公开(公告)号：KR101883186B1

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：KR1020110050672

申请日：2011-05-27

申请人： 삼성디스플레이 주식회사

发明人： 김창훈 ,  유홍석

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02F1/13 ,  G02B5/20

CPC分类号： G03B27/423 ,  G03F7/7055

摘要： 노광장치는광원, 마스크, 블라인드및 블라인드구동부를포함한다. 광원은일정발광주기로발광한다. 마스크는기판상부에배치되고일정패턴이형성된노광창을포함한다. 블라인드는마스크의노광창상부에배치되어기판내의비노광영역을가리기위해제1 방향으로이동하고, 노광창영역을통과하여제1 방향과반대인제2 방향으로회송되며, 차단부및 개구부를갖는복수의차단플레이트들을포함한다. 블라인드구동부는블라인드를구동한다.

公开(公告)号：KR20180048969A

公开(公告)日：2018-05-10

申请号：KR20187009275

申请日：2016-08-03

IPC分类号： G02B27/10 ,  G02B5/18 ,  G02B6/293 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70991 ,  G02B5/1838 ,  G02B5/1857 ,  G02B5/1861 ,  G02B6/00 ,  G02B6/29314 ,  G02B27/1086 ,  G02B27/1093 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70208 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70566 ,  H01S3/0903

摘要： 입력방사선빔을수용하고입력방사선빔을복수의출력방사선빔들로분할하도록배치되는빔-분할장치가개시된다. 빔-분할장치는방사선빔을수용하도록배치되고복수의회절차수들을포함한회절패턴을형성하도록구성되는복수의반사회절격자들을포함하고, 반사회절격자들중 적어도일부는반사회절격자들중 다른것에서형성되는 0차회절을수용하도록배치된다. 반사회절격자들은각각의출력방사선빔의광학경로가 0차회절이아닌회절차수의한 인스턴스만을포함하도록배치된다.

公开(公告)号：KR1020170120015A

公开(公告)日：2017-10-30

申请号：KR1020160109920

申请日：2016-08-29

申请人： 하이맥스 테크놀로지스 리미티드

发明人： 친-더리 ,  한-이쿠 ,  주-핀차이

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/30 ,  G03F7/20 ,  G03F7/16

CPC分类号： B29D11/00865 ,  B29C31/008 ,  B29C33/306 ,  B29C35/0805 ,  B29C59/026 ,  B29C59/046 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2037/90 ,  B29C2059/023 ,  B29D11/00769 ,  B29D11/00951 ,  B29K2105/24 ,  B29K2105/243 ,  B29L2011/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/16 ,  G03F7/3064 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70758

摘要： 임프린팅장치는, 제 1 컨베이어유닛, 가요성임프린팅주형필름(mold film) 및구동롤러세트를포함한다. 제 1 컨베이어유닛은임프린팅장치의작업영역으로작업물을전달하도록적응된다. 가요성임프린팅주형필름은임프린팅세그먼트들을갖는다. 임프린팅세그먼트들중 적어도하나는작업영역내에위치된다. 작업물은대응하는임프린팅세그먼트를통하여작업영역내에서임프린트되도록적응된다. 가요성임프린팅주형필름은부분적으로구동롤러세트에감기고, 작업영역내에위치된임프린팅세그먼트는구동롤러세트로부터펼쳐지고, 구동롤러세트는가요성의임프린팅주형필름을구동시키도록적응되어서, 구동롤러세트에감긴임프린팅세그먼트들중 적어도다른하나가구동롤러세트로부터펼쳐져서작업영역으로이동된다. 그외에, 임프린팅방법이또한제공된다.

摘要翻译： 压印设备包括第一输送单元，柔性印刷膜和一组驱动辊。 第一输送单元适于将工件输送到压印设备的工作区域。 柔性印刷模印膜具有压印段。 至少一个压印段位于工作区内。 工件适合通过相应的压印段压印在工作区域中。 柔性印刷机模具膜部分卷绕在驱动辊组上，位于工作区内的压印段从驱动辊组展开，驱动辊组适于驱动柔性压印模具膜， 至少另一个伤口压印段从驱动辊组展开并移动到工作区域。 另外，还提供了压印方法。

公开(公告)号：KR101688128B1

公开(公告)日：2016-12-20

申请号：KR1020117024326

申请日：2010-03-17

申请人： 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디

发明人： 가지야마고이치

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/7055 ,  G03F7/70358

摘要： 본발명은피노광체(8)을화살표 A 방향으로반송하면서, 포토마스크(11)의제1 마스크패턴군(12)을사용하여실시하는피노광체(8)의제1 노광영역(9)에대한노광이종료되면, 셔터(5)를피노광체(8)의반송속도로동기하여이동시켜광원광을차단하고, 피노광체(8)을셔터(5)의이동중에이동한거리만큼피노광체(8)를화살표 D 방향으로되돌아가게하는동시에, 마스크패턴(11)을이동하여제2 마스크패턴군(13)으로교체하고, 포토마스크(11)의마스크패턴군의교체가종료되면, 피노광체(8)의화살표 A 방향으로의반송을재개하는동시에, 셔터 (5)를피노광체 (8)의반송속도로동기하여화살표 B 방향으로이동시켜광원광의차단을해제하고, 제2 노광영역(10)에대한노광을실행한다. 이에의하여동일한피노광체에대한복수종류의노광패턴의형성효율을향상시킨다.

摘要翻译： 在本发明中，当通过使用光掩模的第一掩模图案组来曝光的被摄体的第一曝光区域上的曝光完成时，与所述被摄体的传送速度同步地移动快门以使其被关闭 关闭源光，被曝光的被摄体在快门移动时返回待曝光的物体移动的距离，通过移动光掩模将掩模图案组切换到第二掩模图案组。 当光掩模的掩模图案组的切换完成时，重新开始要暴露的被摄体的传送。 同时，与要曝光的被摄体的传送速度同步地移动快门以释放源光源的切断，并且执行第二曝光区域的曝光。

公开(公告)号：KR101681858B1

公开(公告)日：2016-12-12

申请号：KR1020157016970

申请日：2008-12-18

申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하

发明人： 라이,미셀 ,  데귄테르,마르크스 ,  파트라,미셀 ,  방글러,요하네스 ,  마울,만프레드 ,  피올카,다미안 ,  바이스,군둘라

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/702 ,  G02B5/09 ,  G02B26/105 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70583

摘要： 마이크로리소그래피용투사노광장치는오브젝트면에서오브젝트필드의오브젝트필드포인트를조명하는조명광학기기를포함한다. 조명광학기기는각각의오브젝트필드의오브젝트필드포인트에대해서, 오브젝트필드포인트에연관된출사동공을가지며, sin(γ)은출사동공의가장큰 한계각도값이며, 조명광학기기는오브젝트필드포인트에연관된출사동공의강도분포를조절하기위한다수의미러(38s)를포함하는다중미러어레이(38)를포함한다. 조명광학기기는다중미러어레이(38)의조명을일시적으로안정화시키기위한적어도하나의광학시스템(33a, 33b, 33c; 3d; 400; 822; 903; 1010; 1103; 1203)을더 포함하므로, 각각의오브젝트필드포인트에대해서, 연관된출사동공의강도분포는, 연관된출사동공의가장큰 한계각도값sin(γ)을고려하여중심각도값 sin(β)이 2% 보다적게표시된경우, 및/또는타원율이 2% 보다적을경우, 및/또는폴 밸런스가 2% 보다적을경우에, 연관된출사동공의원하는강도분포로부터벗어난다.

摘要翻译： 公开了一种用于微光刻的投影曝光装置，包括用于照射物平面中的物场的对象场点的照明光学装置。 对于物场的每个物场点，照明光学器件具有与对象点相关联的出射光瞳，其中sin（γ）是出射光瞳的最大边缘角度值。 照明光学器件包括多镜阵列，其包括多个反射镜以调整与对象场点相关联的出射光瞳中的强度分布。 照明光学器件还包含至少一个光学系统，用于在时间上稳定多镜阵列的照明，使得对于每个物体场点，相关出射光瞳中的强度分布偏离相关出射光瞳中的第二调整的强度分布 在内部和外部的至少一个中小于0.1; 或外部的。

公开(公告)号：KR101648234B1

公开(公告)日：2016-08-12

申请号：KR1020117016770

申请日：2009-12-18

申请人： 가부시키가이샤 니콘

发明人： 시바자키유이치

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/7055 ,  G01B11/002 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/708 ,  Y10T29/49826

摘要： 노광스테이션 (200) 에서는, 웨이퍼를유지하는스테이지 (WFS1) 의위치정보는, 계측아암 (71A) 을포함하는제 1 미동스테이지위치계측계에의해계측되고, 계측스테이션 (300) 에서는, 웨이퍼를유지하는스테이지 (WFS2) 의위치정보는, 계측아암 (71B) 을포함하는제 2 미동스테이지위치계측계에의해계측된다. 노광장치 (100) 는, 스테이지 (WFS2) 가계측스테이션 (300) 으로부터노광스테이션 (200) 로반송될때, 이스테이지 (WFS2) 의위치정보를계측할수 있는제 3 미동스테이지계측계를갖는다. 제 3 미동스테이지계측계는복수의 Y헤드 (96, 97) 를포함하는인코더시스템및 레이저간섭계 (76a 내지 76d) 를포함하는레이저간섭계시스템을포함한다.

摘要翻译： 在曝光站中，通过包括测量臂的第一细微移动台位置测量系统测量保持晶片的台的位置信息，并且在测量站中，通过第二细微移动来测量保持晶片的台的位置信息 舞台位置测量系统包括另一个测量臂。 曝光装置具有第三细微移动台位置测量系统，其可以测量当从载物台到曝光站时载物台的位置信息。 第三精细运动台测量系统包括包括多个Y头的编码器系统和包括激光干涉仪的激光干涉仪系统。

公开(公告)号：KR101633317B1

公开(公告)日：2016-06-24

申请号：KR1020130036122

申请日：2013-04-03

申请人： 캐논 가부시끼가이샤

发明人： 사이토노부유키

IPC分类号： G03F7/207 ,  G03F7/20 ,  G02B27/40 ,  G02B27/16

CPC分类号： G03F7/70133 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/7055

摘要： 조명광학계는, 피조명면의조명범위를규정하는조리개; 상기조리개의개구의화상을상기피조명면에결상하는촬상광학계; 상기피조명면의목표조명범위의크기 B를사용하는값(B÷β)에추가된오프셋량δ를취득하는취득부 ; 및식 A=B÷β+δ를만족하도록상기취득된오프셋량δ에의거하여상기개구의크기 A 를조정하는조정부를구비하고, 상기β 는상기촬상광학계의결상배율이고, 상기취득된오프셋량δ은상기피조명면의상기목표조명범위의상기크기 B 에따라다르다.

公开(公告)号：KR1020160022357A

公开(公告)日：2016-02-29

申请号：KR1020167001430

申请日：2014-06-17

申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

发明人： 니키펠로브안드레이 ,  프린스올라브 ,  드브리스고세 ,  룹스트라에릭 ,  바닌바딤 ,  드야거피터 ,  돈커릴포 ,  니엔후이스한-광 ,  크라징아보르게르트 ,  엥엘런바우터르 ,  라위턴오트헤르 ,  아케르만요한네스 ,  흐리밍크레오나르두스 ,  리트비넨코블라디미르

IPC分类号： G03F7/20 ,  G21K1/10 ,  H01S3/00 ,  H01S3/09 ,  H01L21/027 ,  G01J1/04

CPC分类号： G03F7/70033 ,  G01J1/0407 ,  G01J1/0418 ,  G01J1/26 ,  G01J1/429 ,  G02B1/06 ,  G02B5/205 ,  G02B26/023 ,  G03F7/70008 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/7085 ,  G21K1/10 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0085 ,  H01S3/0903 ,  H05H7/04

摘要： 자유전자레이저를사용하여 EUV 방사선을생성하는단계; 상기 EUV 방사선을리소그래피기판상에투영하는리소그래피장치로상기 EUV 방사선을전달하는단계; 및피드백-기초제어루프를사용하여상기자유전자레이저를모니터링하고모니터링에상응하여상기자유전자레이저의동작을조절함으로써, 상기리소그래피기판에전달된 EUV 방사선의파워의요동(fluctuation)을감소시키는단계를포함하는, 리소그래피기판의패터닝방법.

公开(公告)号：KR1020130071179A

公开(公告)日：2013-06-28

申请号：KR1020110138548

申请日：2011-12-20

申请人： 성낙훈

发明人： 성낙훈

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC分类号： H01L21/0275 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/7055

摘要： PURPOSE: A vertical light irradiation apparatus is provided to reduce expensive equipment cost by utilizing a physical function of a lenticular lens. CONSTITUTION: A light source(2) emits light. A lenticular(5) is located in a lower part of the light source. The lenticular is configured to connect the central region of the lenticular lens. The lenticular guides vertical light made in the central region of the lenticular lens. A Fresnel lens is located in between the light source and lenticular.

摘要翻译： 目的：提供垂直光照射装置，通过利用双凸透镜的物理功能来降低昂贵的设备成本。 构成：光源（2）发光。 透镜（5）位于光源的下部。 透镜被配置为连接双凸透镜的中心区域。 透镜引导在双凸透镜的中心区域中形成的垂直光。 菲涅尔透镜位于光源和透镜之间。

公开(公告)号：KR1020120113434A

公开(公告)日：2012-10-15

申请号：KR1020110031140

申请日：2011-04-05

申请人： 삼성디스플레이 주식회사

发明人： 김창훈 ,  유홍석 ,  서갑종

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/7055 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/2006 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/0275

摘要： PURPOSE: A blind, an exposure device including the same, and a method for driving the exposure device are provided to simplify operational processes and to prevent gap smudge from being generated on a substrate. CONSTITUTION: A blind(530) includes a shielding plate and a first adjusting part. The shielding plate shields light in an exposure process. Alignment marks(546a, 546b) are formed at both end parts of the shielding plate. The first adjusting part is fixed to the first end part of the shielding plate to adjust the position of the shielding plate. The shielding plate includes transparent window parts(536a, 536b), and each alignment mark is formed at each window part. The first adjusting part rotates the shielding plate to adjust the tilted angle of the shielding plate.

摘要翻译： 目的：提供一种盲目曝光装置，包括其的曝光装置和用于驱动曝光装置的方法，以简化操作过程并防止在基板上产生间隙污迹。 构成：盲板（530）包括屏蔽板和第一调节部件。 屏蔽板在曝光过程中屏蔽光线。 对准标记（546a，546b）形成在屏蔽板的两个端部处。 第一调整部固定在屏蔽板的第一端部，以调整屏蔽板的位置。 遮蔽板包括透明窗部分（536a，536b），并且每个对准标记形成在每个窗口部分处。 第一调节部使遮蔽板旋转，调整遮蔽板的倾斜角度。