公开(公告)号：TW201243073A

公开(公告)日：2012-11-01

申请号：TW101126617

申请日：2004-06-16

Applicant: 半導體能源研究所股份有限公司

Inventor： 坂田淳一郎

IPC: C23C ,  H05B

CPC classification number: H01L21/6715 ,  C23C14/243 ,  C23C14/50 ,  C23C14/564 ,  C23C14/568

Abstract: 本發明的目的是提供一種蒸氣沉積裝置，該裝置藉由提高EL材料的利用效率而減少製造成本，並在形成EL層的產量或均勻性上是優越的。本發明並且提供一種蒸氣沉積方法。本發明的特徵是在蒸氣沉積室內，使安裝了儲藏蒸發材料的容器的蒸發源托架104a、105a相對於基底101，只向一個方向(例如Z軸方向)以一定速度移動(或來回移動)，而且，在和蒸發源托架的移動方向正交的方向(例如X軸方向)上以一定間隔搬運基底。

Abstract in simplified Chinese: 本发明的目的是提供一种蒸气沉积设备，该设备借由提高EL材料的利用效率而减少制造成本，并在形成EL层的产量或均匀性上是优越的。本发明并且提供一种蒸气沉积方法。本发明的特征是在蒸气沉积室内，使安装了储藏蒸发材料的容器的蒸发源托架104a、105a相对于基底101，只向一个方向(例如Z轴方向)以一定速度移动(或来回移动)，而且，在和蒸发源托架的移动方向正交的方向(例如X轴方向)上以一定间隔搬运基底。

公开(公告)号：TW201241957A

公开(公告)日：2012-10-16

申请号：TW100148053

申请日：2011-12-22

Applicant: 佳能安內華股份有限公司

Inventor： 恆川孝二

IPC: H01L ,  C23C

CPC classification number: C23C14/14 ,  C23C14/067 ,  C23C14/081 ,  C23C14/34 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/345 ,  C23C14/3464 ,  C23C14/505 ,  C23C14/568 ,  C23C14/5806 ,  C23C14/5853 ,  C23C28/321 ,  C23C28/322 ,  C23C28/34 ,  C23C28/345 ,  H01F41/18 ,  H01J37/32899 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3411 ,  H01J37/3417 ,  H01L21/67207 ,  H01L43/08 ,  H01L43/12

Abstract: 本發明係一種成膜裝置,其包含:L/UL室;H室,其與L/UL室連通;SP室,其與H室連通,且劃分成獨立之第一空間與第二空間;成膜單元,其分別配置於第一空間及第二空間;真空排氣裝置,其獨立地設置於L/UL室、H室、第一空間、及第二空間,且用以分別對該等之內部進行真空排氣;4條線路,其等貫通L/UL室及H室,且包含配置於第一空間及第二空間之各個去路與返路;搬送裝置,其將被處理體沿著去路或返路而運送;及移動機構,其於第一空間及第二空間之內部使搬送裝置自去路向返路移動。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系一种成膜设备,其包含:L/UL室;H室,其与L/UL室连通;SP室,其与H室连通,且划分成独立之第一空间与第二空间;成膜单元,其分别配置于第一空间及第二空间;真空排气设备,其独立地设置于L/UL室、H室、第一空间、及第二空间,且用以分别对该等之内部进行真空排气;4条线路,其等贯通L/UL室及H室,且包含配置于第一空间及第二空间之各个去路与返路;搬送设备,其将被处理体沿着去路或返路而运送;及移动机构,其于第一空间及第二空间之内部使搬送设备自去路向返路移动。

公开(公告)号：TW201239131A

公开(公告)日：2012-10-01

申请号：TW100109636

申请日：2011-03-22

Applicant: 財團法人工業技術研究院

Inventor： 杜陳忠 ,  江銘通 ,  梁沐旺 ,  陳冠州 ,  沈添沐 ,  何榮振

IPC: C23C

CPC classification number: C23C14/564 ,  C23C14/568 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/54 ,  Y10T74/19642

Abstract: 一種傳動機構及應用其之鍍膜裝置,鍍膜裝置包含一腔室提供活性物種,於腔室內對稱設有複數傳動機構,傳動機構包括一轉軸、一傳動輪、複數滑件、一第一彈性件、一第二彈性件及一封套元件,轉軸具有一錐形軸向端部,傳動輪具有一軸孔,轉軸之錐形軸向端部同軸穿設於軸孔,複數滑件以傳動輪軸心為中心沿傳動輪徑向放射狀設置於傳動輪,第一彈性件套設於複數滑件外,第二彈性件係相對於該第一彈性件往該第一軸向端部之方向而套設於傳動輪外,封套元件具有一開口;傳動輪往復移動時,可驅動滑件沿傳動輪徑向滑移,進而改變第一彈性件外徑尺寸,使封套元件開口形成開放或封閉狀態。

Abstract in simplified Chinese: 一种传动机构及应用其之镀膜设备,镀膜设备包含一腔室提供活性物种,于腔室内对称设有复数传动机构,传动机构包括一转轴、一传动轮、复数滑件、一第一弹性件、一第二弹性件及一封套组件,转轴具有一锥形轴向端部,传动轮具有一轴孔,转轴之锥形轴向端部同轴穿设于轴孔,复数滑件以传动轮轴心为中心沿传动轮径向放射状设置于传动轮,第一弹性件套设于复数滑件外,第二弹性件系相对于该第一弹性件往该第一轴向端部之方向而套设于传动轮外,封套组件具有一开口;传动轮往复移动时,可驱动滑件沿传动轮径向滑移,进而改变第一弹性件外径尺寸,使封套组件开口形成开放或封闭状态。

公开(公告)号：TW201239117A

公开(公告)日：2012-10-01

申请号：TW100110978

申请日：2011-03-30

Applicant: 鴻海精密工業股份有限公司

Inventor： 張新倍 ,  陳文榮 ,  蔣煥梧 ,  陳正士 ,  胡智傑

IPC: C23C ,  A61L

CPC classification number: C23C14/025 ,  C23C14/165 ,  C23C14/568 ,  C23C28/023 ,  C23C28/42 ,  Y10T428/12806

Abstract: 本發明提供一種具有持久抗菌效果的抗菌鍍膜件,其包括基材,形成於基材表面的抗菌層及形成於抗菌層表面的防氧化層,該抗菌層包括複數銅膜和複數鈦膜,且該複數銅膜和複數鈦膜為交替排布。本發明抗菌鍍膜件的抗菌層中的銅膜起抗菌作用,鈦膜可起防氧化的作用,同時鈦膜可緩釋抗菌層中銅離子的溶出,使抗菌層具有長效的抗菌效果,相應延長抗菌鍍膜件的使用壽命。此外,本發明還提供一種所述抗菌鍍膜件的製備方法。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种具有持久抗菌效果的抗菌镀膜件,其包括基材,形成于基材表面的抗菌层及形成于抗菌层表面的防氧化层,该抗菌层包括复数铜膜和复数钛膜,且该复数铜膜和复数钛膜为交替排布。本发明抗菌镀膜件的抗菌层中的铜膜起抗菌作用,钛膜可起防氧化的作用,同时钛膜可缓释抗菌层中铜离子的溶出,使抗菌层具有长效的抗菌效果,相应延长抗菌镀膜件的使用寿命。此外,本发明还提供一种所述抗菌镀膜件的制备方法。

公开(公告)号：TW201230203A

公开(公告)日：2012-07-16

申请号：TW100132420

申请日：2011-09-08

Applicant: 半導體能源研究所股份有限公司

Inventor： 山崎舜平

IPC: H01L ,  C23C

CPC classification number: H01L21/477 ,  C23C14/08 ,  C23C14/086 ,  C23C14/34 ,  C23C14/564 ,  C23C14/568 ,  C23C16/40 ,  C23C16/407 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/50 ,  H01L21/02422 ,  H01L21/02488 ,  H01L21/02554 ,  H01L21/02565 ,  H01L21/02631 ,  H01L22/12 ,  H01L29/24 ,  H01L29/66969 ,  H01L29/7869 ,  H01L29/78696

Abstract: 以沉積裝置形成氧化物半導體層,該沉積裝置包括用於基板的轉移機構;第一沉積室,其中沉積氧化物半導體;以及第一加熱室,其中執行第一熱處理。該第一沉積室和該第一加熱室係沿著由該轉移機構所轉移的該基板之路徑予以連續設置。該基板被支托,以便由該基板的沉積表面與垂直方向所形成之角度係在大於或等於1�及小於或等於30�的範圍中。在未暴露至空氣之下,在該第一膜形成於該基板之上之後可執行該第一熱處理。

Abstract in simplified Chinese: 以沉积设备形成氧化物半导体层,该沉积设备包括用于基板的转移机构;第一沉积室,其中沉积氧化物半导体;以及第一加热室,其中运行第一热处理。该第一沉积室和该第一加热室系沿着由该转移机构所转移的该基板之路径予以连续设置。该基板被支托,以便由该基板的沉积表面与垂直方向所形成之角度系在大于或等于1�及小于或等于30�的范围中。在未暴露至空气之下,在该第一膜形成于该基板之上之后可运行该第一热处理。

公开(公告)号：TWI359204B

公开(公告)日：2012-03-01

申请号：TW098129689

申请日：2009-09-03

Applicant: 新柯隆股份有限公司

Inventor： 鹽野一郎 ,  長江亦周 ,  姜友松 ,  菅原卓哉

IPC: C23C

CPC classification number: C23C14/022 ,  C03C17/42 ,  C03C19/00 ,  C03C2217/77 ,  C23C14/0078 ,  C23C14/3464 ,  C23C14/505 ,  C23C14/568 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32422 ,  H01J37/32513 ,  H01J37/32633 ,  H01J37/32761 ,  H01J37/34

Abstract: 本發明的成膜方法包括：一第一照射工程，對基板(101)的表面照射具有能量的粒子；一第一成膜工程，對上述第一照射工程後的基板(101)的表面，使用乾式法形成第一膜(103)；以及一第二成膜工程，在第一膜(103)的表面，形成具有撥油性的第二膜(105)。本發明提供的成膜方法可製造撥油性基材，其在實用上具備耐磨耗性。

Abstract in simplified Chinese: 本发明的成膜方法包括：一第一照射工程，对基板(101)的表面照射具有能量的粒子；一第一成膜工程，对上述第一照射工程后的基板(101)的表面，使用干式法形成第一膜(103)；以及一第二成膜工程，在第一膜(103)的表面，形成具有拨油性的第二膜(105)。本发明提供的成膜方法可制造拨油性基材，其在实用上具备耐磨耗性。

公开(公告)号：TW201209212A

公开(公告)日：2012-03-01

申请号：TW099127360

申请日：2010-08-16

Applicant: 鴻海精密工業股份有限公司

Inventor： 裴紹凱

IPC: C23C ,  B05C

CPC classification number: C23C14/50 ,  C23C14/021 ,  C23C14/568

Abstract: 一種鍍膜設備包括：承載裝置，形成有第一收容槽及第二收容槽；基座，設置在第一收容槽內，用於支撐至少一基材，基座底部設置有一凹槽；清洗裝置和加熱裝置，固定在承載裝置上；滾筒裝置，設置在清洗裝置與加熱裝置上方；噴液裝置，設置在滾筒裝置上方，用於提供待鍍液；驅動裝置，用於驅動基座相對第一收容槽運動並在第一收容槽內鍍第一膜層；導軌裝置，設置在第二收容槽內，用於與凹槽相互卡合；真空鍍膜裝置，收容在第二收容槽內，用於對基材鍍第二膜層；及控制裝置，用於控制對應的上述裝置根據預設程式或用戶操作完成鍍膜。

Abstract in simplified Chinese: 一种镀膜设备包括：承载设备，形成有第一收容槽及第二收容槽；基座，设置在第一收容槽内，用于支撑至少一基材，基座底部设置有一凹槽；清洗设备和加热设备，固定在承载设备上；滚筒设备，设置在清洗设备与加热设备上方；喷液设备，设置在滚筒设备上方，用于提供待镀液；驱动设备，用于驱动基座相对第一收容槽运动并在第一收容槽内镀第一膜层；导轨设备，设置在第二收容槽内，用于与凹槽相互卡合；真空镀膜设备，收容在第二收容槽内，用于对基材镀第二膜层；及控制设备，用于控制对应的上述设备根据默认进程或用户操作完成镀膜。

公开(公告)号：TW201138006A

公开(公告)日：2011-11-01

申请号：TW099144077

申请日：2010-12-15

Applicant: 普萊姆斯達太陽能公司

Inventor： 雷德 麥克斯 威廉 ,  布萊克 羅素 威登

IPC: H01L

CPC classification number: C23C14/568

Abstract: 本發明揭示一種用於一蒸氣沈積裝置之傳送器總成(100),其包含界定一經封圍的內部容積之一外殼(104)。一傳送器(102)係在該外殼內之一循環迴路路徑中被驅動。該外殼具有一頂部件(110),其在該傳送器之一上傳送腿部中界定一開啓沈積區域(112)。該傳送器包含複數個互連板條(130),而各個板條具有一各別平坦、平外表面(132)及橫向邊緣輪廓(135、136),使得在該傳送器之該上傳送腿部中,該等板條之該等外表面位於一共同水平面中並界定用於經傳送通過該蒸氣沈積裝置的一基板之一連續平坦支撐表面。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于一蒸气沉积设备之发送器总成(100),其包含界定一经封围的内部容积之一外壳(104)。一发送器(102)系在该外壳内之一循环回路路径中被驱动。该外壳具有一顶部件(110),其在该发送器之一上载送腿部中界定一开启沉积区域(112)。该发送器包含复数个互连板条(130),而各个板条具有一各别平坦、平外表面(132)及横向边缘轮廓(135、136),使得在该发送器之该上载送腿部中,该等板条之该等外表面位于一共同水平面中并界定用于经发送通过该蒸气沉积设备的一基板之一连续平坦支撑表面。

公开(公告)号：TW201134330A

公开(公告)日：2011-10-01

申请号：TW099124920

申请日：2010-07-28

Applicant: 國立大學法人 東北大學 ,  東京威力科創股份有限公司

Inventor： 大見忠弘 ,  後藤哲也 ,  松岡孝明

IPC: H05K ,  C23C

CPC classification number: H05K3/16 ,  C23C14/022 ,  C23C14/024 ,  C23C14/046 ,  C23C14/165 ,  C23C14/352 ,  C23C14/568 ,  H05K3/381 ,  H05K3/388 ,  H05K2203/095 ,  H05K2203/1572

Abstract: 本發明之目的在於提供一種電路板電漿處理裝置,其在電路板的製造步驟中採用濺鍍處理程序,以提高產能並降低運轉成本。本發明之電路板電漿處理裝置,在同一電漿處理室內,具備電漿源,並具備對被處理基板進行前處理的表面處理部,以及形成由複數膜層所構成之種晶層的複數濺鍍成膜部。

Abstract in simplified Chinese: 本发明之目的在于提供一种电路板等离子处理设备,其在电路板的制造步骤中采用溅镀处理进程,以提高产能并降低运转成本。本发明之电路板等离子处理设备,在同一等离子处理室内,具备等离子源,并具备对被处理基板进行前处理的表面处理部,以及形成由复数膜层所构成之种晶层的复数溅镀成膜部。

公开(公告)号：TW201123472A

公开(公告)日：2011-07-01

申请号：TW099141852

申请日：2010-12-02

Applicant: DMS有限公司

Inventor： 金宇三 ,  金永君

IPC: H01L

CPC classification number: H01L31/18 ,  C23C14/34 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/568 ,  C23C14/5806 ,  C23C14/5893 ,  H01J37/32752 ,  H01J37/34 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/6776 ,  H01L31/0322 ,  H01L31/1876 ,  Y02E10/541 ,  Y02P70/521

Abstract: 　　本發明公開了一種製備太陽能電池的同軸系統。所述的軸軸系統包括一個輸入底板的底板裝載區，一個連續地將底板上表面上的光吸收層沉澱掉的沉澱區，以及一個對沉澱區送來的底板進行熱處理的熱處理區。所述的底板裝載區和熱處理區是連續地安裝在一個一體化內腔中的內部間隔中。

Abstract in simplified Chinese: 　　本发明公开了一种制备太阳能电池的同轴系统。所述的轴轴系统包括一个输入底板的底板装载区，一个连续地将底板上表面上的光吸收层沉淀掉的沉淀区，以及一个对沉淀区送来的底板进行热处理的热处理区。所述的底板装载区和热处理区是连续地安装在一个一体化内腔中的内部间隔中。