 및 방법에 관한 것이다. 이 장치는 제1의 패터닝된 롤(18), 제2의 패터닝된 롤(20) 그리고 웨브(12)가 연속 이동 상태에 있는 동안에 이들의 패턴이 웨브의 대향 측면 상에 전사되도록 제1 및 제2의 패터닝된 롤(18, 20)을 회전시키는 수단을 포함한다. 이러한 공정 중, 제1 및 제2의 패터닝된 롤(18, 20)은 이들의 패턴이 100 ㎛ 이내까지 연속 정합 상태로 유지되도록 경화 에너지에 불투과성인 복수의 영역을 포함한다.
조립체, 에너지 공급원, 패터닝된 롤, 패터닝된 롤의 회전 수단, 연속 정합 상태
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
29
records
(took 0.018 seconds)
